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公开(公告)号:CN1618008A
公开(公告)日:2005-05-18
申请号:CN02827936.0
申请日:2002-02-08
Applicant: 罗伯特-博希股份公司 , 毕晓普创新有限公司
Inventor: R·诺尔特迈尔
IPC: G01D5/347
CPC classification number: G01D5/34715
Abstract: 一种用于确定一个可转动物体(13)的角位移和扭矩的光学传感器构成。该传感器包括至少一个形成图案的表面(1),一个ASIC(3),至少一个透镜(2)和至少一个EMR源(1 6,17)。ASIC(3)包括处理装置和一个用于EMR的检测器阵列。至少一个EMR源(16,17)照亮形成图案的表面(1),并且,至少一个透镜(2)将来自形成图案的表面(1)的被反射的EMR(5)的一部分聚焦到用于EMR的检测器阵列上。形成图案的表面(1)包括一个图案,该图案包括转向标记和激光标记(8)。至少一个透镜(2)将被转向标记(14)反射的EMR基本上聚焦到检测器阵列上。转向标记(14)不对称。
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公开(公告)号:CN1153955C
公开(公告)日:2004-06-16
申请号:CN99816192.6
申请日:1999-11-17
Abstract: 一种用于测量入射辐射的空间周期强度辐射图的位置的电子电路包括:探测器阵列(1);每个具有连接至缓冲器(14)的电容器阵列(12,13)的两个或两个以上相关器单元(2,3);以及相角计算单元(4)。探测器阵列(1)的间距小于入射强度辐射图的节距、使得后者被过抽样,由此得到高精度。探测器输出(17)被沿电容器阵列(12,13)周期变化的各个固定电容值(15,16)加权,并且对于每个相关器单元(2,3)的输出的加权和在各自的缓冲器(14)输出。各个相关器单元(2,3)的电容值(15,16)按预定的相移互相偏移。使用电容器阵列(12,13)的模拟计算是快速和高能效的,而且能够以超大规模集成电路(VLSI)电路实现。
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公开(公告)号:CN1140779C
公开(公告)日:2004-03-03
申请号:CN98812361.4
申请日:1998-12-15
Applicant: 毕晓普创新有限公司
Inventor: K·Y·埃森豪尔
Abstract: 一种转矩传感器包括具有通过扭转适应耦合(2)连接的第一和第二转矩输入部件(1a,1b)的转轴,从而能使转矩输入部件之间的相对角偏转作为轴转矩大小的函数。传感器具有EMR源(5,6)和阵列或EMR灵敏检测器(7,8)。每个转矩输入部件具有带交替的对EMR有高、低透射率区域的光栅带(101,102)。光栅带位于EMR从源传递到阵列的传递路径(90,91)。通过位于通向阵列的传递路径中的光栅带的交替的高、低透射率区域所造成阵列上的入射EMR产生图案。阵列上的图案经处理得出转矩部件的相对角偏转并提供轴转矩大小的量度。
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公开(公告)号:CN1276060A
公开(公告)日:2000-12-06
申请号:CN98810102.5
申请日:1998-08-14
Applicant: 毕晓普创新有限公司
Abstract: 一种转矩传感器,包括一个转轴,具有第一和第二基本上刚性的转矩输入件,它们通过转短变形连接件予以连接。该连接件使得第一转矩输入件相对于第二转矩输入件产生角变形,其变形量是施加在转轴上的转矩大小的函数。第一格栅件连接在所述第一转矩输入件上或者与之构成一个整体,第二格栅件连接在第二转矩输入件上或者与之构成一个整体。格栅件具有表面,该表面包括交替分布的高反射率区域和低反射率区域,通过转矩变形连接件予以连接。采用一个电磁辐射(EMR)源对所述表面进行照射,在对EMR敏感的一个或者多个检测器阵列上产生图形。该图形的分布是施加在转轴上的转矩的函数,对所述一个或者多个阵列的输出进行处理,从而产生对施加在转轴上的转矩的测量值。
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公开(公告)号:CN100581679C
公开(公告)日:2010-01-20
申请号:CN200480035945.1
申请日:2004-12-03
Applicant: 毕晓普创新有限公司
CPC classification number: B21J5/12 , B21J13/025 , B21K1/767 , B62D3/126 , Y10T29/49474
Abstract: 用于执行无飞边锻造操作来制造转向齿条的有齿部分的锻模设备和方法。锻模设备包括第一和第二锻模构件和至少一个冲压构件,每个具有大体上成形为所述的有齿部分的部分的对应部的形成表面,且所述的第一锻模构件的形成表面的至少部分大体上成形为所述的齿条的齿的对应部。所述的第一和第二锻模构件可相互相向移动到闭合位置,以此从放置在所述的锻模设备中的坯料部分地锻造出所述的有齿部分,且形成由所述的形成表面限定的大体上闭合的腔,一旦所述的锻模构件处于所述的闭合位置,所述的冲压构件适合于移动到所述的腔内,以此完成所述的锻造操作。
