相移掩膜半成品、相移掩膜制造方法及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN106353963A

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201610520850.3

    申请日:2016-07-05

    Abstract: 本发明提供一种具有优异的图案截面形状及优异的CD均一性且用于形成有微细图案的显示装置用相移掩膜的形成的相移掩膜半成品。设置在透明基板上的由铬类材料组成的相移膜具有:相移层;反射率降低层;金属层,其设置在相移层与反射率降低层之间,在350nm~436nm的波长区域内具有比反射率降低层的消光系数更高的消光系数;相移膜对于曝光光的透过率和相位差满足作为相移膜所必需的规定的光学特性,并且相移膜的膜表面反射率在350nm~436nm的波长区域内为10%以下。

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