公开(公告)号：CN102741987A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201180008023.1

申请日：2011-01-25

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 日比野泰雄 ,  梅崎智典 ,  菊池亚纪应 ,  毛利勇 ,  冈本觉

IPC: H01L21/3065 ,  C07C21/22 ,  C09K13/00

CPC classification number: H01L21/31055 ,  C09K13/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32136

Abstract: 本发明的干蚀刻剂的特征在于，其包含由化学式CF3C≡CX（其中，X表示H、F、Cl、Br、I、CH3、CFH2或CF2H。）表示的氟化丙炔和下述中的任一者：（B）选自由O2、O3、CO、CO2、COCl2以及COF2组成的组中的至少一种气体，（C）选自由F2、NF3、Cl2、Br2、I2以及YFn（式中，Y表示Cl、Br或I。n表示整数，1≦n≦5。）组成的组中的至少一种气体，以及（D）选自由CF4、CHF3、C2F6、C2F5H、C2F4H2、C3F8、C3F4H2、C3ClF3H以及C4F8组成的组中的至少一种气体，所述干蚀刻剂发挥对环境的负担小这一效果，且工艺窗口广，还可应对要求高深宽比的加工而无需特殊的基板的激发操作等。

公开(公告)号：CN101959792A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980108109.4

申请日：2009-02-16

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 毛利勇 ,  菊池亚纪应

IPC: C01B11/24

CPC classification number: C01B11/24 ,  C01B7/24

Abstract: 本发明公开了一种在含氧卤代氟化物的制造中使用气液反应的制造方法。该方法为通过使含有氟化卤和氟气的混合气体与H2O源反应来制造通式：XOmF(其中，X表示构成前述氟化卤的卤族元素(Cl、Br或I)，m表示3或4。)所示的含氧卤代氟化物的方法。