公开(公告)号：CN118732159A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202310331482.8

申请日：2023-03-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 田家裕 ,  长瀬健司 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/12 ,  G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明的光学器件具有：基板；以及至少2个光波导，其形成于基板，且在光的传播方向上面向位于基板上的结合部，在垂直于光的传播方向的截面上，将一个光波导的、与其他光波导面对的侧面与基板所成的角度设为α，将一个光波导的、不与其他光波导面对的侧面与基板所成的角度设为β，满足：α＜β，其中，α≤90°，β≤90°。由此，在至少2个光波导内传播的光在接近结合部时倾向于向光波导间传播。由此，可以降低合波时光的传输损耗。

公开(公告)号：CN115910837A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202111160899.X

申请日：2021-09-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及湿法处理装置、湿法处理方法以及薄膜器件的制造方法。湿法处理装置具备：容器，其至少一个面的一部分开口，并且在相互相对的一对内壁之间具有由用于各一块地收纳晶圆的保持槽构成的狭缝；浴槽，其用于使收纳于容器内的晶圆相对于液面以水平的方向浸没；以及运转装置，其使容器能够水平地往返移动。根据本发明，能够使晶圆在湿法处理面的整个面上均匀地进行湿法处理。

公开(公告)号：CN115413329A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202180026047.3

申请日：2021-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种电光器件，其具备：基板；设置于所述基板上的规定区域并由铌酸锂或铌酸钽形成的光波导膜；缓冲层，与所述光波导膜邻接而形成；以及电极，对所述光波导膜施加电场，在所述规定区域外具备未透光的光波导膜。根据本发明的电光器件，能够抑制光的传播损耗。

公开(公告)号：CN115362407A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202180025893.3

申请日：2021-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  宫田晋吾

IPC: G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种电光器件，其具备：基板；光波导，由在所述基板上以脊状形成的电光材料膜构成；缓冲层，覆盖所述光波导而设置；以及上部电极，经由所述缓冲层设置于所述光波导上，所述缓冲层在所述光波导上的所述上部电极侧具有凹陷。根据本发明的电光器件，能够抑制光的传播损耗。

公开(公告)号：CN115145063A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210309674.4

申请日：2022-03-28

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种光学器件，其具备：基板；光波导，其形成于基板；以及保护层，其邻接于光波导而形成，光波导具有与基板交叉的多个侧面，在光波导的至少一个侧面具有粗糙面。根据本发明的光学器件，能够降低光的传输损耗。

公开(公告)号：CN1988120A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610168721.9

申请日：2006-12-19

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  川畑贤一

IPC: H01L21/60 ,  H01L21/48 ,  H05K3/32 ,  H05K3/46

CPC classification number: H01L25/16 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/24 ,  H01L24/82 ,  H01L2224/24226 ,  H01L2224/73267 ,  H01L2224/82039 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01043 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/30107 ,  H05K1/185 ,  H05K3/0044 ,  H05K3/4652 ,  H05K2201/0209 ,  H05K2201/09509 ,  H05K2201/09518 ,  H05K2201/10674 ,  H05K2203/025 ,  H05K2203/0554 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/4913 ,  Y10T29/49139 ,  Y10T29/49151 ,  Y10T29/49155

Abstract: 本发明提供一种IC内置基板的制造方法，该方法不会对嵌入到树脂层中的半导体IC芯片带来由热和加重(应力)所造成的损伤，还能应对衬垫电极数的增加和细间距化。首先，通过光刻和蚀刻来选择性地去除设于芯基板(11)的两面上的铜箔(12)，从而在芯基板(11)上形成布线和焊盘这样的导电图形(13)。接着，通过将半导体IC芯片(14)面朝上安装于芯基板(11)上的规定区域后，将其嵌入树脂薄片(16)内。然后，通过用保形加工选择性地去除形成于树脂薄片(16)的表面上的铜箔(17)，从而形成用于形成通孔的掩模图形。之后，通过以实施了保形加工的铜箔(17)为掩模的喷砂处理，形成通孔(19)。

公开(公告)号：CN118732160A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202310331665.X

申请日：2023-03-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 儿玉俊太郎 ,  田家裕 ,  长瀬健司 ,  福崎亮平

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/12 ,  G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明的光学器件(1)，具备：基板(10)，其具有在第一方向(D1)上相对的一对主面(10a、10b)、以及与主面(10a)相邻的端面(10c)；以及光波导(20)，其形成于基板(10)，并在端面(10c)所在的平面方向具有光入射面(20c)或光出射面(20d)，光波导(20)的光入射面(20c)和/或光出射面(20d)的至少中央部，包括相对于基板(10)的端面(20c)具有预定的角度的倾斜面。

公开(公告)号：CN116794861A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202210263062.6

申请日：2022-03-17

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 原裕贵 ,  菊川隆 ,  田家裕 ,  长瀬健司 ,  儿玉俊太郎

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03 ,  G02F1/21 ,  G02F1/225

Abstract: 本公开提供能够在从晶圆切出的基板的外周端部防止各结构层间的细微剥离的光调制元件。光调制元件(1)具备基板(10)、形成于基板(10)上的波导层(11)、形成于波导层(11)上的电介质层(12)、形成于电介质层(12)上的电极(4b1)。具有电介质层(12)的外周端部(E12)存在于比基板(10)的外周端部(E10)更靠内侧的偏置区域，在偏置区域的至少一部中，从基板(10)的外周端部(E10)到电体层(12)的外周端部(E12)的距离(L12)为从基板(10)的外周端部(E10)到电极(4b1)的外周端部(E13)的距离(L13)以下。

公开(公告)号：CN115362408A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202180026549.6

申请日：2021-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 田家裕 ,  长瀬健司 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/05

Abstract: 本发明公开一种光调制器。光调制器(100)具备基板(1)、形成于基板上的光波导(2)、经由第一缓冲层(41A)而形成于光波导上且对光波导施加调制信号的信号电极(7a、7b)、以及经由第二缓冲层(42A)而形成于光波导上且对光波导施加DC偏压的偏压电极(9a、9b)，第一缓冲层和第二缓冲层以在第一缓冲层和第二缓冲层的边界部上，第一缓冲层和第二缓冲层中的任意的一方的缓冲层覆盖另一方的缓冲层的端面的方式形成。根据本发明，能够提供一种可靠性高的光调制器。

公开(公告)号：CN115145061A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210296417.1

申请日：2022-03-24

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明涉及一种光调制器。光调制器具有基板、形成于基板的规定的区域上的电光材料层、以覆盖电光材料层的方式形成于基板上的缓冲层、和形成于缓冲层上的电极，电光材料层具有被施加调制信号并被图案化的RF部光波导和被施加直流电压并被图案化的DC部光波导，电极具有形成于RF部光波导所位于的缓冲层上的RF部电极和形成于DC部光波导所位于的缓冲层上的DC部电极，DC部电极的膜厚比RF部电极的膜厚薄。根据本发明，能够提供一种能够抑制由DC部电极中所产生的噪声信号引起的电气串扰，并且在RF部电极中传播的高频信号中能够改善高频特性并能够谋求光频带的宽频带化的光调制器。