硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法

    公开(公告)号:CN110850680A

    公开(公告)日:2020-02-28

    申请号:CN201910707915.9

    申请日:2019-08-01

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种在提高保存稳定性及放射线感度的同时,即便为通过200℃以下的硬化煅烧工艺而获得的膜也可形成硬度高、耐溶剂性优异的硬化膜的硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法。用以解决所述课题而成的发明为一种硬化性组合物,其含有(A)具有聚合性基的化合物、(B)感光剂、(C)热活性型延迟荧光化合物。

    液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示元件

    公开(公告)号:CN103571499B

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201310252869.0

    申请日:2013-06-24

    Abstract: 本发明提供了一种液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示元件,所述液晶配向剂可形成具有优异的耐光性的液晶显示元件、且涂布性及重新加T性高。所述液晶配向剂包括[A]由下述式(1)所表示的化合物、及[B]聚合物。式(1)中,R1为氢原子、碳数6~20的一价的芳香族烃基、碳数4~20的一价的杂环基、或这些芳香族烃基及杂环基所具有的氢原子的一部分或全部由取代基取代而成的基。R2为碳数1~12的烷基或碳数1~12的烷氧基。R3及R4为氢原子、卤素原子或碳数1~20的烷基。[B]聚合物优选选自由聚酰胺酸、聚酰亚胺及聚硅氧烷所组成的群组中的至少1种,更优选选自由聚酰胺酸及聚酰亚胺所组成的群组中的至少1种。

    正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

    公开(公告)号:CN102213918B

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201110081626.6

    申请日:2011-03-29

    Inventor: 一户大吾

    Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明的目的在于提供一种正型放射线敏感性组合物,该组合物可以形成除了具有优异的耐热性和透明性以外,还具有无涂布不匀的高度平整性(膜厚均匀性)的层间绝缘膜,而且该组合物可以高速涂布,具有高的放射线灵敏度。本发明的正型放射线敏感性组合物包含:[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物、[B]光酸产生剂以及[C]具有含氟的结构单元和含硅的结构单元的共聚物。

    感光性组成物、微透镜阵列及立体图像显示装置

    公开(公告)号:CN102955358A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201210280955.8

    申请日:2012-08-08

    Inventor: 一户大吾

    Abstract: 本发明提供一种形成在基板间夹持液晶层而成的微透镜阵列的间隔件等构件的感光性组成物,且提供一种微透镜阵列,提供一种立体图像显示装置。使用(A)碱溶性树脂、(B)多官能性单体、(C)感光性聚合引发剂及(D)有机溶剂而调制感光性组成物。于表面形成有梳状电极(6)与公共电极(5)的一对基板(2)、基板(3)之间,夹持20μm~100μm厚的液晶层(4)且由该感光性组成物而形成间隔件(7),从而构成微透镜阵列(1)。由具有间隔件(7)的微透镜阵列(1)、可切换显示平面图像及立体图像的图像显示部(102)而构成立体图像显示装置(100)。

    新化合物、放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法

    公开(公告)号:CN102234247A

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN201110101273.1

    申请日:2011-04-20

    Abstract: 本发明涉及一种新化合物、放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的在于提供:一种化合物,其在作为光聚合引发剂使用时,具有高的放射线敏感度,且在放射线敏感性组合物中的溶解性和所得固化膜的透明性优异;以及一种放射线敏感性化合物,其能获得具有高透明性和表面硬度的固化膜。本发明为下式(1)表示的化合物。在下式(1)中,R4为脂环式烃基,其氢原子的一部分或全部被碳原子数为1~12的烷基取代。此外,本发明为含有作为[A]光聚合引发剂的上述化合物和[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物的放射线敏感性组合物。上述放射线敏感性组合物优选还含有[C]碱可溶性树脂。

    正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

    公开(公告)号:CN102213918A

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN201110081626.6

    申请日:2011-03-29

    Inventor: 一户大吾

    Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明的目的在于提供一种正型放射线敏感性组合物,该组合物可以形成除了具有优异的耐热性和透明性以外,还具有无涂布不匀的高度平整性(膜厚均匀性)的层间绝缘膜,而且该组合物可以高速涂布,具有高的放射线灵敏度。本发明的正型放射线敏感性组合物包含:[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物;[B]光酸产生剂以及[C]具有含氟的结构单元和含硅的结构单元的共聚物。

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