-
公开(公告)号：CN107042701A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201710064134.3
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用记录装置从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录书写单元的图像，所述记录装置包括激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元，其中排列引导从激光‑发射元件发射的激光的光纤。其中，其中从在主扫描方向上彼此相邻的光纤施加激光至记录目标以记录在主扫描方向上至少部分地重叠的书写单元的实心图像，与用于记录在实体图像的两个边缘处存在的书写单元的激光的照射能量相比，通过减小用于记录除了实心图像相对于主扫描方向的两个边缘之外的书写单元的激光的照射能量来进行记录。
-
公开(公告)号：CN103204002B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210599296.4
申请日：2012-12-05
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/435
CPC classification number: B41J2/4753 , B41J2/46 , B41J2/473
Abstract: 附有热可逆记录介质的物品按预定方向传输，在传输路径的任意一侧设置激光可重写设备。该激光可重写设备向热可逆记录介质发射激光从而重写图像。该激光可重写设备具有一个图像擦除设备和一个图像记录设备。图像擦除设备，通过向热可逆记录介质上发射激光对图像进行擦除；图像记录设备位于图像擦除设备沿传输方向下游侧，在图像被图像擦除设备擦除后，通过激光照射热可逆记录介质记录一个新图像。该图像擦除设备和图像记录设备各自具有光发射部，激光通过该光发射孔在该预定传输方向的同侧的侧壁发射。
-
公开(公告)号：CN101659158B
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN200910168604.6
申请日：2009-08-28
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/4753
Abstract: 本发明的名称是图像处理方法和图像处理装置。一种图像处理方法，其包括：传送激光到热可逆记录介质以加热热可逆记录介质并在其上记录图像，所述介质取决于其温度可逆地改变其透明度或色调；并且加热所述介质以擦除记录在其上的图像，其中所述传送使用图像处理装置进行，该装置包括：激光发射单元；置于自激光发射单元发射的激光在其上被传送的平面上的光扫描单元；设置来改变激光光强度分布的光强度分布调节单元；以及设置来聚集激光的fθ透镜，并且其中透过所述fθ透镜的周围部分并前进到所述介质上的激光的能量低于透过所述fθ透镜的中心部分并前进到所述介质上的激光的能量。
-
公开(公告)号：CN101544141B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200910006415.9
申请日：2009-02-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/442 , B41J2/45 , B41J2/4753 , B41M5/305 , B41M5/323 , B41M5/3335 , B41M2205/04 , Y10S430/146
Abstract: 本发明的名称是图像处理方法和图像处理设备。提供了图像处理方法，该方法包括下述中至少一个：在透明度或色调根据温度可逆变化的热可逆记录介质上记录图像，这通过使用半导体激光器设备应用激光束以加热所述热可逆记录介质进行，和通过加热所述热可逆记录介质，擦除在所述热可逆记录介质上记录的图像，其中图像记录步骤中应用的激光束的强度分布满足下面表达式1表示的关系，1.20≤I1/I2≤1.29 表达式1其中I1指应用的激光束在应用的激光束的中心位置处的照射强度，和I2指在相应于应用的激光束的总照射能量的95％的平面上应用的激光束的照射强度。
-
公开(公告)号：CN101791918A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010107978.X
申请日：2010-02-01
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41M5/26
CPC classification number: B41M5/44 , B41J2/4753 , B41M5/305 , B41M5/426 , B41M5/465 , B41M2205/04 , B41M2205/36 , B41M2205/38 , B41M2205/40
Abstract: 本发明涉及热敏记录介质和采用其的图像处理方法。所述热敏记录介质包括：支持体；形成在所述支持体表面上的含有光热转化材料的层；和形成在所述层的与其上形成有支持体的表面相反的表面上的氧阻挡层，其中所述层进一步含有处于交联状态的树脂并且所述光热转化材料吸收具有特定波长的光并将所述光转化成热，以及其中所述氧阻挡层在25℃和80％RH下的氧渗透度为0.5mL/m2·24hr·atm或更低。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101676122A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200910175846.8
