喷墨记录用水性油墨
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1990622A

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200610156773.4

    申请日:2006-12-27

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明涉及在普通纸上以一次走纸方式印刷时的印刷浓度高、且适于高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体;其是包含含有着色剂的水不溶性聚合物粒子、以及满足下述I和II的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体、含有前述水分散体的水性油墨以及以一次走纸方式用前述油墨进行印刷的方法。I:含有0.001重量%的非离子性有机化合物的水的表面张力(25℃)为70mN/m以下,II:非离子性有机化合物在100g水中的溶解度(25℃)为0.30g以下。

    研磨液组合物
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1715358A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510076332.9

    申请日:2005-06-14

    Inventor: 吉田宏之

    CPC classification number: C09K3/1463 C09G1/02

    Abstract: 本发明提供一种研磨液组合物,其含有采用硅酸盐制造的胶体氧化硅和水,所述胶体氧化硅的一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm,其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度相对于每1g胶体氧化硅为0.06~0.3mmol;提供一种所述研磨液组合物的制造方法;提供一种基板的纳米划痕的减少方法以及基板的制造方法,其具有研磨工序,在该研磨工序中,使用含有采用硅酸盐制造的、一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm的胶体氧化硅和水的研磨液组合物研磨被研磨基板,其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度被调整成相对于每1g胶体氧化硅为0.06~0.3mmol。本发明的研磨液组合物适用于存储硬盘基板等的磁盘、光盘、磁光盘等记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。

    喷墨记录用水性油墨
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1990622B

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200610156773.4

    申请日:2006-12-27

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明涉及在普通纸上以一次走纸方式印刷时的印刷浓度高、且适于高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体;其是包含含有着色剂的水不溶性聚合物粒子、以及满足下述I和II的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体、含有前述水分散体的水性油墨以及以一次走纸方式用前述油墨进行印刷的方法,I:含有0.001重量%的非离子性有机化合物的水的表面张力(25℃)为70mN/m以下,II:非离子性有机化合物在100g水中的溶解度(25℃)为0.30g以下。

    喷墨记录用水性油墨
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101016428B

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN200710005458.6

    申请日:2007-02-08

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明是含有:着色剂;具有1.0~2.2的折射率且不包括颜料的粒子(I);以及具有碳原子数为8~30的饱和或不饱和的烃基、在100g水中的溶解度(25℃)为1g以下的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体以及含有上述水分散体的水性油墨,且本发明提供在普通纸上以一次走纸方式进行印刷时的印刷浓度高、且适合高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体。

    研磨液组合物
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1673306A

    公开(公告)日:2005-09-28

    申请号:CN200510059065.4

    申请日:2005-03-22

    CPC classification number: C09G1/02 B24B37/044 C09K3/1436 C09K3/1463

    Abstract: 本发明涉及一种包含水系介质和氧化硅粒子的研磨液组合物,其中氧化硅粒子的ζ电位为-15~40mV;涉及一种基板的制造方法,其包括如下工序:使用将包含水系介质与氧化硅粒子的研磨液组合物中的氧化硅粒子的ζ电位调节到-15~40mV的研磨液组合物,对被研磨基板进行研磨;涉及一种降低被研磨基板划痕的方法,其将包含水系介质和氧化硅粒子的研磨液组合物中的氧化硅粒子的ζ电位调节至-15~40mV。本发明的研磨液组合物适用于精密部件基板,例如磁盘、光盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨中。

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