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发明公开
抗辐射导电光学防护膜失效

公开(公告)号：CN1598619A

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：CN200410043737.8

申请日：2004-07-22

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 张丽新 , 何世禹 , 杨德庄 , 魏强 , 赵丹

IPC: G02B1/10 , G02B1/00

Abstract: 抗辐射导电光学防护膜，它涉及一种在光学器件表面使用的防护膜。现有防护膜在长期接受空间辐射环境作用后，光谱透过率明显下降，且当航天器遇磁层亚暴环境时，表面被充电，当放电脉冲耦合进入电子系统时造成航天器故障。本发明的各成分按重量份数计：无水乙醇1～4份，乙酰丙酮2～6份，甲酰胺0.02～1份，盐酸0.01～3份，In(NO3)30.0001～0.001份，SnCl40.00001～0.0004份，Ce(NO3)30.0002～0.004份，LaCl30.0003～0.005份。本发明利用Ce、La、Sn、In元素特性制备的多元素氧化物复合膜，具有高的导电性能、抗辐射性能和光学性能稳定性，在可见及近红外区的光谱透过率达到92％以上。

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