感光性组合物、感光性薄膜及印刷电路板

    公开(公告)号:CN101315522B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200710106366.7

    申请日:2007-05-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供感光度、分辨率及保存稳定性优良的感光性组合物、感光性薄膜以及由该感光性组合物形成永久图案的印刷电路板等。本发明的感光性组合物的特征在于,其含有(A)1分子中具有1个以上羧基的含羧基树脂、(B)聚合性化合物、(C)下述通式(1)所示的光聚合引发剂、以及(D)热交联剂。通式(1)所述通式(1)中,R1表示酰基、烷氧基羰基和芳氧基羰基中的任何一种,这些取代基还可以具有取代基。m表示0以上的任何整数。R2表示取代基,m为2以上时,该R2可以相同,也可以不同。Ar表示芳香环和芳杂环中的任何一种。A表示4、5、6及7元环中的任何一种,这些环可以分别含有杂原子。

    光聚合引发剂、感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印制电路板

    公开(公告)号:CN101410421B

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200680054056.9

    申请日:2006-11-24

    CPC classification number: C08F2/50 G03F7/0007 G03F7/031

    Abstract: 本发明提供一种光聚合引发剂,其可以为了能够与激光曝光对应而实现感光性组合物的灵敏度的进一步的提高,并且可以将析像度、保存稳定性、表面硬度及介电特性保持良好,本发明还提供使用了它的感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、使用了前述感光性层叠体的高精细的永久图案(保护膜、层间绝缘膜及阻焊剂图案等)的形成方法以及利用前述永久图案形成方法形成了图案的印制电路板。为此,提供具有特定的不饱和基的作为肟酯化合物的光聚合引发剂以及含有前述光聚合引发剂的感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、使用了前述感光性层叠体的永久图案形成方法及利用前述永久图案形成方法形成了图案的印制电路板。

    图案形成材料、以及图案形成装置和图案形成方法

    公开(公告)号:CN101105631A

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200710129075.X

    申请日:2007-07-11

    Abstract: 本发明的目的在于,通过组合规定的聚合性化合物进而在一定范围内调节感光层的感度,提供感度和析像度高、且遮盖膜强度强、密合性出色、防止未曝光膜破裂的效果出色的图案形成材料、以及图案形成装置、以及图案形成方法。本发明的图案形成材料,具有支撑体并且在该支撑体上至少具有感光层而成,该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂,所述聚合性化合物含有具有双酚骨架的聚合性化合物(a-1)、和分子具有4个以上的反应性基团且分子量为700以上的聚合性化合物(a-2)而成,使所述感光层的曝光的部分的厚度在该曝光和显影后不发生变化的所述曝光中所使用的光的最小能量为0.1~50mJ/cm2。本发明使用了该图案形成材料的图案形成方法也具有所述特征。

    图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法

    公开(公告)号:CN101084470B

    公开(公告)日:2012-03-21

    申请号:CN200580043931.9

    申请日:2005-12-16

    CPC classification number: G03F7/0007 G03F7/031 G03F7/09

    Abstract: 本发明提供一种可以以形成阻焊剂(solder resist)之类的永久图案为目的,通过使用高透明的物质作为支撑体,形成得到的抗蚀剂(resist)面形状良好且更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法。所以,该图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法的特征在于,在支撑体上至少具有感光层,该支撑体的浊度值为5.0%以下,而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂、热交联剂及杂稠环系化合物。

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