公开(公告)号：CN103080005A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201180040757.8

申请日：2011-08-19

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C01B31/04 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B35/62218 ,  C04B35/63444 ,  C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C08L77/06

Abstract: 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。

公开(公告)号：CN102939260A

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN201180026301.6

申请日：2011-05-12

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  稻田卓 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C01B31/04 ,  C01B32/20

Abstract: 平坦性差的原料石墨膜在进行与其它材料的层压时会发生产生褶皱等不良情况。特别是对于大面积的石墨膜，往往会发生产生褶皱等不良情况。为了解决该问题而实施平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行热处理直至2000℃以上。通过该平坦性矫正处理，可获得平坦性良好的石墨膜。进一步利用内芯的热膨胀进行矫正时，可获得松弛度小的石墨膜。

公开(公告)号：CN102149633A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135947.0

申请日：2009-09-11

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 稻田卓 ,  西川泰司 ,  三代真琴

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C01B31/02 ,  C01B32/05 ,  C01B32/20

Abstract: 本发明能够在卷芯卷绕高分子膜进行热处理的碳质膜的制造方法中防止碳化工序中的原料膜彼此间的熔接，得到长尺寸·大面积的碳质膜。通过减压下及在流通惰性气体的同时的减压下对高分子膜进行热处理，能够防止熔接。减压的范围优选-0.08MPa～-0.01kPa。优选导入惰性气体的同时在-0.08MPa～-0.01kPa的范围的减压下进行碳化。此外，将卷绕于卷芯的高分子膜收容在外筒内，将由(外筒的内径-卷芯的直径)除以2所得的值设为a(mm)、高分子膜的卷厚设为b(mm)时，b除以a而得的值(b/a)在0.2～0.9的范围内。