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公开(公告)号：CN1940724B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200610152318.7
申请日：2006-09-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/20 , G03F7/26 , G02F1/1333
Abstract: 一种光敏性树脂组合物，其具有足够的工艺自由度，能够抑制光聚合引发剂成分升华引起的烘焙炉和光掩模等的污染，充分兼备保护膜材料所必需的密合性、透明性、耐热性和分隔物材料所必需的分辨性、压缩特性。其含有[A](a1)乙烯性不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其它乙烯性不饱和化合物的共聚物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，和[C]由下述式(1)表示的化合物组成的光聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101017323A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200610086733.7
申请日：2006-06-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a2)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是(a1)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]以乙酮，1－[9－乙基－6－(2－甲基－4－四氢呋喃甲氧基苯甲酰基)－9.H.－咔唑－3－基)－，1－(O－乙酰基肟)所代表的特定结构的放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1898291A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200580001415.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: H01L23/293 , G03F7/0007 , G03F7/038 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供固化性树脂组合物，该固化性树脂组合物可形成光学器件用保护膜，该保护膜满足所需的透明性、耐热性、表面硬度和附着性，同时即使在加热下，其耐载荷性优异且焙烘时升华物少，另外，使得在基底基板上形成的滤色片的台阶高差平坦化的性能也优异。该固化性树脂组合物含有(A)和(B)，其中所述(A)为具有2个或以上的环氧基、且通过凝胶渗透色谱测定的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)和聚苯乙烯换算数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)为1.7以下的聚合物，且(B)为与(A)成分不同的阳离子聚合性化合物。本发明还提供由该组合物形成的保护膜，以及该保护膜的形成方法。
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公开(公告)号：CN1881080A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200610093693.9
申请日：2006-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G02F1/1339
Abstract: 感光性树脂组合物，其特征在于，以含有2～20重量％的右式(1)所示的化合物的混合溶剂为溶剂，然后通过缝模涂布机在基板上涂布，式中，R1～R5各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基，n为1～6的整数。提供感光性树脂组合物溶液，其树脂的保存稳定性良好，减压干燥工序时间短，缝隙喷嘴难于干燥且涂膜表面良好，适合缝模涂布法。
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公开(公告)号：CN1757670A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510105711.6
申请日：2005-09-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种射线敏感性树脂组合物，能够制造膜厚度、分辨率、图案形状、耐热性、透明性、耐热变色性、耐溶剂性等方面优良的微型透镜，且保存稳定性也良好。射线敏感性树脂组合物特征在于包括(A)使10～50重量％的(a)含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、20～60重量％的(b)含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及5～40重量％的(c)其它聚合性不饱和化合物(其中，(a)+(b)+(c)＝100重量％)聚合所得的碱可溶性共聚物；(B)以含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物为必需成分的聚合性不饱和化合物；以及(C)光聚合引发剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1676549A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510059564.3
申请日：2005-03-29
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/06 , G03C1/835
Abstract: 本发明涉及一种含有单体混合物的共聚物的热固性组合物，上述单体混合物含有(a1)含有环氧基的不饱和化合物、(a2)放射线吸收性自由基聚合性化合物、以及(a3)具有选自聚合性不饱和羧酸和/或聚合性不饱和多元羧酸酐、或含有选自羧酸的缩醛酯结构、羧酸的酮缩醇酯结构及羧酸的叔丁酯结构中的至少1种结构的聚合性不饱和化合物。以及一种在含有(a1)成分、(a2)成分以及聚合性不饱和多元羧酸酐的单体混合物的共聚物的酸酐基中，加成乙烯基醚化合物或乙烯基硫醚化合物得到的具有羧酸的缩醛结构或硫缩醛结构的加聚物的热固性组合物。上述热固性组合物适于形成一种防晕影膜，该防晕影膜能够有效地抑制在形成固体摄像元件的彩色滤色片或显微透镜时的曝光工序中，由底层基板产生的漫反射光线，另外可见光线的透光率高且具有高耐热性。
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公开(公告)号：CN1975573B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200610171827.4
申请日：2006-07-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于含有使通过下式(2)表示的异氰酸酯化合物与(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)下式(1)表示的1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物和(a3)其它不饱和化合物的共聚物反应所得到的聚合物。式(1)中，R1表示氢原子或甲基，p是0-3的整数，q是1-12的整数。式(2)中，R2表示氢原子或甲基，n是1-12的整数。本发明提供高敏感性和高分辨率，并且即使是低曝光量也能得到充分的隔离物形状，且可以形成弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性、剥离液耐性等都优异的液晶显示元件用隔离物的放射线敏感性树脂组合物。式(1)式(2)
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公开(公告)号：CN100576075C
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200510008541.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有：[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]以由下列式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂；(见右式)式中，R1表示烷基；R2和R3表示氢原子、烷基或苄基；R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。
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公开(公告)号：CN100506877C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200580001415.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: H01L23/293 , G03F7/0007 , G03F7/038 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供固化性树脂组合物，该固化性树脂组合物可形成光学器件用保护膜，该保护膜满足所需的透明性、耐热性、表面硬度和附着性，同时即使在加热下，其耐载荷性优异且焙烘时升华物少，另外，使得在基底基板上形成的滤色片的台阶高差平坦化的性能也优异。该固化性树脂组合物含有(A)和(B)，其中所述(A)为具有2个或以上的环氧基、且通过凝胶渗透色谱测定的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)和聚苯乙烯换算数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)为1.7以下的聚合物，且(B)为与(A)成分不同的阳离子聚合性化合物。本发明还提供由该组合物形成的保护膜，以及该保护膜的形成方法。
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公开(公告)号：CN100500768C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200510059564.3
申请日：2005-03-29
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/06 , G03C1/835
Abstract: 本发明涉及一种含有单体混合物的共聚物的热固性组合物，上述单体混合物含有(a1)含有环氧基的不饱和化合物、(a2)放射线吸收性自由基聚合性化合物、以及(a3)具有选自聚合性不饱和羧酸和/或聚合性不饱和多元羧酸酐、或含有选自羧酸的缩醛酯结构、羧酸的酮缩醇酯结构及羧酸的叔丁酯结构中的至少1种结构的聚合性不饱和化合物。以及一种在含有(a1)成分、(a2)成分以及聚合性不饱和多元羧酸酐的单体混合物的共聚物的酸酐基中，加成乙烯基醚化合物或乙烯基硫醚化合物得到的具有羧酸的缩醛结构或硫缩醛结构的加聚物的热固性组合物。上述热固性组合物适于形成一种防晕影膜，该防晕影膜能够有效地抑制在形成固体摄像元件的彩色滤色片或显微透镜时的曝光工序中，由底层基板产生的漫反射光线，另外可见光线的透光率高且具有高耐热性。
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