公开(公告)号：CN102197055A

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200980142257.8

申请日：2009-10-19

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 新井良和 ,  内田博

IPC: C08F20/34 ,  B05D1/28 ,  B05D1/38 ,  B05D3/00 ,  B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  H01L21/027 ,  C08G12/40

CPC classification number: G03F7/0388 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F220/34 ,  C08G12/40 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/032 ,  G03F7/0758

Abstract: 本发明的目的是提供对氩气的干蚀刻耐性较高、而且氩气和氧气的干蚀刻速度的选择性较高，并且可以形成用作抗蚀层等的微细图案的、适合纳米压印法的转印材料用固化性组合物。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有通过使氨基三嗪化合物、分子内具有羟基和(甲基)丙烯酰基的化合物、和醛类化合物反应而获得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。

公开(公告)号：CN101883797A

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200880117412.6

申请日：2008-11-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 新井良和 ,  内田博

IPC: C08F30/08 ,  B29C59/02 ,  C08G59/20 ,  C08G77/38 ,  C08L83/06 ,  C08L83/07 ,  G11B5/65 ,  G11B5/84 ,  G11B5/855 ,  H01L21/027

CPC classification number: B29D17/00 ,  C08F220/40 ,  C08G77/045 ,  C08G77/14 ,  C08G77/38 ,  G11B5/855

Abstract: 本发明的目的在于提供一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法，有时还适合用于热纳米压印法，并且可以形成氟类气和氧气的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有在同一分子内具有特定倍半硅氧烷骨架和固化性官能团的含倍半硅氧烷骨架的化合物。