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公开(公告)号:CN100510327C
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200580029425.4
申请日:2005-08-31
Applicant: 毕晓普创新有限公司
CPC classification number: F01L7/02 , F01L7/023 , F01L7/024 , F01L7/16 , F01L2820/01
Abstract: 一种用于内燃机轴流式回转阀的密封系统,包括浮动气体密封阵列和可选的油密封系统。该浮动密封阵列环绕着气缸盖(10)的孔(11)中的开口(15),阀(1)的端口(2,3)通过开口(15)与燃烧室(31)连通。该浮动密封阵列包括轴向密封(16)和容纳在气缸盖孔中的槽(18,19)内的圆周密封(17),其中圆周密封轴向地布置在轴向密封的末端的之间。
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公开(公告)号:CN1134321C
公开(公告)日:2004-01-14
申请号:CN98810267.6
申请日:1998-10-15
Applicant: 毕晓普创新有限公司
Inventor: K·Y·埃森豪尔
CPC classification number: B23K26/0823
Abstract: 一种在扭矩传感器的光栅元件表面上制造光栅图形的方法,该换能器有一个包括第一和第二刚性扭矩输入部件的轴,两个部件由扭矩联轴器连接,能够在第一和第二输入部件之间进行相对角偏移,第一和第二光栅元件分另与第一和第二输入部件联接,这两个光栅元件的表面是相邻的,能作为轴中扭矩的函数而相对移动,该方法包括下列步骤:将两个输入部件及相应的光栅元件可以转动地沿轴向固定在扭矩联轴器上而形成一个装置;将该装置安装在一个包括一辐射源的机器中,该辐射源设置成照射两个光栅元件的表面区域,而保持两个扭矩输入部件之间相对于其零扭矩校准状态的预定相对角位移;同时照射两个光栅元件的相邻表面区域,而保持两个扭矩输入部件之间的预定角位移。
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公开(公告)号:CN1339102A
公开(公告)日:2002-03-06
申请号:CN99816192.6
申请日:1999-11-17
Abstract: 一种用于测量入射辐射的空间周期强度辐射图的位置的电子电路包括:探测器阵列(1);每个具有连接至缓冲器(14)的电容器阵列(12,13)的两个或两个以上相关器单元(2,3);以及相角计算单元(4)。探测器阵列(1)的间距小于入射强度辐射图的节距、使得后者被过抽样,由此得到高精度。探测器输出(17)被沿电容器阵列(12,13)周期变化的各个固定电容值(15,16)加权,并且对于每个相关器单元(2,3)的输出的加权和在各自的缓冲器(14)输出。各个相关器单元(2,3)的电容值(15,16)按预定的相移互相偏移。使用电容器阵列(12,13)的模拟计算是快速和高能效的,而且能够以超大规模集成电路(VLSI)电路实现。
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公开(公告)号:CN1311852A
公开(公告)日:2001-09-05
申请号:CN99809141.3
申请日:1999-07-21
Applicant: 毕晓普创新有限公司
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/2454 , G01D5/3473 , G01D5/34792
Abstract: 一种角度位置传感器,包括可绕相对于周围外壳(5)所安装的旋转轴(8)而旋转的机体(1)。机体具有光栅元件(2),光栅元件(2)包括围绕旋转轴的旋转表面。该表面包括以单个二进位条形码无穷连续形式排列的高(21)和低(22)EMR反射率区域的伪随机分布。该传感器包括对于外壳所安装的EMR源(10)和EMR灵敏探测器阵列(9)。源照射表面并且阵列接收由表面反射的入射EMR。由入射EMR在该阵列上所产生的图形起因于表面低和高反射率的交互区域。由处理器(11)对图形进行处理来得到相对于外壳区域的绝对角度位置,并因此提供旋转体相对于外壳的绝对角度位置测量。
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公开(公告)号:CN1348628A
公开(公告)日:2002-05-08
申请号:CN99816194.2
申请日:1999-12-01
IPC: H03M1/36
CPC classification number: H03M1/361
Abstract: 一种用于电容快速模数转换器的电子电路,用于利用并行电容比较器分支的排列把第一和第二模拟信号的比值转换成数字码表示,每个分支根据其排列下标同时计算所述数字码的其中一位,其中所述第一模拟信号作为包括第一正信号节点和第一负信号节点的第一信号节点之间的电压差而被施加,所述第二模拟信号作为包括第二正信号节点和第二负信号节点的第二信号节点之间的电压差而被施加。
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