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公开(公告)号：CN110998446B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN108428940B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201810136745.9
申请日：2018-02-09
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/0525 , H01M10/42
Abstract: 本发明提供一种用于锂二次电池的电解液和包括其的锂二次电池，其中，本发明的用于锂二次电池的电解液可提高DC‑IR特性和电池储存特性，并且可以改善高温稳定性、低温特性和寿命特性，从而有效地用于制造二次电池。
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公开(公告)号：CN106252710A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610393214.9
申请日：2016-06-06
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0525 , H01M10/0566 , H01M10/0567
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0037 , H01M10/0566 , H01M2220/30
Abstract: 本发明提供锂二次电池用电解质和含有其的锂二次电池。本发明的二次电池用电解质具有优异的高温稳定性、优异的低温放电容量和优异的生命周期特性。
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公开(公告)号：CN116891589A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310384002.4
申请日：2023-04-11
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: C08J7/04 , C08L67/02 , C08J7/046 , C09D183/06 , C09D183/08 , C09D183/12 , H10K59/80 , G02B1/14 , G02B1/111 , G02B1/18 , G09F9/30
Abstract: 本发明涉及一种在基材层上包括硬涂层、低反射粘合增强层和疏水层的光学多层结构体，根据一个具体实施方案的光学多层结构体包括在基材层上层叠硬涂层、包含硅氧烷基化合物的低反射粘合增强层以及包含含氟原子的烷氧基硅烷基化合物的疏水层的结构，从而同时具有高耐磨性和高水接触角。
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公开(公告)号：CN112011341B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202010482104.6
申请日：2020-05-29
IPC: C09K13/06 , H01L21/311 , C07F7/18
Abstract: 一种蚀刻组合物，其包括磷酸、磷酸酐、由以下式1表示的化合物、以及除式1表示的化合物之外的包含至少一个硅(Si)原子的硅烷化合物，[式1]其中，在式1中，A为n价基团，其中n为1‑6的整数，L为直接键或亚烃基，Y选自NR1、O、PR2和S，其中R1‑R2独立地为氢、卤素、取代或未取代的烃基或非烃基，X和Z独立地选自N、O、P和S，并且Ra‑Rc独立地为未共享的电子对、氢或取代或未取代的烃基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112011341A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010482104.6
申请日：2020-05-29
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , H01L21/311 , C07F7/18
Abstract: 一种蚀刻组合物，其包括磷酸、磷酸酐、由以下式1表示的化合物、以及除式1表示的化合物之外的包含至少一个硅(Si)原子的硅烷化合物，[式1]其中，在式1中，A为n价基团，其中n为1-6的整数，L为直接键或亚烃基，Y选自NR1、O、PR2和S，其中R1-R2独立地为氢、卤素、取代或未取代的烃基或非烃基，X和Z独立地选自N、O、P和S，并且Ra-Rc独立地为未共享的电子对、氢或取代或未取代的烃基。
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公开(公告)号：CN111825709A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010307664.8
申请日：2020-04-17
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C07F7/18
Abstract: 本发明涉及由以下式1表示的硅化合物：[式1]其中R1-R6各自独立地选自氢、烃基和非烃基，L为直接键或亚烃基，X为氧(O)或硫(S)，Y和Z各自独立地选自NR7、O和S，其中R7为氢、烃基或非烃基，且Y和Z不同时为NR7，A为n价基团，其中n为1-6的整数。
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公开(公告)号：CN110527512A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910433994.9
申请日：2019-05-23
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , C07F7/18 , C07F9/50 , C07F9/6596 , C07F9/53
Abstract: 一种蚀刻剂组合物，其包括磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：[化学式1]其中A为n价基团，L为C1-C5亚烃基，R1-R3独立地为氢、羟基、烃基或烷氧基，其中R1-R3各自存在或通过杂元素相互连接，n为2-5的整数。
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公开(公告)号：CN110527511A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910422918.8
申请日：2019-05-21
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , H01L21/306 , H01L21/311 , C07F7/18 , C07F9/6596
Abstract: 一种蚀刻剂组合物，其包括由以下化学式1表示的硅烷化合物：[化学式1]其中R1-R6独立地为氢、卤素、取代或未取代的C1-C20烃基、苯基、C1-C20烷氧基、羧基、羰基、硝基、三C1-C20烷基甲硅烷基、磷酰基或氰基，L为直接键或C1-C3亚烃基，A为n价基团，n为1-4的整数。
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公开(公告)号：CN105406126A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510556869.9
申请日：2015-09-02
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0569 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/052 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2220/30 , H01M2300/0025 , H01M10/0525 , H01M2300/0028
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池。本发明的一个实施例涉及提供一种用于锂二次电池的具有良好的高温性能和低温性能的同时，适当保持高倍率充电和放电性能、高寿命周期性能等基本性能的电解液及包含该电解液的锂二次电池。
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