硬质被膜和硬质被膜被覆构件

    公开(公告)号:CN108138306B

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201580082833.X

    申请日:2015-09-04

    Inventor: 樱井正俊 王媺

    Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)采用物理蒸镀法将A层(34)与使B层(36)和C层(38)以纳米级的厚度交替层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5~20μm的总膜厚的方式构成,A层(34)为组成式由[Al1‑W‑XCrW(SiC)X]N表示、原子比W由0.20~0.80表示、原子比X由0.01~0.20表示的AlCr(SiC)氮化物,具有50~1000nm的厚度,B层(36)为组成式由[Ti1‑YAlY]N表示、原子比Y由0.30~0.85表示的TiAl氮化物,具有1~100nm的厚度,C层(38)为组成式由[Ti1‑Z(SiC)Z]N表示、原子比Z由0.05~0.45表示的Ti(SiC)氮化物,具有1~100nm的厚度,纳米层交替层(40)具有50~1000nm的厚度。

    硬质被膜和硬质被膜被覆构件

    公开(公告)号:CN109937268A

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201680090364.0

    申请日:2016-10-25

    Inventor: 樱井正俊 王媺

    Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)是采用物理蒸镀法将A层(34)、B层(36)和将具有与A层(34)或B层(36)相同的组成的纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)以纳米级的厚度交替层交替地层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5~20μm的膜厚的方式构成的,A层(34)的组成式为(AlaTibCrcαd)N,具有0.5~1000nm的厚度,B层(36)的组成式为(AleTifCrgβh)CXN1-X,具有0.5~1000nm的厚度,纳米层交替层(40)具有1~1000nm的厚度,C层(39)的组成式为[AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y,纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)具有0.5~500nm的厚度。

    硬质多层涂层,和包括该硬质多层涂层的硬质多层涂覆工具

    公开(公告)号:CN1872536B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200610087716.5

    申请日:2006-05-31

    Abstract: 一种被布置在主体上的硬质多层涂层,包括:(a)与主体保持接触布置的第一涂层,第一涂层基本上由TiAlCrX1-aNa(其中“X”表示碳和氧的其中一种,而“a”表示满足0.5≤a≤1的混合晶体率)构成;(b)布置在第一涂层上的第二涂层,第二涂层由基本上由TiAlCrX1-bNb(其中“X”表示碳和氧的其中一种,而“b”表示满足0.5≤b≤1的混合晶体率)和TiAl(SiC)X1-cNc(其中“X”表示碳和氧的其中一种,而“c”表示满足0.5≤c≤1的混合晶体率)构成的混合物层提供,或由包括基本上由TiAlCrX1-bNb构成的第一分层和基本上由TiAl(SiC)X1-cNc构成的第二分层的多层提供,第一和第二分层彼此交替重叠;和(c)布置在第二涂层上并且构成硬质多层涂层或最外层的第三涂层,第三涂层基本上由TiAl(SiC)X1-dNd(其中“X”表示碳和氧的其中一种,而“d”表示满足0.5≤d≤1的混合晶体率)构成。

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