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公开(公告)号：CN114555870A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202180005685.7
申请日：2021-03-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明涉及镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法。本发明提供一种能够通过简单的构造来清洗接触部件的技术。镀覆装置(1000)具备镀覆槽、基板保持件(20)、旋转机构、升降机构、接触部件(40)、以及清洗接触部件(40)的清洗装置(50)，清洗装置(50)具有回转轴(51)、第一臂(53)、第二臂(54)、以及具有至少一个喷出口的喷嘴(55)，上述清洗装置(50)构成为通过从喷出口喷出的清洗流体碰触接触部件(40)来清洗接触部件(40)。
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公开(公告)号：CN110870057A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880046274.0
申请日：2018-06-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B25J15/06 , B65G49/06 , B65G49/07
Abstract: 本发明提供一种改善了基板的保持精度降低的基板保持装置。伯努利吸附垫吸引基板(S)的表面或背面来进行保持。位置决定部(54)能够与基板(S)的侧面(82)接触，来推压基板(S)，并能够对被吸引的基板(S)进行定位。插销(66)能够使位置决定部(54)与基板(S)的侧面(82)接触。通过利用插销(66)使位置决定部(54)与基板(S)的侧面(82)接触，由此位置决定部(54)将基板(S)定位。
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公开(公告)号：CN119604647A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202480003324.2
申请日：2024-03-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 抑制或防止配置于基板与阳极之间的各部件的形状、移动等转印至镀敷膜。镀敷装置具备：镀敷槽，用于保持镀敷液；基板保持器，以被镀敷面向下的方式保持基板；阳极，与上述基板对置配置；隔膜，配置于上述基板与上述阳极之间；以及隔膜支承部，按压上述隔膜的上表面，该隔膜支承部具有多个第1形状的开口和配置于该多个第1形状的开口的外侧的多个第2形状的开口，包含上述多个第1形状的开口的外接圆的中心从上述基板保持器的旋转中心偏心。
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公开(公告)号：CN119452125A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202280097671.7
申请日：2022-08-10
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
IPC: C25D17/06
Abstract: 本公开提供一种在基板的定位时、即使在第一保持件相对于第二保持件从设计位置偏离的情况下、中心销也不会将基板过度按压至比设计位置靠中心侧的基板保持架。本公开所涉及的基板保持架具有第一保持件和第二保持件，第二保持件具有：用于将基板定位在规定的位置的定位部件、和限位器，定位部件具有能够在第一位置与第二位置之间移动的中心销，且构成为当中心销从第二位置移动至第一位置时，中心销与上述基板的周缘部接触并将上述基板定位在规定的位置，第一保持件具有驱动部件，该驱动部件构成为在由第一保持件和第二保持件保持基板时，对中心销向第一位置施力，限位器构成为与中心销接触并使中心销在第一位置停止。
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公开(公告)号：CN116419990A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202180006280.5
申请日：2021-11-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明抑制基板贴附于背板组件。本发明提供镀覆装置，包括：镀覆槽，其构成为收容镀覆液；基板支架，其构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的基板(Wf)；以及升降机构，其构成为使基板支架升降。基板支架包括：支承机构(460)，其构成为支承基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的外周部；背板组件(470)，其配置于基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的背面侧，并构成为与支承机构(460)一起夹持基板(Wf)；以及剥离机构(471)，其构成为将使基板(Wf)从背板组件(470)剥离的力施加于基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的背面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116234944A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202180049901.8
申请日：2021-11-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
IPC: C25D7/12
Abstract: 容易维护在面朝下式的镀敷装置的下部配置的镀敷装置和镀敷装置的制造方法。镀敷装置具备：镀敷槽，其用于保持镀敷液；基板保持架，其使被镀敷面向下而保持基板；以及拉出单元，其是在水平方向上拔出自如地装配于上述镀敷槽的拉出单元，且具有在上述镀敷槽内与上述基板相向配置的阳极和具有使上述阳极暴露的开口部并能够调节上述开口部的开口尺寸的可变阳极遮罩。
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公开(公告)号：CN116097077A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202280006005.8
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无的技术。泄漏判定方法包括：排出步骤(120)，在该排出步骤中，在将被基板保持器保持的基板浸渍于镀覆液并进行镀覆处理之后，对基板保持器的触点部件排出清洗液；测量步骤(122)，在该测量步骤中，测量清洗触点部件之后的清洗液的导电率；以及判定步骤(128)，在该判定步骤中，基于针对成为基准的基板保持器预先测量出的清洗液的第1导电率与通过测量步骤(122)测量出的清洗液的第2导电率的比较来判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无。
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公开(公告)号：CN114981487B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202080027217.5
申请日：2020-12-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
Abstract: 本发明使用于抑制颗粒的污染的镀覆装置的构成要素的配置以及动作控制最佳化。用于对基板进行镀覆处理的镀覆装置包含：第一机器人室，收容用于输送搬入到镀覆装置的基板以及从镀覆装置搬出的基板的第一输送机器人；镀覆室，收容用于对基板进行镀覆处理的镀覆模块；第一处理室，收容用于对基板进行镀覆处理的前处理的前处理模块；第二机器人室，收容用于在前处理模块与镀覆模块之间输送基板的第二输送机器人；第一门，配置在第一机器人室与第一处理室之间；第二门，配置在第一处理室与第二机器人室之间；以及控制模块，构成为控制第一门和第二门的开闭，以使第一门与第二门不同时打开。
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公开(公告)号：CN110470229B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201910383662.4
申请日：2019-05-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供凸块高度检查装置、基板处理装置、凸块高度检查方法以及存储介质，以使得能够简化凸块高度的检查。凸块高度检查装置具备：照明装置，对具有抗蚀剂和在上述抗蚀剂的开口部形成的凸块的基板照射光；拍摄装置，拍摄上述抗蚀剂以及上述凸块的图案；以及控制装置，基于由上述拍摄装置得到的上述图案的图像数据的亮度值来评价上述凸块的高度。
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公开(公告)号：CN110470229A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910383662.4
申请日：2019-05-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供凸块高度检查装置、基板处理装置、凸块高度检查方法以及存储介质，以使得能够简化凸块高度的检查。凸块高度检查装置具备：照明装置，对具有抗蚀剂和在上述抗蚀剂的开口部形成的凸块的基板照射光；拍摄装置，拍摄上述抗蚀剂以及上述凸块的图案；以及控制装置，基于由上述拍摄装置得到的上述图案的图像数据的亮度值来评价上述凸块的高度。
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