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公开(公告)号：CN114318218A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111091801.X
申请日：2021-09-17
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明的实施例大致涉及沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法。根据本发明的实施例的用于制造显示面板的沉积掩模包括：金属基底，具有大约50微米至大约200微米的厚度和限定在该金属基底中的多个开口，其中所述开口中的至少一些包括沿着所述金属基底的厚度方向分别限定的具有第一宽度的第一开口和具有小于所述第一宽度的第二宽度的第二开口，并且其中所述金属基底包括第一部分和第二部分，所述第一开口被限定在所述第一部分中，所述第二开口被限定在所述第二部分中，所述第二部分具有沿着所述金属基底的所述厚度方向在从所述金属基底的顶表面向下的方向上增大的宽度。
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公开(公告)号：CN113913742A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202110771503.9
申请日：2021-07-08
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明的实施例涉及掩模和包括该掩模的沉积装置。所述掩模包括：主体单元，沉积开口被限定穿过所述主体单元；和突出单元，图案开口被限定穿过所述突出单元，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出，其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。
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公开(公告)号：CN108374147B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN201810089595.0
申请日：2018-01-30
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明涉及能够提升图案精度的掩模组件的制造方法，该方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，而第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN113725372A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110495021.5
申请日：2021-05-07
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 实施例涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。所述显示装置可以包括：第一电极、第二电极、发射层、中间层以及第一封装层。所述第二电极可以与所述第一电极重叠。所述发射层可以设置在所述第一电极和所述第二电极之间，可以与所述第一电极重叠，并且可以包括发光材料。所述中间层可以直接接触所述第二电极，可以与所述第一电极和所述发射层中的每一个间隔开，并且可以包括氟化合物。所述第一封装层的第一部分可以与所述发射层重叠。所述中间层可以位于所述第二电极和所述第一封装层的第二部分之间。
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公开(公告)号：CN105445997B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201511021046.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置，其包括：背光单元；第二偏振层；液晶层，其设置于背光单元与第二偏振层之间；以及第一偏振层，其设于背光单元与液晶层之间。在一个实施方式中，面对背光单元的第一偏振层的表面包括反射表面，面对液晶层的第一偏振层的表面包括吸收表面。在另一实施方式中，第一步偏振层包括栅格和吸收构件，其中栅格包括金属，而吸收构件包括电介质材料。在另一实施方式中，第一偏振层包括栅格，每个栅格包括包含电介质材料的第一组分和包含金属的第二组分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109309175A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201810536782.9
申请日：2018-05-30
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明实施方式公开了掩模框架组件、掩模框架组件的制造方法及显示装置的制造方法，其中，掩模框架组件包括框架、本体部和图案部，其中，框架具有开口部，本体部与框架结合，并且图案部与本体部连接且被本体部围绕，并且图案部包括第一子图案部和第二子图案部，其中，第一子图案部具有第一晶粒度(grain size)，且第二子图案部布置在第一子图案部上并且具有小于第一晶粒度的第二晶粒度，其中，图案部包括供沉积物质通过的多个图案孔，并且图案孔贯穿第一子图案部和第二子图案部。
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公开(公告)号：CN106148889A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201510172362.3
申请日：2015-04-13
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明公开一种沉积用掩模制造装置及利用该装置的沉积用掩模制造方法。本发明的一实施例的沉积用掩模制造装置，利用激光在配置于载物台的掩模母材上加工图案孔，并且包括：激光振荡部，振荡出激光；分光部，使从激光振荡出的激光分为多个激光束；扫描器，调节经过分光部的多个激光束的照射方向；以及光学镜，配置于扫描器与掩模母材之间，以使经过扫描器的多个激光束中的至少一部分透射。
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公开(公告)号：CN105810836A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201510726485.7
申请日：2015-10-30
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本申请涉及有机发光二级管，其包括：第一电极；面向所述第一电极的第二电极；在所述第一电极与所述第二电极之间的发光层；在所述第二电极与所述发光层之间的电子注入层；以及在所述电子注入层与所述第二电极之间的缓冲层，其中所述电子注入层包含偶极材料和第一金属，以及所述缓冲层包含功函为4.0eV或小于4.0eV的金属。
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公开(公告)号：CN105733822A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201510982861.9
申请日：2015-12-23
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: C11D3/2086 , C11D3/042 , C11D3/046 , C11D3/2075 , C11D11/0047 , H01L21/02082 , C11D1/14 , B08B3/02 , B08B3/08 , B08B3/10
Abstract: 本公开内容涉及用于除去氧化物的清洗组合物及用清洗组合物的清洗方法，该清洗组合物包括选自有机酸、无机酸、以及它们的组合的酸；选自有机盐、无机盐、以及它们的组合的盐；表面活性剂；以及水。
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公开(公告)号：CN117070888A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310552558.X
申请日：2023-05-16
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明提供一种掩模组件。掩模组件包括：框架，包括框架开口部；开放片材，包括与所述框架开口部对应的多个片材开口部及各自包括与所述多个片材开口部中的对应的片材开口部隔开的多个吸附孔的多个孔组，并且与所述框架结合；以及多个掩模，各个所述多个掩模包括多个沉积开口部，并且以与所述多个片材开口部中的对应的片材开口部对齐的方式与所述开放片材结合，其中，所述多个掩模中的每一个与所述多个孔组中的对应的孔组的所述吸附孔重叠。
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