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公开(公告)号:CN114303097A
公开(公告)日:2022-04-08
申请号:CN202080059917.2
申请日:2020-06-09
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明减少含有黑色染料的感光性树脂组合物的感光抑制,改善图案形成性并提高灵敏度。一实施方案的感光性树脂组合物包含粘合剂树脂(A)、放射线敏感化合物(B)和染料(C),染料(C)包含黑色染料(C1)和除(C1)以外的染料(C2),染料(C2)在300~800nm的波长范围中在波长480~550nm具有极大吸收,并且在将染料(C2)的极大吸收的波长的吸光度设为Abs1,将波长560~600nm中的平均吸光度设为Abs2时,Abs2/Abs1为0.1~1.0。
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公开(公告)号:CN106189896A
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201510487289.9
申请日:2015-08-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J175/16 , C09J105/08 , C09J11/04 , C09J11/06 , B32B7/12
Abstract: 本发明提供一种可以与发热体容易地接合,而且可以适合用作辐射性高的散热器的叠层片以及叠层片的制造方法。作为解决本发明课题的方法涉及一种叠层片(10),其含有金属片层(1)和粘着层(2),该金属片层(1)包含热辐射层(11)和金属层(12),该热辐射层(11)含有热辐射填料(C)和粘合剂成分(D),该粘着层(2)叠层于金属片层(1)的金属层(12)侧的面,粘着层(2)含有粘着树脂组合物(A)和导热性填料(B)。
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公开(公告)号:CN103003254B
公开(公告)日:2015-08-19
申请号:CN201180034697.9
申请日:2011-06-29
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D301/12 , C07D303/27
CPC classification number: C07D301/12
Abstract: 本发明提供在乙腈的存在下,使用过氧化氢作为氧化剂,将具有碳-碳双键的化合物进行环氧化的环氧化合物的制造方法,是不需要残存有过氧化氢的反应液的浓缩操作,安全并且简便的方法。一种环氧化合物的制造方法,是在乙腈的存在下,使用过氧化氢作为氧化剂,将具有碳-碳双键的化合物进行环氧化的环氧化合物的制造方法,其包含以下工序:第一工序,在该环氧化反应结束后,在反应液中添加水、和对水无相容性且不溶解该环氧化反应的副产物乙酰胺的有机溶剂,使乙酰胺溶解在水中;第二工序,将有机层与水层进行分离;以及第三工序,将有机层进行还原处理后,进行水洗涤、浓缩,获得环氧化合物。
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公开(公告)号:CN113892057A
公开(公告)日:2022-01-04
申请号:CN202080038145.4
申请日:2020-01-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor: 新井良和
Abstract: 本发明提供可以抑制显影工序中的被膜剥落的、含有着色剂的高灵敏度的感光性树脂组合物。一实施方案的感光性树脂组合物包含粘合剂树脂(A)、具有三嗪环且由式(1)表示的化合物(B)、放射线敏感化合物(C)、和选自黑色染料和黑色颜料中的着色剂(D)。(在式(1)中,R1、R2、和R3各自独立地表示羟基、碳原子数1~5的烷基、碳原子数2~6的烯基、碳原子数2~6的烯基醚基、可以具有取代基的氨基、卤代烷基、硫醚基、巯基、苯基、苯基醚基、卤代基、萘基、吡啶基、联苯基、吗啉代基、芴基或咔唑基。)
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公开(公告)号:CN111538209A
公开(公告)日:2020-08-14
申请号:CN201910957746.4
申请日:2019-10-10
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供可以形成耐裂性优异的固化物的、含有着色剂的高灵敏度的有机EL元件间隔壁形成用感光性树脂组合物。一实施方式的有机EL元件间隔壁用感光性树脂组合物包含:粘合剂树脂(A);具有酚性羟基的化合物(B),上述具有酚性羟基的化合物的分子量为260~5000,酚性羟基当量为80~155;放射线敏感化合物(C);以及着色剂(D),上述着色剂选自黑色染料和黑色颜料。
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公开(公告)号:CN101977919B
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN200980110402.4
申请日:2009-03-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21
CPC classification number: C07F7/21
Abstract: 本发明的目的在于提供固化速度快且抗蚀刻性和选择性优异、在室温下为液体的环氧化合物及其制造方法。本发明的环氧化合物以式(I)表示;(YSiO3/2)n···(I)(式(I)中,n个Y中的p个(p是n以下的自然数)表示下述式(1a)~(5a)的任一个所表示的基团,(n-p)个Y表示氢原子或-OSiR12H,n表示2~500的整数。R1各自独立地表示烷基,R2~12各自独立地表示氢原子或烷基等,X表示单键等,*表示与(I)所示的Si结合的部分)。
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公开(公告)号:CN101848915B
公开(公告)日:2013-10-09
申请号:CN200880114939.3
申请日:2008-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C07F7/0838 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
Abstract: 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物,其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法;并且有时适合用于热纳米压印法;而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物,其特征在于,含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。
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公开(公告)号:CN101978420B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200980109283.0
申请日:2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法,是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次具有以下工序:在基板上形成连续的记录层的工序,形成图案化的抗蚀剂层的工序,依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序,在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序,通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序,对上述有机硅化合物进行蚀刻,使磁性层在表面露出的工序,以及形成保护膜的工序。
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公开(公告)号:CN101978420A
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200980109283.0
申请日:2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法,是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次具有以下工序:在基板上形成连续的记录层的工序,形成图案化的抗蚀剂层的工序,依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序,在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序,通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序,对上述有机硅化合物进行蚀刻,使磁性层在表面露出的工序,以及形成保护膜的工序。
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公开(公告)号:CN101848915A
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200880114939.3
申请日:2008-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C07F7/0838 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
Abstract: 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物,其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法;并且有时适合用于热纳米压印法;而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物,其特征在于,含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。
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