公开(公告)号：CN114890668B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202210426006.X

申请日：2018-08-01

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 盐田勇树

IPC: C03C3/19 ,  C03C3/21 ,  C03C3/064 ,  G02B1/00

Abstract: 本发明提供耐酸性和耐候性优异的光学玻璃及光学元件。一种光学玻璃，是包含选自Li+、Na+及K+中的1种以上碱金属离子且包含P5+、B3+及Ba2+作为阳离子成分的磷酸盐玻璃，Al3+、Ln3+、Ti4+、Zr4+、Nb5+、Ta5+、Bi3+及W6+的合计含量[Al3++Ln3++Ti4++Zr4++Nb5++Ta5++Bi3++W6+]为10阳离子％以上(其中，Ln3+表示La3+、Gd3+、Y3+、Yb3+及Lu3+的合计含量[La3++Gd3++Y3++Yb3++Lu3+]。)，P5+和B3+的合计含量[P5++B3+]为30～50阳离子％，P5+的含量与P5+和B3+的合计含量的阳离子比[P5+/(P5++B3+)]为0.50以上且0.84以下，Li+、Na+及K+的合计含量[Li++Na++K+]为5阳离子％以上，Ba2+的含量为5阳离子％以上，Mg2+、Ca2+、Sr2+及Ba2+的合计含量[Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+]为10阳离子％以上，阿贝数νd为40以上。

公开(公告)号：CN105452183A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201480032013.5

申请日：2014-06-03

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 盐田勇树

IPC: C03C3/247 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03C3/247 ,  C03B23/03 ,  C03C3/23

Abstract: 本发明一个方式涉及光学玻璃，其作为必要成分含有作为阳离子成分的P5+、Al3+、Ba2+及R2+(R2+为选自Mg2+、Ca2+、Sr2+及Zn2+的一种以上)，作为必要成分含有作为阴离子成分的O2-及F-，关于阳离子成分比率，P5+、Al3+、Ba2+、R2+及R’+(R’+为选自Li+、Na+及K+的一种以上)的合计含量为86％以上，摩尔比Al3+/P5+为0.70以上，摩尔比Al3+/(Ba2++R2+)为0.40以上，摩尔比Ba2+/(Ba2++R2+)的范围为0.50～0.85，阿贝数νd的范围为72以上且不足80，且折射率nd和阿贝数νd满足nd≥2.179-0.0085×νd。

公开(公告)号：CN1924697B

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN200610094622.0

申请日：2002-06-04

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 盐田勇树 ,  野泽顺 ,  大久保亮 ,  三井英明

IPC: G03F1/32

Abstract: 一种半色调型相移掩膜坯料，是用于制造以下这种半色调型相移掩膜，即，所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部，并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性，能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度。其中，用于形成移相部的相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜，以及形成于所述膜和透明基板之间的刻蚀阻止膜构成。

公开(公告)号：CN1896868B

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN200610094621.6

申请日：2002-06-04

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 盐田勇树 ,  野泽顺 ,  大久保亮 ,  三井英明

IPC: G03F1/32

Abstract: 一种半色调型相移掩膜坯料，是用于制造以下这种半色调型相移掩膜，即，所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部，并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性，能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度。其中，用于形成移相部的相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜，以及形成于所述膜和透明基板之间的刻蚀阻止膜构成。