申请日：2009-09-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/305 , B41J2/4753 , B41M5/3335 , B41M5/423 , B41M5/44 , B41M2205/04 , B41M2205/38 , B41M2205/40
Abstract: 擦除图像的方法，包括用波长为700nm至1,500nm的激光照射在热可逆记录介质上形成的图像以便擦除所述图像，其中激光的能量密度在能够擦除图像的能量密度范围内并且大于该范围的中心值，其中所述热可逆记录介质包括载体和在该载体上的热可逆记录层，并且其中所述热可逆记录层含有用作给电子成色化合物的无色染料和用作受电子化合物的可逆显色剂，其中色调通过热而可逆变化，并且热可逆记录层和临近该热可逆记录层的层中的至少一个含有光热转换材料，其吸收光并将光转化为热。
-
公开(公告)号：CN100377182C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN03812801.2
申请日：2003-06-03
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明的目的在于提供一种热可逆记录介质等，该热可逆记录介质的处理速度快，在使用热敏头加热毫秒单位的极短时间内，可以充分消去图像，图像形成经一定时间后，消去能量不变化，维持足够的消去性，即使在高温下放置长时间，也可以形成保存性、对比度、可视性等优良的图像。本发明的热可逆记录介质含有感热层，所述感热层含有树脂和有机低分子化合物，并且具有随温度可逆变化的透明度，其特征在于以下任何一种，即(1)该感热层中的玻璃化转变温度变化为-10～5℃，而且透明化温度宽度为30℃或30℃以上；(2)前述树脂含有丙烯酸多元醇树脂，而且前述感热层中的玻璃化转变温度变化为-10～5℃；(3)前述树脂含有丙烯酸树脂，而且前述感热层中的透明化温度宽度为40℃或40℃以上；(4)前述树脂含有丙烯酸多元醇树脂，而且前述感热层中的透明化温度宽度为30℃或30℃以上。
-
公开(公告)号：CN100339236C
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN03809271.9
申请日：2003-04-23
CPC classification number: B32B27/08 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2425/00 , B41M5/305 , B41M5/3335 , B41M5/3336 , B41M5/3375 , B41M5/41 , B41M5/42 , G06K19/077
Abstract: 提供一种卡加工性好、同时消去特性也好的信息记录显示卡。本发明的信息记录显示卡，至少含有芯片和覆盖片、由该芯片与该覆盖片贴合而成，该覆盖片具有可逆性热敏记录层，该层在至少含有非晶体聚酯树脂的支撑体上，含有给电子性呈色性化合物和接受电子性化合物，其利用加热温度及加热后冷却速度的至少任何一种的不同可形成相对的发色状态和消色状态。并可在该覆盖片上进行压花加工；作为图像显示部的功能满足下述条件(A)、(B)及(C)：(A)[上限消去温度-30℃]＞[覆盖片的贮藏弹性模量E′(1.0E+08)Pa的温度]；(B)表面波纹WCM为10μm或10μm以下；(C)1.0E+02Pa≤[热敏可逆性覆盖片在180℃下的贮藏弹性模量E′]≤5.0E+07Pa。
-
公开(公告)号：CN108602356A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009510.7
申请日：2017-02-03
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 根据本发明，分析从图像信息输出单元接收的图像数据(S1)，并且检查在下一个待执行记录的点的上游侧相邻的下一个点与所述点是否具有相同的颜色(S2)。当具有从黑点至白点的点颜色改变时(在S2处为是和在S3处为是)，设定结束激光照射的定时早于黑点的正常结束定时(S4)。在点颜色从白点改变为黑点的情况中(在S2处为是和在S3处为否)，当对黑点执行记录时，设定进行激光照射的定时晚于正常定时(S5)。
-
公开(公告)号：CN108602354A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009170.8
申请日：2017-02-01
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 用激光束照射记录对象的激光照射设备如记录装置14包括激光阵列单元14a、纤维阵列单元14b、和光学单元43。激光阵列单元14a包括以阵列形式布置的激光发光元件41，如多个半导体激光器。纤维阵列单元14b包括相应于激光发光元件41提供的多个光学纤维42和阵列头44，所述阵列头44保持光学纤维42的激光出射部分附近在上下方向(Z轴方向)上处于阵列形式。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
72
records
(took 0.037 seconds)
