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公开(公告)号：CN117701038A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311177134.6
申请日：2023-09-13
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: C09D1/00 , C09D7/63 , H01M50/431 , H01M50/449 , H01M50/451 , H01M10/052
Abstract: 本发明涉及一种包含无机颗粒和特定结构的硅烷盐化合物的二次电池用隔膜涂布组合物、利用该隔膜涂布组合物的隔膜以及包括该隔膜的电化学器件，具体地，涉及一种二次电池用隔膜涂布组合物、利用该隔膜涂布组合物制造的隔膜以及包括所述隔膜的电化学器件，在所述隔膜涂布组合物中，在用于多孔基材的一面或两面上形成无机物层的涂布组合物中不包含酸/聚合物基有机粘合剂的情况下也可以实现无机物层与多孔基材的粘合性，并且不需要用于分散无机颗粒的单独的分散剂。
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公开(公告)号：CN111100641B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201911016141.1
申请日：2019-10-24
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供了一种蚀刻组合物、用于蚀刻半导体器件的绝缘层的方法以及用于制备半导体器件的方法，所述蚀刻组合物包括磷酸、磷酸酐、下式1表示的硅烷化合物和水：[式1]其中，R1‑R6独立地为氢、卤素、取代的或未取代的C1‑C20烃基、C1‑C20烷氧基、羧基、羰基、硝基、三(C1‑C20‑烷基)甲硅烷基、磷酰基或氰基。L为直接键或者C1‑C3亚烃基，A为n价基团，n为1‑4的整数。
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公开(公告)号：CN105428714B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201510590956.6
申请日：2015-09-16
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0525 , C07F5/02
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2220/30 , H01M2300/0034 , H01M2300/0037
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，具体地，提供一种高温稳定性、低温放电容量及寿命特性非常优异的二次电池电解液，所述二次电池电解液包含锂盐；非水性有机溶剂；以及下述化学式1所示的硼衍生物：所述化学式1中，R1至R4相互独立地为(C1‑C10)烷基、(C6‑C12)芳基或(C6‑C12)芳基(C1‑C10)烷基，R1至R2的烷基、芳基及芳烷基可以进一步被选自氰基、羟基、卤素、(C1‑C10)烷基及(C6‑C12)芳基中的一个以上的取代基取代。
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公开(公告)号：CN108428940A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201810136745.9
申请日：2018-02-09
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0525 , H01M10/42
Abstract: 本发明提供一种用于锂二次电池的电解液和包括其的锂二次电池，其中，本发明的用于锂二次电池的电解液可提高DC-IR特性和电池储存特性，并且可以改善高温稳定性、低温特性和寿命特性，从而有效地用于制造二次电池。
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公开(公告)号：CN105359324B
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201480038141.0
申请日：2014-12-19
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/134 , H01M4/382 , H01M4/405 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/587 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2004/027 , H01M2004/028
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，本发明的二次电池电解液的具有高温稳定性、低温放电容量及寿命特性高的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105428713A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510579010.X
申请日：2015-09-11
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2220/30 , H01M2300/0037 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，本发明的二次电池电解液的高温稳定性、低温放电容量及寿命特性非常优异。
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公开(公告)号：CN105359326A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480038160.3
申请日：2014-12-19
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/056 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/134 , H01M4/364 , H01M4/382 , H01M4/405 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/583 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/0569
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，本发明的二次电池电解液具有高温稳定性高且低温下的放电容量高的优点。
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公开(公告)号：CN115368374A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202210534213.7
申请日：2022-05-17
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: C07D493/04 , C07D493/14
Abstract: 本发明涉及一种制备四羧酸二酐的方法，本发明的一个方面提供的制备四羧酸二酐的方法可以通过降低催化剂的使用量来抑制颜色杂质的形成，因此适用于光学，并且在没有单独的提纯工艺的情况下，可以在经济的工艺条件下在相对短的时间内制备高纯度四羧酸二酐，因此是有效的。
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公开(公告)号：CN110998446A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN105359326B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201480038160.3
申请日：2014-12-19
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，本发明的二次电池电解液具有高温稳定性高且低温下的放电容量高的优点。
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