肖特基二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN111864004A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202011005172.X

    申请日:2020-09-23

    Abstract: 本公开涉及肖特基二极管及其制备方法。一种肖特基二极管包括:衬底层;位于衬底层上的第一结构和第二结构,其中第一结构与第二结构之间为隔离槽结构,第一结构包括第一主体区和从第一主体区延伸的悬臂梁,第二结构包括第二主体区;以及肖特基接触结构,该肖特基接触结构包括:台面结构,位于第二主体区上;以及钝化层,位于第二主体区上并且包围台面结构,其中钝化层的厚度与台面结构的厚度相同;以及接触金属层,位于台面结构上并与悬臂梁的端部相接,其中,接触金属层与台面结构相接触并且接触金属层的接触面尺寸大于台面结构的顶面尺寸,并且其中钝化层内部嵌入有重掺杂多晶硅,该重掺杂多晶硅具有导电特性。

    肖特基二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN111863973A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202011005049.8

    申请日:2020-09-23

    Abstract: 本公开涉及肖特基二极管及其制备方法。一种肖特基二极管包括:衬底层;位于衬底层上的第一结构和第二结构,其中第一结构与第二结构之间为隔离槽结构,第一结构包括第一主体区和从第一主体区延伸的悬臂梁,第二结构包括第二主体区,并且第二主体区包括位于衬底层上的重掺杂层以及位于重掺杂层上的轻掺杂层;以及肖特基接触结构,该肖特基接触结构包括:接触金属层,位于轻掺杂层上并与悬臂梁的端部相接;以及钝化层,位于轻掺杂层上并且包围接触金属层,其中重掺杂层中对应于接触金属层的位置具有一个或多个区域,这一个或多个区域与轻掺杂层相接并且与轻掺杂层的对应区域在接触界面形成耗尽区。

    太赫兹混频器以及电子组件

    公开(公告)号:CN113131106A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN201911425352.0

    申请日:2019-12-31

    Inventor: 马旭明 胡海帆

    Abstract: 本公开提供了一种太赫兹混频器和电子组件,该太赫兹混频器包括:金属腔体,金属腔体形成有射频输入波导和本振输入波导;微带线,微带线容纳在金属腔体内,并分别延伸至射频输入波导和本振输入波导所在的金属腔体内,以分别形成用于接收射频信号和本振信号的天线,微带线远离射频输入波导的第一端设置有金属接地层,其中,金属接地层的至少远离第一端的部分上设置有用于阻挡射频信号向第一端传输的阻挡结构。该太赫兹混频器通过在金属腔体内的金属接地层上设置阻挡结构,以阻断射频信号继续向第一端(即,接地端)传输,从而有效降低导电胶涂抹或其他焊料所引入的不确定因素对太赫兹混频器特性的影响,以提高太赫兹混频器的可靠性以及一致性。

    肖特基二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN111933743A

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN202011005059.1

    申请日:2020-09-23

    Abstract: 本公开涉及肖特基二极管及其制造方法。一种肖特基二极管包括:衬底层;位于衬底层上的第一结构和第二结构,其中第一结构与第二结构之间为隔离槽结构,第一结构包括第一主体区和从第一主体区延伸的悬臂梁,第二结构包括第二主体区;以及肖特基接触结构,该肖特基接触结构包括:台面结构,位于第二主体区上;以及钝化层,位于第二主体区上并且包围台面结构;以及接触金属层,位于台面结构上并与悬臂梁的端部相接,其中,接触金属层与台面结构相接触并且接触金属层的接触面尺寸大于台面结构的顶面尺寸。

    同面电极光电二极管阵列及其制作方法

    公开(公告)号:CN105448945B

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201511010038.8

    申请日:2015-12-29

    Abstract: 公开了一种同面电极光电二极管阵列及其制作方法。在低电阻率衬底,高电阻率外延类型的外延硅片的顶侧,形成第一导电类型重掺杂区域和第二导电类型掺杂区域,分别为光电二极管的阴极和阳极。该结构包括在阳极和阴极之间形成的沟槽结构,该沟槽结构可由空隙、绝缘材料、传导结构、反射材料和离子注入构成;也可以包括在阳极和阴极下方形成第一导电类型重掺杂区域、绝缘隔离层或带绝缘层的传导结构等。

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