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公开(公告)号：CN105319831B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201510418721.9
申请日：2015-07-16
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩膜的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN105717738A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201510926381.0
申请日：2015-12-14
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉川裕
Abstract: 光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，光掩模的制造方法能够对通过一次成膜而形成的光学膜准确地实施期望量的减膜，显示装置的制造方法使用了该光掩模。包含以下工序：准备在透明基板上涂覆光学膜和第1抗蚀剂膜而得到的光掩模基板的工序；形成第1抗蚀剂图案的工序；蚀刻去除光学膜的第1构图工序；剥离第1抗蚀剂图案并涂覆第2抗蚀剂膜的工序；形成第2抗蚀剂图案的工序；对光学膜进行蚀刻减膜的第2构图工序；以及剥离第2抗蚀剂图案的工序，以第2抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分成为比第1抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式，对第2描绘图案实施了尺寸减小。
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公开(公告)号：CN105319831A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510418721.9
申请日：2015-07-16
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩膜的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN110673436A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910982223.5
申请日：2015-07-16
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩膜的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101989043A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN201010243544.2
申请日：2010-07-30
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及多色调光掩模及其制造方法，所述多色调光掩模在透明基板上形成有规定的转印图案，所述规定的转印图案包含遮光部、透光部和半透光部。遮光部是在透明基板上依次层积具有导电性的蚀刻平衡膜、半透光膜和遮光膜而成，半透光部是在透明基板上依次层积蚀刻平衡膜和半透光膜而成，透光部是透明基板露出而成的。
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公开(公告)号：CN105717738B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201510926381.0
申请日：2015-12-14
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉川裕
Abstract: 光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，光掩模的制造方法能够对通过一次成膜而形成的光学膜准确地实施期望量的减膜，显示装置的制造方法使用了该光掩模。包含以下工序：准备在透明基板上涂覆光学膜和第1抗蚀剂膜而得到的光掩模基板的工序；形成第1抗蚀剂图案的工序；蚀刻去除光学膜的第1构图工序；剥离第1抗蚀剂图案并涂覆第2抗蚀剂膜的工序；形成第2抗蚀剂图案的工序；对光学膜进行蚀刻减膜的第2构图工序；以及剥离第2抗蚀剂图案的工序，以第2抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分成为比第1抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式，对第2描绘图案实施了尺寸减小。
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公开(公告)号：CN103383522B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201310153488.7
申请日：2013-04-27
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉川裕
Abstract: 本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，利用该光掩模能够可靠且精密地转印微细图案。光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案具有透光部、形成有曝光光的一部分透射的半透光膜的半透光部以及形成有遮光性的膜的遮光部，其中，半透光膜相对于在转印用图案的转印中使用的曝光光的代表波长具有2%～60%的透射率，且具有90°以下的相移作用，半透光部与遮光部的边缘邻接，且形成为无法由曝光装置析像的宽度。
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公开(公告)号：CN104423141A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410407479.0
申请日：2014-08-19
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/26 , G03F7/0035
Abstract: 光掩模及其制造方法、图案转印方法和显示装置制造方法，提高细微图案的转印性。显示装置制造用光掩模通过如下方式形成，在透明基板上，利用湿式蚀刻分别对相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜进行图案化，形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的转印用图案，其中，遮光部是依次层叠相位偏移膜、蚀刻掩模膜和遮光膜而成的，相位偏移部是相位偏移膜，或者依次层叠相位偏移膜和蚀刻掩模膜而成的，透光部是使透明基板表面露出而成的，相位偏移膜由含有铬的材料构成，蚀刻掩模膜由对相位偏移膜的蚀刻液具有耐蚀刻性的材料构成，相位偏移部与透光部具有彼此邻接的部分，而且，相位偏移部与透光部相对于光掩模的曝光光的代表波长具有大致180度的相位差。
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公开(公告)号：CN103383523A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201310153490.4
申请日：2013-04-27
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，能够形成微细且高精度的孔图案。光掩模具有通过对形成在透明基板上的至少半透光膜进行图案化而形成的包含透光部和半透光部的转印用图案，其中，透光部通过透明基板以5μm以下的宽度露出而形成，半透光部包围透光部，且由形成在透明基板上的半透光膜形成，半透光膜的相对于曝光光的代表波长的透射率为2%～60%、且相移量在90°以下。
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