公开(公告)号：CN215466779U

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202120566987.9

申请日：2021-03-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 新村聪 ,  高柳康治 ,  柴崎健太 ,  稻田博一

IPC: B08B9/08 ,  B08B9/093 ,  H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种清洗用治具，当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时，与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与所述周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。

公开(公告)号：CN207303048U

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：CN201720684031.2

申请日：2017-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 安倍昌洋 ,  稻田博一 ,  东徹 ,  中岛常长 ,  木下尚文 ,  梶原英树

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162

Abstract: 本实用新型提供一种液处理装置。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。

公开(公告)号：CN307061024S

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202130496134.8

申请日：2021-08-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 柴崎健太 ,  稻田博一 ,  新村聪 ,  高柳康治

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于半导体制造的清洁装置。
2.本外观设计产品的用途：本产品是用于半导体制造中的清洁工艺的清洁装置。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图2。
5.指定设计1为基本设计。