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公开(公告)号：CN112543818A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201880096119.X
申请日：2018-08-01
Applicant: OSG株式会社
Inventor： 王媺
Abstract: 通过将A组成(AlCrSiα的氮化物)、B组成(AlTiSiβ的氮化物)和C组成(AlCr(SiC)γ的氮化物)中的一种的单一组成层的A层(32)与将A组成、B组成和C组成的纳米层(纳米层A层(32n)、纳米层B层(34n)、纳米层C层(36n))中的两种交替地层叠而成的两种纳米层交替层(38、40)分别以规定的膜厚交替地层叠，即使在例如对于钛合金的切削加工中也可得到优异的耐久性等可得到优异的耐磨性、韧性、润滑性和耐熔敷性。由此，除了钛合金外，例如在对于碳素钢、不锈钢、铸铁、合金钢等各种被切削材料的切削加工中或者在高速加工和干式加工等严酷的加工条件下，借由高韧性而抑制硬质被膜的破裂和剥离，从而能够实现工具的长寿命化。
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公开(公告)号：CN108138305A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201580082832.5
申请日：2015-09-04
Applicant: OSG株式会社
Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)是采用物理蒸镀法将A层(34)与使B层(36)和C层(38)以纳米级的厚度交替地层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5～20μm的总膜厚的方式构成的，A层(34)为组成式由[Al1-UCrU]N表示、原子比U由0.20～0.80表示的AlCr氮化物，具有50～1000nm的厚度，B层(36)为组成式由[Ti1-WAlW]N表示、原子比W由0.30～0.85表示的TiAl氮化物，具有1～100nm的厚度，C层(38)为组成式由[Ti1-YSiY]N表示、原子比Y由0.05～0.45表示的TiSi氮化物，具有1～100nm的厚度，纳米层交替层(40)具有50～1000nm的厚度。
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公开(公告)号：CN112840062B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201880096109.6
申请日：2018-08-01
Applicant: OSG株式会社
Inventor： 王媺
Abstract: 通过将A组成(AlCrSiα的氮化物)、B组成(CrBSiβ的氮化物)和C组成(AlCr(SiC)γ的氮化物)中的一种的单一组成层的A层(32)与将A组成、B组成和C组成的纳米层(纳米层A层(32n)、纳米层B层(34n)、纳米层C层(36n))中的两种交替地层叠而成的两种纳米层交替层(38、40)分别以规定的膜厚交替地层叠，即使在例如对于钛合金的切削加工中也可得到优异的耐久性等可得到优异的耐磨性、韧性、润滑性和耐熔敷性。由此，除了钛合金外，例如在对于碳素钢、不锈钢、铸铁、合金钢等各种被切削材料的切削加工中或者在高速加工和干式加工等严酷的加工条件下，借由高韧性而抑制硬质被膜的破裂和剥离，从而能够实现工具的长寿命化。
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公开(公告)号：CN112840062A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201880096109.6
申请日：2018-08-01
Applicant: OSG株式会社
Inventor： 王媺
Abstract: 通过将A组成(AlCrSiα的氮化物)、B组成(CrBSiβ的氮化物)和C组成(AlCr(SiC)γ的氮化物)中的一种的单一组成层的A层(32)与将A组成、B组成和C组成的纳米层(纳米层A层(32n)、纳米层B层(34n)、纳米层C层(36n))中的两种交替地层叠而成的两种纳米层交替层(38、40)分别以规定的膜厚交替地层叠，即使在例如对于钛合金的切削加工中也可得到优异的耐久性等可得到优异的耐磨性、韧性、润滑性和耐熔敷性。由此，除了钛合金外，例如在对于碳素钢、不锈钢、铸铁、合金钢等各种被切削材料的切削加工中或者在高速加工和干式加工等严酷的加工条件下，借由高韧性而抑制硬质被膜的破裂和剥离，从而能够实现工具的长寿命化。
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公开(公告)号：CN112601833A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201880096117.0
申请日：2018-08-01
Applicant: OSG株式会社
Abstract: 通过将A层(32)与两种纳米层交替层(38、40)分别以规定的膜厚交替地层叠，得到优异的耐磨性、韧性、润滑性和耐熔敷性；该A层(32)为A组成(AlCrα的氮化物)、B组成(AlTiCrβ的氮化物)和C组成(AlCr(SiC)γ的氮化物)中的一种的单一组成层，该两种纳米层交替层(38、40)是将A组成、B组成和C组成的纳米层(纳米层A层(32n)、纳米层B层(34n)、纳米层C层(36n))中的两种交替地层叠而成。由此，例如在对于合金工具钢、不锈钢、碳素钢、铸铁、合金钢等各种被切削材料的切削加工中或者在高速加工和干式加工等严酷的加工条件下，能够实现工具的长寿命化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108138306B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201580082833.X
申请日：2015-09-04
Applicant: OSG株式会社
Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)采用物理蒸镀法将A层(34)与使B层(36)和C层(38)以纳米级的厚度交替层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5～20μm的总膜厚的方式构成，A层(34)为组成式由[Al1‑W‑XCrW(SiC)X]N表示、原子比W由0.20～0.80表示、原子比X由0.01～0.20表示的AlCr(SiC)氮化物，具有50～1000nm的厚度，B层(36)为组成式由[Ti1‑YAlY]N表示、原子比Y由0.30～0.85表示的TiAl氮化物，具有1～100nm的厚度，C层(38)为组成式由[Ti1‑Z(SiC)Z]N表示、原子比Z由0.05～0.45表示的Ti(SiC)氮化物，具有1～100nm的厚度，纳米层交替层(40)具有50～1000nm的厚度。
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公开(公告)号：CN109937268A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201680090364.0
申请日：2016-10-25
Applicant: OSG株式会社
IPC: C23C14/06
Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)是采用物理蒸镀法将A层(34)、B层(36)和将具有与A层(34)或B层(36)相同的组成的纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)以纳米级的厚度交替层交替地层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5～20μm的膜厚的方式构成的，A层(34)的组成式为(AlaTibCrcαd)N，具有0.5～1000nm的厚度，B层(36)的组成式为(AleTifCrgβh)CXN1-X，具有0.5～1000nm的厚度，纳米层交替层(40)具有1～1000nm的厚度，C层(39)的组成式为[AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y，纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)具有0.5～500nm的厚度。
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公开(公告)号：CN105051245A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201380075029.X
申请日：2013-03-28
Applicant: OSG株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: C23C14/08
CPC classification number: C23C14/0676 , C23C14/06 , C23C14/0635 , C23C14/0641
Abstract: 本发明提供一种兼备优异的耐磨损性及耐熔敷性和平滑性的加工工具用硬质被膜。根据本实施例的固着于滚压丝锥(10)的硬质被膜(30)，以具有NaCl型晶体结构的相为主相的TiCrMoWV的氧碳化物、氧氮化物、或氧碳氮化物因具有氧的导入产生的100nm以下的微细晶体，所以硬质被膜的表面极平滑，获得低摩擦系数，因此，可以兼备耐磨损性及耐熔敷性和平滑性，不仅耐磨损性及耐熔敷性，且平滑性也优异，低摩擦系数低，所以工具寿命增加。
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公开(公告)号：CN112543818B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN201880096119.X
申请日：2018-08-01
Applicant: OSG株式会社
Inventor： 王媺
Abstract: 通过将A组成(AlCrSiα的氮化物)、B组成(AlTiSiβ的氮化物)和C组成(AlCr(SiC)γ的氮化物)中的一种的单一组成层的A层(32)与将A组成、B组成和C组成的纳米层(纳米层A层(32n)、纳米层B层(34n)、纳米层C层(36n))中的两种交替地层叠而成的两种纳米层交替层(38、40)分别以规定的膜厚交替地层叠，即使在例如对于钛合金的切削加工中也可得到优异的耐久性等可得到优异的耐磨性、韧性、润滑性和耐熔敷性。由此，除了钛合金外，例如在对于碳素钢、不锈钢、铸铁、合金钢等各种被切削材料的切削加工中或者在高速加工和干式加工等严酷的加工条件下，借由高韧性而抑制硬质被膜的破裂和剥离，从而能够实现工具的长寿命化。
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公开(公告)号：CN109937268B
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN201680090364.0
申请日：2016-10-25
Applicant: OSG株式会社
IPC: C23C14/06
Abstract: 在工具母材(30)的表面所被覆的硬质被膜(24)是采用物理蒸镀法将A层(34)、B层(36)和将具有与A层(34)或B层(36)相同的组成的纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)以纳米级的厚度交替层交替地层叠而成的纳米层交替层(40)交替地层叠、以成为0.5～20μm的膜厚的方式构成的，A层(34)的组成式为(AlaTibCrcαd)N，具有0.5～1000nm的厚度，B层(36)的组成式为(AleTifCrgβh)CXN1‑X，具有0.5～1000nm的厚度，纳米层交替层(40)具有1～1000nm的厚度，C层(39)的组成式为[AliCrj(SiC)kγl]CYN1‑Y，纳米层A层(37)或纳米层B层(38)和C层(39)具有0.5～500nm的厚度。
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