镀覆装置、预湿处理方法以及清洗处理方法

    公开(公告)号:CN114981486B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202080034254.9

    申请日:2020-12-22

    Inventor: 张绍华 关正也

    Abstract: 本发明提供能够实现镀覆装置的小型化的技术。镀覆装置具备喷出模块(50),喷出模块具备:模块主体(51),具有将处理液朝向上方喷出的多个喷嘴(52);和移动机构(60),具有配置于镀覆槽的旁边并且与模块主体连接的旋转轴(61),通过旋转轴旋转来使模块主体移动,移动机构使模块主体在第1位置与第2位置之间移动,多个喷嘴配置为在模块主体移动至第2位置的情况下,从多个喷嘴喷出的处理液从基板的下表面的中心部起抵接至外周缘部,模块主体还具备回收部件,上述回收部件构成为对在被从多个喷嘴喷出并与基板的下表面抵接之后落下的处理液进行回收。

    镀覆装置以及镀覆处理方法

    公开(公告)号:CN114916234B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202080039920.8

    申请日:2020-12-08

    Abstract: 本发明涉及镀覆装置以及镀覆处理方法。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的工艺气体而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置(1000)具备:镀覆槽(10),在阳极室(13)配置有阳极(11);和基板保持件(30),配置于比阳极室靠上方的位置,并保持作为阴极的基板(Wf),阳极具有沿上下方向延伸的圆筒形状,镀覆装置还具备:气体存积部(60),以在与阳极之间具有空间,并且覆盖阳极的上端、外周面以及内周面的方式设置于阳极室,存积从阳极产生的工艺气体;和排出机构(70),使存积于气体存积部的工艺气体排出到镀覆槽的外部。

    镀覆装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115244227A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202180003017.0

    申请日:2021-02-22

    Abstract: 本发明涉及镀覆装置,本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50),迷宫式密封部件具有:内侧迷宫式密封件(53),配置于比轴承(33)靠下方的位置,且密封轴承;外侧迷宫式密封件(54),配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置;排出口(55),构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气;以及吸收口(56),构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。

    镀覆装置以及基板的膜厚测定方法

    公开(公告)号:CN115119515A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202180003254.7

    申请日:2021-01-20

    Abstract: 本发明提供能够在镀覆处理时测定基板的膜厚的技术。镀覆装置(1000)具备:镀覆槽(10);基板保持架(20);旋转机构(30);接触部件(50),配置于基板保持架,并且在基板保持架的周向上配置有多个,与基板的下表面的外周缘接触,在镀覆处理时向基板供电;线圈(60),构成为通过基于因在镀覆处理时与基板保持架一起旋转的接触部件流动的电流而产生的磁场的电磁感应来产生电流;电流传感器(65),对在线圈产生的电流进行检测;以及膜厚测定装置(70),在镀覆处理时,基于电流传感器检测出的电流来对基板的膜厚进行测定。

    镀覆装置以及镀覆方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114959845A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202111552453.1

    申请日:2021-12-17

    Inventor: 关正也 张绍华

    Abstract: 本发明提供能够抑制镀覆液的液体飞溅的技术。镀覆装置具备:具有内槽(11)的镀覆槽(10)、基板支架、构成为在水平方向往复移动由此搅拌存积于内槽(11)的镀覆液的搅拌桨(50),搅拌桨(50)具有:第1部位(51),该第1部位(51)配置为插通于在内槽的外周壁设置的孔,并且将内槽的内部与内槽的外部跨接,并构成为搅拌存积于内槽的镀覆液;第2部位(53),该第2部位(53)配置于内槽的外部,并且配置为比第1部位靠上方;以及连接部位(52),该连接部位(52)配置于内槽的外部并将第1部位与第2部位连接。

    镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置

    公开(公告)号:CN114262926A

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN202111142354.6

    申请日:2021-09-28

    Abstract: 本发明涉及镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的气泡而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置的气泡除去方法是将具备镀覆槽(10)和基板保持件(30)的镀覆装置(1000)中的阳极室(13)的气泡除去的气泡除去方法,其包括:从设置于阳极室的外周部(12)的至少一个供给口(70)向阳极室供给镀覆液(Ps),使以与供给口对置的方式设置于阳极室的外周部的至少一个排出口(71)吸入该供给的镀覆液,由此在阳极室中的隔膜(61)的下表面(61a)形成沿着该下表面的镀覆液的剪切流(Sf)。

    清洗装置、具备该清洗装置的电镀装置以及清洗方法

    公开(公告)号:CN111005059A

    公开(公告)日:2020-04-14

    申请号:CN201910910467.2

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 本发明提供清洗装置、具备该清洗装置的电镀装置以及清洗方法,能够使喷嘴配置于基板支架的密封环支架与底板之间,并且能够抑制装置尺寸的增大。提供对具有第一保持部件、和具备使基板露出的开口的第二保持部件的基板支架进行清洗的清洗装置。该清洗装置具有:清洗槽,其构成为收容基板支架;致动器,其构成为使第二保持部件从第一保持部件分离;以及清洗喷嘴,其构成为对收容于清洗槽的基板支架排出清洗液。清洗喷嘴构成为通过第二保持部件的开口。

    粉末供给装置及镀覆系统
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109989093A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201811585813.6

    申请日:2018-12-24

    Abstract: 本发明提供一种尽可能地防止粉末飞散的粉末供给装置及镀敷系统。提供一种将包含镀覆中使用的金属的粉末向镀覆液供给的粉末供给装置。该粉末供给装置具有:构成为收纳镀覆液的镀覆液箱;用于向镀覆液箱内投入粉末的投入配管;用于供给气体的气体供给管路;和构成为接收来自气体供给管路的气体、并在投入配管的内部生成朝向镀覆液箱的螺旋气流的螺旋气流生成部件。

    镀覆装置及镀覆方法
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109722704A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201811277023.1

    申请日:2018-10-30

    Abstract: 本发明提供一种对基板进行镀覆的镀覆装置及镀覆方法。该镀覆装置具有:构成为收纳镀覆液的镀覆槽;配置于所示镀覆槽的内部,并且构成为沿着基板的表面在往复方向上移动而对镀覆液进行搅拌的搅动件;支承搅动件的第一端部的支承部件;设置于搅动件的第一磁石;以及设置于镀覆槽的第二磁石。第一磁石和第二磁石构成为,在搅动件移动的期间互相施加磁力,以抑制搅动件的与第一端部相反的一侧的第二端部向靠近基板的方向和远离基板的方向振动。

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