公开(公告)号：CN100367109C

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN03103150.1

申请日：2003-01-31

Applicant: 惠普公司

Inventor： H·李

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24579 ,  Y10T428/24595

Abstract: 本发明公开一种大面积纳米尺寸压印模。大面积纳米尺寸压印模包括具有基部表面的基底，在基部表面上形成多个微特征。每个微特征包括多个淀积在其相对侧表面上的间隔体。间隔体从相对的侧表面侧向朝外延伸而微特征和间隔体从基部表面向外延伸。选择性地蚀刻微特征和间隔体以便产生高度差从而限定具有印记轮廓的压印模。可以在基底的基本上所有可用面积上形成压印模，压印模可以有在各压印模之间变化的复杂形状。可以将压印模用作模板把印记轮廓传递给掩膜层，在掩膜层中将复制出印记轮廓。

公开(公告)号：CN1435728A

公开(公告)日：2003-08-13

申请号：CN03103150.1

申请日：2003-01-31

Applicant: 惠普公司

Inventor： H·李

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24579 ,  Y10T428/24595

Abstract: 本发明公开一种大面积纳米尺寸压印模。大面积纳米尺寸压印模包括具有基部表面的基底，在基部表面上形成多个微特征。每个微特征包括多个淀积在其相对侧表面上的间隔体。间隔体从相对的侧表面侧向朝外延伸而微特征和间隔体从基部表面向外延伸。选择性地蚀刻微特征和间隔体以便产生高度差从而限定具有印记轮廓的压印模。可以在基底的基本上所有可用面积上形成压印模，压印模可以有在各压印模之间变化的复杂形状。可以将压印模用作模板把印记轮廓传递给掩膜层，在掩膜层中将复制出印记轮廓。