公开(公告)号：CN1529826A

公开(公告)日：2004-09-15

申请号：CN02814261.6

申请日：2002-07-15

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 服部贤二 ,  荻野悦男

IPC: G02B5/08 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/0858 ,  G02B5/26 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/133555

Abstract: 本发明提供一种可维持高透过率并具有高反射率，同时可提高透过显示性能和反射显示性能的带有半透过反射镜的基板。带有半透过反射镜的基板1具有碱石灰硅酸盐玻璃形成的透明玻璃基板2、在玻璃基板2上形成的由氧化硅(SiOx)形成的衬底膜3、在衬底膜3上形成的由铝(Al)形成的半透过反射膜4、以及在半透过反射膜4上形成的由二氧化硅(SiO2)形成的保护膜5。作为衬底膜3使用的SiOx的膜厚为0～8nm，此外，SiOx中氧(O)与硅(Si)的化学组成比x为1.5～2.0。

公开(公告)号：CN1160478C

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：CN98100854.2

申请日：1998-02-26

Applicant: 住友重机械工业株式会社 ,  日本板硝子株式会社

Inventor： 酒见俊之 ,  田中胜 ,  和田俊司 ,  荻野悦男

IPC: C23C14/32

CPC classification number: H01J37/32422 ,  H01J37/3266

Abstract: 一种真空薄膜生长设备，其特征在于：它包括：一个真空腔，一个装在所述真空腔上的等离子体源，一个置于所述真空腔内的阳极，以及一个设在真空腔外将由所述等离子体源产生的等离子体束引导进入所述阳极的导引线圈；所述真空薄膜生长设备适用于将所述等离子体束引导向所述阳极并在一块衬底上形成一层薄膜；所述真空薄膜生长设备还包括一个用以校正所述等离子体束的扭转和/偏移的校正机构，所述校正机构包含设置于在所述导引线圈处、或者设置于所述导引线圈和所述真空腔之间另一位置处的一个磁体，在该另一位置处有从所述导引线圈产生的磁力线。

公开(公告)号：CN1144085C

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：CN01104562.0

申请日：2001-02-16

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 丰岛隆之 ,  新井大介 ,  安崎利明 ,  荻野悦男

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/1333

Abstract: 一种透明触摸屏基材，包括透明基材以及附着其上的透明导电金属氧化物薄膜，该薄膜包含作为三种金属元素的锌、铟和锡并在酸中可溶。薄膜优选地包含以所有金属计的40%到65%原子含量的锌，及包含以原子含量计的锡量的0.25到1.3倍的铟。薄膜厚度优选地从100到160nm。本发明的触摸屏基材具有三种特性：较高的光透射率；在形成透明电极过程中通过酸蚀刻容易加工；以及透明导电薄膜具有从500到5,000Ω的中度表面电阻。

公开(公告)号：CN1468383A

公开(公告)日：2004-01-14

申请号：CN02802740.X

申请日：2002-06-20

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 椎木哲 ,  高岛彻 ,  荻野悦男

IPC: G02B5/02 ,  G02B5/08 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

CPC classification number: G02B5/021 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0268 ,  G02B5/0284 ,  G02F1/133553 ,  G02F2203/03 ,  Y10T428/249921

Abstract: 本发明的第一个目的在于提供一种光散射/反射基板，其在使光散射膜和反射膜之间的粘附性提高的同时，能够使耐久性和耐化学药品性提高。光散射/反射基板(1)包含钠钙硅酸盐制玻璃基板(2)、在玻璃基板(2)上形成的凹凸形状的光散射膜(3)、沿光散射膜(3)的凹凸形状成膜的反射膜(4)。光散射膜(3)通过在玻璃基板(2)表面上涂布一种物质，该物质是在氧化硅(二氧化硅)、氧化铝(三氧化二铝)、氧化钛(二氧化钛)等无机材料中添加作为粘合剂的由有机材料构成的感光性树脂而形成的，然后通过光刻蚀法形成预期的凹凸形状。

公开(公告)号：CN1307688A

公开(公告)日：2001-08-08

申请号：CN99807996.0

申请日：1999-06-29

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 国定照房 ,  谷中保则 ,  中西功次 ,  荻野悦男

IPC: G02B1/10 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  H01J29/88

CPC classification number: B32B15/04 ,  B32B17/10174 ,  B32B2307/202 ,  B32B2307/416 ,  B32B2307/418 ,  B32B2311/22 ,  B32B2311/30 ,  B32B2457/00 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3615 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3657 ,  C03C2217/734 ,  G02B1/115 ,  H01J29/868 ,  H01J2229/8918

Abstract: 具有抗反射导电涂层的玻璃制品,包括玻璃基板和抗反射导电膜,抗反射导电膜包括叠置层,叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的金属膜、高折射率透明介质膜和低折射率透明介质膜,在550 nm的波长测量时,玻璃基板的折射率为1.4-1.7,高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4,低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46,金属膜是镍铁合金膜,玻璃制品的可见光反射率为1%或以下。抗反射导电膜的光学性能和电阻是热稳定的。

公开(公告)号：CN1297163A

公开(公告)日：2001-05-30

申请号：CN00132521.3

申请日：2000-11-17

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 新井大介 ,  荻野悦男

IPC: G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133555 ,  G02F1/133502

Abstract: 一种用于液晶显示元件的基板,可满足各种要求的光学特性的,且同时可提高光的利用系数而没有导致信号延迟的可能性。一预定数量对的具有高折射率的第一透明膜和具有低折射率的第二透明膜,各透明膜由介电材料组成且叠放在一透明基板上。高折射率的透明膜和低折射率的透明膜具有在550nm波长的不小于1.8且不大于1.5的光的折射率。所述预定数量对是1或更大,且高折射率的透明膜和低折射率的透明膜各具有一设置到这样一值的膜厚度使得各透明膜的在可见光区中的光反射比在5～95%的范围内。