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公开(公告)号:CN1705646A
公开(公告)日:2005-12-07
申请号:CN200380101425.1
申请日:2003-10-01
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D233/54 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供了下式(1)的新的六芳基二咪唑化合物:其中每个R1代表卤素,且每个R2代表任选取代的C1-4烷基。本发明的六芳基二咪唑化合物可在用作抗蚀剂的可光致聚合的组合物中作为光自由基产生剂,且以低升华的热分解产物为特征。可光致聚合的组合物可适于用作抗蚀剂或用作彩色液晶显示元件、照相机等等的彩色滤光片。