-
公开(公告)号：CN119756279A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411956647.1
申请日：2024-12-29
Applicant: 山东品质机动车鉴定评估有限公司
Abstract: 本发明涉及智能检测设备技术领域，且公开了一种新能源汽车电机部件智能检测设备，包括底座与定子叠片，所述底座的前后侧壁上固定安装有立板，所述立板的侧壁上固定安装有缓冲盒，所述缓冲盒的端面上固定安装有功能盒；检测组件，所述检测组件设置在缓冲盒的内腔；标记组件，所述标记组件设置在功能盒的侧壁上；清洁组件，所述清洁组件设置在功能盒的内腔。该发明通过检测组件与标记组件等的配合，能够实现对对定子叠片上凹陷及凸起的部位进行检测，并在凹陷处轻微刻蚀标记，以方便后续工人快速对整个凹陷处进行修复，同时能够对凸起处进行软化，以方便工人后期对凸起处进行铲平，大大提高了整个装置的实用性能。
-
公开(公告)号：CN119666717A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411875662.3
申请日：2024-12-19
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本申请提供一种硅‑金属复合MEMS材料大气腐蚀传感器及其制备方法和材料大气腐蚀检测设备，涉及材料腐蚀传感器领域。硅‑金属复合MEMS材料大气腐蚀传感器包括阴阳极模块和空腔结构模块；所述阴阳极模块包括第一衬底和设置在所述第一衬底表面的、各自独立的金属阳极和金属阴极；所述空腔结构模块包括第二衬底，所述第二衬底设置有凹陷部和用于与测试环境大气连通的通孔，所述凹陷部自所述第二衬底的第一侧向相对的第二侧延伸，通孔自第二侧的表面延伸至所述凹陷部的底部；所述第二侧的表面与所述第一衬底的表面抵接，且所述金属阴极和所述金属阳极设置在所述凹陷部内。本申请提供的传感器，灵敏度、可靠性和一致性好。
-
公开(公告)号：CN119553220A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411198812.1
申请日：2024-08-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供金属掩模及其制造方法。能够进一步抑制阴影，贯通孔的形状均匀性优异，机械强度也优异。一种金属掩模，其具有有孔区域和周围区域，所述有孔区域具有多个贯通孔，所述周围区域位于所述有孔区域的周围，所述贯通孔具有：形成于第1面的第1凹部；形成于第2面的第2凹部；以及周状的连接部，其连接所述第1凹部与所述第2凹部，所述连接部包含多个角部、和位于相邻的所述角部之间的多个线状部，从所述第1面到所述连接部的厚度方向上的距离h根据位置而不同，从所述第1面到所述角部的厚度方向上的最大距离h1比从所述第1面到所述线状部的厚度方向上的最小距离h2长。
-
公开(公告)号：CN119465331A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411648196.5
申请日：2024-11-18
Applicant: 立讯精密工业股份有限公司
Abstract: 本申请涉及表面处理领域，公开了一种大弧度塑胶产品的表面处理方法。本申请所提供的一种大弧度塑胶产品的表面处理方法，可应用于大弧度、多维度的塑胶产品的表面处理中；本申请表面处理方法结合镭雕退镀工艺和化学退镀工艺的优势，通过将镭雕退镀工艺局部化应用，以及配合化学退镀工艺的大面积快速退镀操作，将两种退镀工艺优化于本申请的表面处理工艺中，整个工艺可缩短表面处理的作业时长，提高产品良率，操作简单快捷，实用性强。
-
公开(公告)号：CN119465152A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411594427.9
申请日：2024-11-09
Applicant: 江西技研新阳电子有限公司
Abstract: 本发明涉及一种厚铜板蚀刻液及其蚀刻方法，在酸性蚀刻液中，选择合适的卟啉添加剂，用于改善铜表面起伏，不平整的问题；同时改善粗糙度，蚀刻后用含有表面活性物质的清洗液进行清洗，减少残留物质和缺陷，并结合上述方法及选用无溶剂法制备半固化片将铜板进行压合，使得厚铜板制备过程简单污染少。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114965361B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202210518000.5
