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公开(公告)号：CN105467745A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510624801.X
申请日：2015-09-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
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