测量夹具
    31.
    外观设计

    公开(公告)号:CN305902976S

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN201930701376.9

    申请日:2019-12-16

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:测量夹具。
    2.本外观设计产品的用途:用于对半导体制造用CMP装置的研磨台表面或研磨垫表面进行扫描来获取表面状态的轮廓。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.设计1至设计3的后视图与设计1至3的主视图相同,省略设计1至设计3的后视图;设计1至设计3的左视图与设计1至3的右视图相同,省略设计1至设计3的左视图。
    6.指定设计1为基本设计。
    7.本案为同一产品的相似外观设计,其所包含的项数为3项。

    修整盘用磨粒
    32.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302617585S

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201330087323.5

    申请日:2013-03-20

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为修整盘用磨粒。2.本外观设计产品用于半导体制造用CMP装置的修整盘中,例如嵌合在设于圆盘状的盘平面部的圆形孔中而形成修整盘,本外观设计产品的底面为修整面。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图、左视图、右视图与主视图相同,故省略后视图、左视图和右视图。

    整修盘
    33.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302617584S

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201330087322.0

    申请日:2013-03-20

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为整修盘。2.本外观设计产品用于半导体制造用CMP装置,通过定位销和基于磁铁或真空的吸引力固定在保持器上进行使用,将凸状的夹具抵接于中央的孔并按压本外观设计产品的外周部,将本外观设计产品从上述吸引力脱离。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图、左视图、右视图与主视图相同,故省略后视图、左视图和右视图。

    研磨盘用研磨片
    34.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302760785S

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201330368614.1

    申请日:2013-07-26

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨盘用研磨片。2.本外观设计产品是在半导体制造用CMP装置的研磨盘中使用的研磨片。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图为最能表明设计要点的视图。5.后视图因与主视图相同而被省略,左视图因与右视图相同而被省略。

    修整盘
    35.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302617583S

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201330087321.6

    申请日:2013-03-20

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为修整盘。2.本外观设计产品用于半导体制造用CMP装置,通过定位销和基于磁铁或真空的吸引力固定在保持器上进行使用,在设于盘上的圆形孔中嵌合磨料而形成,将凸状的夹具抵接于中央的孔并按压本外观设计产品的外周部,将本外观设计产品从上述吸引力脱离。3.本外观设计为针对同一产品的3项相似外观设计,其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1主视图为最能表明设计要点的视图。6.由于设计1至3的后视图、右视图分别与设计1至3的主视图、左视图相同,故省略设计1至3的后视图和右视图。

    修整盘
    36.
    外观设计

    公开(公告)号:CN303190781S

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201430451065.9

    申请日:2014-11-14

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为修整盘。2.本外观设计产品用于半导体制造用CMP装置,通过定位销和基于磁铁或真空的吸引力固定在保持器上进行使用,将凸状的夹具抵接于中央的孔并按压本外观设计产品的外周部,将本外观设计产品从上述吸引力脱离。在“安装于保持器的状态参考图”中,橙色部分是与研磨垫的接触面。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图、左视图、右视图分别与主视图相同,故省略后视图、左视图和右视图。

    半导体研磨盘清洗用刷
    37.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302510974S

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201330046128.8

    申请日:2013-02-06

    Designer: 筱崎弘行

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称为半导体研磨盘清洗用刷。2.本外观设计产品的用途是,用于对研磨半导体材料的研磨盘的平板接触面进行清洗。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.后视图因与主视图相同所以省略;左视图因与右视图相同所以省略。6.各视图中在刷部示出的多个圆柱形是将多根刷毛聚在一起并简化示出的形状。

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