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公开(公告)号：CN205656112U
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201620112267.4
申请日：2016-02-04
Applicant: 华侨大学
IPC: G01N19/06
Abstract: 本实用新型公开了一种单颗磨粒干涉行为测试设备，包括光学平板、支撑系统、Y轴方向进给装置、试样夹具、工具头、Z轴设定器、Z轴设定器夹具、X轴方向进给装置、磨粒、测力系统和进给控制系统；所述测力系统包括力传感器和数据处理部分。本实用新型的单颗磨粒干涉行为测试设备可实现单颗或者多颗磨粒在不同干涉程度、不同划擦速度、不同划擦深度下的划擦，并能在实验过程准确采集划擦力信号，测试精度较高。
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