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公开(公告)号：CN101002127A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580026369.9
申请日：2005-07-22
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B13/24 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种使第一面(R)的缩小像投影于第二面(W)的投影光学系统。投影光学系统的光程中的气体的折射率为1时，投影光学系统与第二面之间的光程以具有比1.5大的折射率的液体(Lm)充满。投影光学系统包括第一面侧与气体接触并且第二面侧与液体接触的境界透镜(Lb)，境界透镜具有正折射能力，由具有比1.8大的折射率的光学材料形成。本发明的投影光学系统，使液体介于与像面之间的光程中，例如可一面确保比1.4大的实效性像侧数值孔径，一面能确保较大的有效结像区域。
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公开(公告)号：CN104170054A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201280071531.9
申请日：2012-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70058 , G02B26/0833 , G02F1/29 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70508
Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。
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公开(公告)号：CN101799636A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010129961.4
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101002299B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580023601.3
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100578876C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN98813887.5
申请日：1998-11-30
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: H01S3/067 , G02B6/14 , G02B6/32 , G02F1/1303 , G02F1/35 , G02F1/3501 , G02F1/353 , G02F1/37 , G02F2001/3503 , G02F2001/354 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/0064 , H01S3/0078 , H01S3/0085 , H01S3/06716 , H01S3/06729 , H01S3/06745 , H01S3/06758 , H01S3/06766 , H01S3/094011 , H01S3/09415 , H01S3/1608 , H01S3/23 , H01S3/2383
Abstract: 紫外激光装置，其特征在于包括：激光发生部分，它具有在红外区域到可见区域的波长范围内发生单一波长的激光的单一波长振荡激光器；光放大器，它具有放大由上述激光发生部分发生的激光的光纤放大器；波长变换部分，它使用非线性光学晶体把上述放大后的激光波长变换为紫外光，该紫外激光装置发生单一波长的紫外光。把掩模的图案转印到基板上的曝光装置中，包括光源和传送光学系统，其中光源具有：射出单一波长激光的激光装置、放大上述激光的第1光纤放大器、把上述已放大的激光分支为多路的光分支装置、分别放大上述多路分支光的第2光纤放大器；传送光学系统，把从上述光源射出的激光传送到曝光装置。
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公开(公告)号：CN101477312A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910005724.4
申请日：2004-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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公开(公告)号：CN100472713C
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200480025055.2
申请日：2004-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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公开(公告)号：CN1723536A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105396.6
申请日：2003-12-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 大和壮一
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 提供一种曝光装置，在投影光学系统和衬底之间充满液体进行曝光处理的时候，能够抑制起因于液体中气泡的图案像恶化。该曝光装置包括：用于以液体(50)充满上述投影光学系统和衬底之间的至少一部分的液体供给装置(1)，通过投影光学系统将图案图像投影在衬底上曝光。液体供给装置包括：抑制上述液体(50)中发生气泡的气泡抑制装置(21)。
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公开(公告)号：CN1286818A
公开(公告)日：2001-03-07
申请号：CN98813887.5
申请日：1998-11-30
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: H01S3/067 , G02B6/14 , G02B6/32 , G02F1/1303 , G02F1/35 , G02F1/3501 , G02F1/353 , G02F1/37 , G02F2001/3503 , G02F2001/354 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/0064 , H01S3/0078 , H01S3/0085 , H01S3/06716 , H01S3/06729 , H01S3/06745 , H01S3/06758 , H01S3/06766 , H01S3/094011 , H01S3/09415 , H01S3/1608 , H01S3/23 , H01S3/2383
Abstract: 紫外激光装置,其特征在于包括:激光发生部分,它具有在红外区域到可见区域的波长范围内发生单一波长的激光的单一波长振荡激光器;光放大器,它具有放大由上述激光发生部分发生的激光的光纤放大器;波长变换部分,它使用非线性光学晶体把上述放大后的激光波长变换为紫外光,该紫外激光装置发生单一波长的紫外光。把掩模的图案转印到基板上的曝光装置中,包括光源和传送光学系统,其中光源具有:射出单一波长激光的激光装置、放大上述激光的第1光纤放大器、把上述已放大的激光分支为多路的光分支装置、分别放大上述多路分支光的第2光纤放大器;传送光学系统,把从上述光源射出的激光传送到曝光装置。
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