一种多相复合非晶碳膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114583198B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202210215277.0

    申请日:2022-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种多相复合非晶碳膜及其制备方法与应用,属于燃料电池金属双极板表面防护技术领域。该多相复合非晶碳膜中同时含有非晶碳相及石墨相;石墨相对应的石墨颗粒的粒径为0.1‑0.6μm;石墨相在多相复合非晶碳膜中的体积占比为10‑40%。该多相复合非晶碳膜内含有较高的sp3键,有利于提高薄膜的致密度和耐腐蚀性能,同时石墨颗粒镶嵌在非晶碳膜中,可使非晶碳膜具有较低的接触电阻。将其用于制备燃料电池金属双极板,可有效平衡金属双极板所具有的耐腐蚀性能及导电性能,进而在确保金属双极板具有较佳导电性的同时解决其所具有的腐蚀和钝化问题。

    一种钛合金轴承座及其制备方法和航空部件

    公开(公告)号:CN113481473B

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202110766412.6

    申请日:2021-07-07

    Abstract: 本发明公开了一种钛合金轴承座及其制备方法和航空部件,涉及表面镀膜技术领域。该钛合金轴承座包括钛合金轴承座基体、涂覆于钛合金轴承座基体内侧表面的金属底层以及涂覆于金属底层表面的耐磨涂层,金属底层的金属材质与钛合金轴承座基体的材质不同,耐磨涂层为金属层与金属氮化物层交替的多层涂层。本申请中金属底层实现表面的耐磨涂层可退镀的效果,从而使工程化过程中表面耐磨涂层可返工和部件的再制造。金属层与金属氮化物层交替设置,有利于减小层与层之间的内应力,使得耐磨涂层与钛合金轴承座基体的结合力度更强,不易脱落,有效解决了钛合金轴承座难以加工,部件易损耗以及摩擦磨损失效的问题,显著延长钛合金轴承座的使用寿命。

    一种铜互连结构体系及其制备方法与电子元器件

    公开(公告)号:CN116247034A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202310358315.2

    申请日:2023-04-04

    Abstract: 本发明公开了一种铜互连结构体系及其制备方法与电子元器件,属于集成电路制造及先进封装技术领域。该铜互连结构体系包括设置于衬底表面的介电层以及设置于介电层表面的铜基合金薄膜,铜基合金薄膜与介电层之间形成有扩散阻挡层互连结构;铜基合金薄膜中掺杂有掺杂元素;掺杂元素包括易形成氧化物自钝化层的金属以及难熔金属,且掺杂元素与铜之间不形成金属间化合物;掺杂元素在铜基合金薄膜中的掺杂量为0.1‑3at.%。该铜互连结构体系具有较高的热稳定性和可靠性,且能够保持较低的薄膜电阻率,不仅有利于降低电路功耗,而且还有利于延长电路使用寿命,对于集成电路性能的提高有着重要的指导意义。

    一种金刚石涂层微细钻头及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115896736A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211432194.3

    申请日:2022-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种金刚石涂层微细钻头及其制备方法与应用,属于微细钻头技术领域。该方法包括:在沉积金刚石涂层之前,将微细钻头进行化学预处理;微细钻头的直径为0.35‑0.75mm,晶粒度为0.3‑1.0μm,含钴量为4‑8wt%;化学预处理包括第一次酸刻蚀、碱刻蚀及第二次酸刻蚀;酸刻蚀液包括体积比为1:2‑4:10‑15的硝酸、盐酸和水;碱刻蚀液包括体积比为1:1:10的铁氰化钾、硝酸钾和水;三次刻蚀时间分别为10‑30s、2‑6min和10‑50s。该方法可显著降低化学预处理对微细钻头断裂强度及对金刚石涂层制备效果的影响,Co去除效果好,刻蚀效率高,所得的微细钻头可用于线路板加工。

    一种多相复合非晶碳膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114583198A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202210215277.0

    申请日:2022-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种多相复合非晶碳膜及其制备方法与应用,属于燃料电池金属双极板表面防护技术领域。该多相复合非晶碳膜中同时含有非晶碳相及石墨相;石墨相对应的石墨颗粒的粒径为0.1‑0.6μm;石墨相在多相复合非晶碳膜中的体积占比为10‑40%。该多相复合非晶碳膜内含有较高的sp3键,有利于提高薄膜的致密度和耐腐蚀性能,同时石墨颗粒镶嵌在非晶碳膜中,可使非晶碳膜具有较低的接触电阻。将其用于制备燃料电池金属双极板,可有效平衡金属双极板所具有的耐腐蚀性能及导电性能,进而在确保金属双极板具有较佳导电性的同时解决其所具有的腐蚀和钝化问题。

    一种低应力四面体非晶碳复合膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN111005000B

    公开(公告)日:2021-12-28

    申请号:CN201911363744.9

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种低应力四面体非晶碳复合膜及其制备方法,涉及镀膜技术领域。四面体非晶碳复合膜将韧性金属层穿插于基体和四面体非晶碳膜之间,韧性金属层用于吸收四面体非晶碳膜持续生长的残余应力,随着复合膜厚度的增加,金属层可以持续吸收残余应力,这样可以保证复合膜与基体的稳固结合,使薄膜在刀具切削过程中不易脱落。同时金属层穿插也可以防止四面体非晶碳膜颗粒聚集长大,提高了膜层的表面质量。本发明提供的低应力四面体非晶碳复合膜的制备方法简单可行,其制备得到的四面体非晶碳复合膜残余应力低,复合膜与基体的结合力好,硬度高,表面质量好,厚度可控。

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