混合光刻系统及混合光刻方法

    公开(公告)号:CN106681106A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710206374.2

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: G03F7/70383 G03F7/70408 G03F7/7045

    Abstract: 一种混合光刻系统,包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件,光束整形器用于整形光源发出的光束;光场调制器用于将整形后的光束生成图形光;成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻;位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能,可进行混合光刻,提高了纳米光刻效率,推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。

    一种头戴式三维显示装置
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106371218A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610970307.3

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置,包括图像生成装置,和对应眼睛的可视镜片,所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜,从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片,所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配,在人眼前方投射出会聚波面,形成虚拟景象;或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加,得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像,形成虚拟景象,其和现实景物在人眼中成像的原理一致,因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。

    彩色动态图的激光打印装置及方法

    公开(公告)号:CN104191825B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201410448548.2

    申请日:2014-09-04

    CPC classification number: B41M3/148 B41J2/442 B41M5/267 G02B3/0056 G02B5/128

    Abstract: 本发明公开了一种彩色动态图的激光打印装置及方法,其中,彩色动态图的激光打印装置包括:光学系统和记录材料,记录材料包括由多个微球或微透镜形成的折光层、形成于多个微球或微透镜焦面上的遮光层;光学系统包括激光器和图形生成器件,激光器发出的激光经图像生成器件处理后,照射到记录材料上,照射到记录材料上的激光经折光层聚焦在遮光层上,当聚焦的激光的能量大于遮光层的蒸发阈值时,遮光层上相应形成聚焦点。通过本发明的彩色动态图的激光打印装置对激光束入射角度的偏转,在记录材料的焦面上形成不同位置的激光聚焦点,实现不同颜料的热堆积。重复入射角度的偏转,形成多通道颜色图形的激光打印,最终形成彩色多通道动态图像的再现。

    一种反射式分光光栅及干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN103424795B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201310395380.9

    申请日:2013-09-03

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B5/1861 G03F7/70408

    Abstract: 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统,该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区,所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构,该光栅结构具有槽形反射面和非反射区,所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制,使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率,通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形,具有良好的边界质量,能够完成进行精密的拼接图形,使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

    掩膜版及其制备方法和图形化方法

    公开(公告)号:CN103969941A

    公开(公告)日:2014-08-06

    申请号:CN201410224727.8

    申请日:2014-05-26

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法和图形化方法,其中掩膜版包括:掩膜衬底;形成于所述掩膜衬底上的若干纳米凸起,所述若干纳米凸起之间具有间距;覆盖于所述若干纳米凸起表面的遮挡层。本发明的掩膜版的优点有:(1)遮挡层超薄,用原来厚度三分之一的遮挡层厚度就达到3级以上光学密度,减少了遮挡层中物料的使用量。(2)吸收率高,大部分反射光能陷于纳米凸起,有利于光刻线条形貌品质的提升。(3)工艺过程与传统掩膜兼容,制作成本低。(4)图形化去除遮挡层后露出的透光部分,纳米凸起具有减反增透作用,而且由于其超小结构,将不影响入射波面的传输,对接近式和投影式光刻均能适用。(5)具有大带宽和角度不敏感的吸波特性。

    一种并行激光直写系统及光刻方法

    公开(公告)号:CN103777474A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201410076822.8

    申请日:2014-03-04

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法,通过设置两个或多个图形发生器,将不同的图形发生器按不同的角度放置,使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示,从而消除了原有的斜线上的锯齿现象,并保证了直线和斜线之间的线宽相等,提高了图形的线宽均匀性,使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

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