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公开(公告)号：CN110291039B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN201880011275.1
申请日：2018-02-05
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/205
Abstract: 本发明中，提供在面内单方向上具备更高的热扩散性的石墨膜及其制造方法。石墨膜(3)具备：膜面内的热扩散率最高的方向即第1轴方向(1)、及在膜面内垂直于该第1轴方向(1)的第2轴方向(2)，所述第1轴方向(1)上的热扩散率除以所述第2轴方向(2)上的热扩散率而得的值是1.020以上且1.300以下。
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公开(公告)号：CN109071232B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN201780023529.7
申请日：2017-04-12
Applicant: 株式会社钟化
Abstract: 提供一种如下卷状石墨片：即使沿着纵向、倾斜朝向配置、或施加有振动、卷绕偏移、即卷侧端面的凹凸也难以增大。一种卷状石墨片，其是将长度为1m以上的石墨片卷绕于棒状体而成的，在对所述棒状体固定并将所述石墨片的长度方向的端部沿着所述卷的截面圆的切线方向以1.5N/cm的力牵拉了时，该端部沿着牵拉方向移动的距离是0mm以上且5mm以下。
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公开(公告)号：CN103958405A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280058698.1
申请日：2012-10-23
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , Y10T428/24628 , H01L2924/00
Abstract: 本发明中，实施一边对原料石墨膜施压一边加热至2000℃以上来进行热处理的矫正处理步骤，从而通过该矫正处理来控制石墨膜的松弛。通过在矫正处理步骤中使用表面状态相异的多个内芯，能够制作一种在一张膜中具有两种以上发挥各自效果的松弛的石墨膜。
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公开(公告)号：CN103380082A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201280008559.8
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: B65D85/671 , C01B32/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C08G73/10 , Y10T428/24744
Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外，作为间隙的形成方法，在将高分子膜卷成辊状时，将衬纸同时卷取，然后抽出所述衬纸，通过使用上述方法，对抑制碳质膜的熔合具有效果。
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公开(公告)号：CN105217608B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201510593364.X
申请日：2009-06-22
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/20 , C01B32/205
CPC classification number: C04B35/524 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B32/205 , C01B32/225 , Y10T428/30
Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107635767A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680020113.5
申请日：2016-04-08
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: H05K7/2039 , B32B3/30 , B32B7/14 , B32B9/00 , B32B9/007 , B32B37/12 , B32B37/1292 , B32B38/145 , B32B2309/105 , B32B2313/04 , B32B2457/00 , C01B32/20 , C01P2006/32 , C09J5/00 , C09J7/20 , C09J7/29 , C09J7/30 , C09J2201/28 , C09J2201/622 , C09J2203/326 , C09J2400/10 , C09J2433/00 , C09K5/14 , H01L23/34
Abstract: 本发明提供在不影响散热性的前提下抑制了当贴合到粘着对象体上时在粘着对象体与石墨复合膜之间产生气泡的石墨复合膜及其制造方法。还提供将粘着层与石墨膜层叠而成的石墨复合膜及其制造方法，其中，粘着层的与石墨膜相接的面的相反侧表面具有凹凸构造。
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公开(公告)号：CN105683088A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201480058525.9
申请日：2014-11-28
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B32/20
Abstract: 本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对使用含有70摩尔％以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔％以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。
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公开(公告)号：CN103998231B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201380004346.2
申请日：2013-01-11
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: F28F21/02 , B23B35/00 , B23K26/384 , C01B32/20 , C23C28/00 , F28F21/089 , Y10T428/12361 , Y10T428/24273 , Y10T428/24339 , Y10T428/30
Abstract: 本发明提供一种石墨复合膜，其是包含在表面上形成有金属层的石墨膜的石墨复合膜，可抑制金属层从石墨膜上的剥离。本发明的石墨复合膜的特征在于，其是在石墨膜的至少单面上形成有金属层的石墨复合膜，在所述石墨膜中形成有多个贯穿孔，按照与形成于所述石墨膜的表面上的所述金属层连接的方式在所述贯穿孔内形成金属层，且所述贯穿孔内的所述金属层从所述石墨膜的单面至相反侧的面为止连续地形成，贯穿孔外径间距离为0.6mm以下，且所述贯穿孔内的金属的面积相对于所述石墨复合膜的面积的比例为1.4％以上。
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公开(公告)号：CN102803137B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN200980160008.1
申请日：2009-06-22
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C04B35/524 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B32/205 , C01B32/225 , Y10T428/30
Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。
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公开(公告)号：CN103764555B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201280041428.X
申请日：2012-07-25
Applicant: 株式会社钟化
Abstract: 本发明的课题在于，在基于高分子热分解法制造辊状的碳质膜时，抑制碳质膜熔合。在经过以将高分子膜卷成辊状的状态进行热处理的工序来制造碳质膜的方法中，在该高分子膜的热分解起始温度以上、且相对于热处理开始前高分子膜的重量的重量减少率为40%的温度以下的温度时，为下述辊状高分子膜：（2-1）具有满足以下关系的高分子膜间的间隙：关于辊状高分子膜整体计算出的相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得的值即Ts/Tf为0.33～1.50，和/或（2-2）在辊状高分子膜的50%截面圆内具有空间，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上。
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