公开(公告)号：CN102054279A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010526267.6

申请日：2010-10-27

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 藤井贵志 ,  古谷勉

IPC: G06T11/00

Abstract: 本发明提供一种随机图案的生成方法，具备：对随机地配置有多个点的、或配置有光亮度分布的第一图案，应用从第一图案所含的空间频率成分中至少除去或降低空间频率不足特定值的低空间频率成分的滤波器，生成第二图案的工序；和通过对第二图案应用抖颤调谐法生成被变换为离散化的信息的第三图案的工序。包含通过蒙特卡罗法使孤立的像素移动而生成第四图案的工序也可。

公开(公告)号：CN101950038A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN201010225243.7

申请日：2010-07-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 古谷勉 ,  藤井贵志 ,  宫本浩史 ,  神野亨

IPC: G02B1/11

Abstract: 本发明提供一种防眩膜及其制造方法，所述防眩膜具备透明支承体、层叠在该透明支承体上的具有凹凸表面的防眩层，其中，空间频率0.01μm-1时该凹凸表面的标高的能谱H12与空间频率0.04μm-1时该凹凸表面的标高的能谱H22之比H12/H22在3～15的范围内，防眩层包括粘合剂用树脂和分散于该粘合剂用树脂中的微粒子，防眩层的凹凸表面由利用粘合剂用树脂形成的表面构成。

公开(公告)号：CN101923181A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN201010200043.6

申请日：2010-06-08

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 神野亨 ,  古谷勉 ,  藤井贵志 ,  宫本浩史

IPC: G02B1/11 ,  G03F7/00 ,  B29C33/38

Abstract: 本发明提供一种防眩膜的制造方法、该制造方法中适合使用的模具的制造方法、以及用于该制造方法的灰度等级图形，所述防眩膜的制造方法包含基于灰度等级图形在透明基材上形成凹凸表面的工序，该灰度等级图形为最小一个边的长度为15mm以上，且灰度等级图形的能谱在空间频率0.025～0.125μm-1的范围内呈现最大值，该凹凸表面由凹凸表面单元的重复结构构成，所述凹凸表面单元由与灰度等级图形的灰度等级对应的凹部和凸部构成。

公开(公告)号：CN101876722A

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN201010171312.0

申请日：2010-04-28

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 萨斯瓦提·芭奈慈 ,  藤井贵志

IPC: G02B5/30

Abstract: 一种线栅偏振器，在基板上以比光的波长短的间隔平行地配置有作为光栅线的多个金属线，其特征在于，在光栅线的表面上层叠有由包括金属氮化物、金属砷化物、金属磷化合物以及金属与锑的化合物的组中所选择的1种以上的半导体化合物构成的层。

公开(公告)号：CN101846758A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN201010149458.5

申请日：2010-03-25

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 古谷勉 ,  藤井贵志 ,  宫本浩史 ,  神野亨

IPC: G02B5/02 ,  G02B1/11 ,  G02B1/12 ,  G03F7/00

Abstract: 一种透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法、及在该方法中适合使用的模具的制造方法，包括：适用从在第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；基于该图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。还可以包括制作利用抖动法变换为离散化的信息的第三图案的工序、和利用蒙特-卡罗法使孤立的像素移动，制作第四图案的工序。

公开(公告)号：CN101799570A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN201010107267.2

申请日：2010-02-01

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 金泽笃志 ,  藤井贵志 ,  宫北衡

IPC: G02B5/30 ,  G03B21/14

Abstract: 本发明提供如下的偏振片、其制造方法以及使用该偏振片的光学部件和液晶显示装置，所述偏振片具有不同的2片透明基板介由粘合剂夹持起偏镜的层叠结构，其中一片透明基板是单晶基板，另一片透明基板是非晶质基板，非晶质基板的厚度比单晶基板的厚度薄。

公开(公告)号：CN206594055U

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201720321382.7

申请日：2017-03-29

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 藤井贵志 ,  森本和也

IPC: G01N21/3554 ,  G01N21/3563

Abstract: 一实施方式的水分测定装置将红外线向光学膜照射而测定光学膜的水分率，所述水分测定装置的特征在于，具备：光源部，其输出具有相对于水的吸收波长且向作为测定对象的光学膜照射的红外线；反射板，其将照射至光学膜并透过光学膜后的红外线向光学膜侧反射；检测部，其检测由反射板反射且透过光学膜后的红外线；以及散射板，其配置于从光源部至光学膜的红外线的光路上，使红外线一边散射一边通过。

公开(公告)号：CN206594056U

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201720321127.2

申请日：2017-03-29

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 藤井贵志 ,  森本和也

IPC: G01N21/3563

Abstract: 一实施方式的水分测定装置将红外线向光学膜照射而测定光学膜的水分率，所述水分测定装置的特征在于，具备：照射部，其向作为测定对象的光学膜照射具有相对于水的吸收波长的红外线；聚光部，其将从照射部输出的红外线转换为会聚光并向光学膜入射；反射部，其将入射至光学膜并透过光学膜后的红外线向光学膜侧反射；以及检测部，其检测由反射部反射且透过光学膜后的红外线。