申请日：2022-05-12
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明涉及微纳光学器件技术领域，具体涉及一种基于双金属复合周期结构的超表面折射率传感器及其制作方法。包括基底和呈周期性阵列分布于基底表面的双金属复合周期结构，双金属复合周期结构包括纳米孔膜和纳米柱，纳米孔膜内设有上下贯穿且阵列分布的圆孔，纳米柱为圆柱状结构且嵌套设置于圆孔内部，纳米柱与圆孔之间形成待测物质填充空间，纳米孔膜和纳米柱由不同的金属材料构成，纳米孔膜和纳米柱用于独立激发出不同模式的表面等离激元并与入射光相互耦合产生法诺共振。通过双金属复合周期结构激发出不同模式的表面等离激元，从而与入射光相互耦合，实现折射率传感器灵敏度和品质因数的提高。
-
公开(公告)号：CN119447959A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411512268.3
申请日：2024-10-28
Applicant: 铭镭激光智能装备(河源)有限公司
Abstract: 本发明公开了用于高功率光纤激光器的光纤包层光滤除器及其制备方法，包括步骤：准备光纤，按照预设长度去除该光纤的涂覆层，使光纤形成为两端保留有涂敷层、中部区域裸露出光纤包层表面的结构；对光纤上裸露出光纤包层表面的区域划分为第一区域和第二区域，第二区域具有两个，两个第二区域连接在第一区域的两端，第二区域与光纤的涂敷层具有间隔距离；第一区域蚀刻成尖锐的颗粒状形貌，形成为深度过滤区；第二区域蚀刻成平滑的块状形貌，形成为过渡区，深度过渡区的长度大于过渡区的长度，完成制备，得到成品光纤包层光滤除器。本发明工艺一致性好，稳定可靠，可以有效减少批次性差异，便于大批量生产。
-
公开(公告)号：CN119352023A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411289817.5
申请日：2024-09-14
Applicant: 南京龙电华鑫新能源材料产业技术研究院有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有微孔结构的铝箔，铝箔为压延铝箔，所述微孔孔径大小为0‑150μm，微孔包括盲孔和通孔。孔边缘为圆滑形态，无明显颗粒或凸起物质存在，表面无毛刺和氧化；与传统微孔铝箔相比，本产品不存在毛刺和氧化等质量问题，提高了产品的整体质量和可靠性。
-
公开(公告)号：CN119343042A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202411775133.6
申请日：2024-12-05
Applicant: 唐山国芯晶源电子有限公司
Abstract: 本发明涉及一种压电水晶光刻腐蚀工艺，属于石英微机械加工的技术领域，所述工艺包括以下步骤：清洗石英基片、镀阻挡膜、双面蚀刻、湿法腐蚀、凸台光刻、凸台腐蚀、频率微调。将石英基片加工后得到的石英晶片用石英晶片尺寸测量仪进行测量，测得晶片长度标准差σ为1.10μm，晶片宽度标准差σ为1.52μm，以上指标达到加工尺寸精度σ
-
公开(公告)号：CN119213170A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380041244.1
申请日：2023-05-16
Applicant: 德国艾托特克有限两合公司
IPC: C23F1/18 , H01L21/3213 , H05K3/06 , H05K3/38 , C23F1/02
Abstract: 本发明提供用于纳米蚀刻铜或铜合金表面的方法，其特征在于以下方法步骤：i)提供具有至少一个铜或铜合金表面的衬底，ii)使至少一部分所述铜或铜合金表面与预浸渍组合物接触，iii)使至少一部分所述铜或铜合金表面与蚀刻溶液接触，所述方法的特征在于‑所述步骤是依序进行；‑步骤ii)是非蚀刻步骤；‑步骤iii)是蚀刻步骤；以及‑所述预浸渍组合物包含至少一种选自权利要求书中所定义的清单的含硫化合物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
1693
records
(took 0.017 seconds)
