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公开(公告)号：CN101828140A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880112270.4
申请日：2008-10-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B27/42
CPC classification number: G03F7/70408 , G02B5/1809 , G02B5/1814
Abstract: 本发明提供了一种使用衍射光栅的激光干涉光刻方法，该方法包括以下步骤：(a)在将要形成重复精细图形的工作基板上形成光刻胶层；(b)在光刻胶层上形成折射率匹配材料层；(c)在折射率匹配材料层上形成衍射光栅的周期为λ/ng～λ/n0的衍射光栅层，其中λ为激光束的波长，ng为衍射光栅的折射率，且n0为空气或真空中的折射率；以及(d)通过向衍射光栅层上垂直输入激光束并利用具有相同绝对值的正负级衍射光的相互干涉使光刻胶层曝光。该方法可以实现具有更高分辨率的干涉图形，且可使用较低相干性的激光源。
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公开(公告)号：CN104937697B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201480005571.2
申请日：2014-08-01
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/22
CPC classification number: G03F7/70058 , G03F1/00 , G03F1/34 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/7035
Abstract: 本发明涉及一种光掩模，一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法，可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案，并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺，诸如辊对辊工艺。此外，使用由挠性材料形成的光掩模，因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案，并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上，本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。
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公开(公告)号：CN103703418B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201280036229.X
申请日：2012-07-23
Applicant: LG化学株式会社
Abstract: 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模，所述基膜被配置成沿弯曲表面移动，所述掩模包括掩模体，所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案，以提高产品的质量，并精确地获得所述基膜的性质。
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公开(公告)号：CN104105987B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280069066.5
申请日：2012-12-05
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3091 , B01J19/12 , B29D11/00 , B29D11/00644 , G02B5/1838 , G02B5/3058 , G02B5/3075 , G02B27/283
Abstract: 本申请提供一种偏振光分离元件、其制备方法、光照射装置、照射光的方法和制备有序光控取向膜的方法。所述偏振光分离元件相对于紫外线和热具有优异的耐久性，以及低间距依赖性的偏振特性，使得其易于制备。此外，该偏振光分离元件即使在短波长区内也可以实现高偏振度和消光比。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105493200A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480043857.X
申请日：2014-12-17
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01B1/22 , C08K3/32 , C08K2003/321 , H05K1/095 , Y10T428/24802 , Y10T428/24909 , C08L69/00
Abstract: 本发明涉及一种用于形成导电图案的组合物，以及具有导电图案的树脂结构，所述组合物能够通过简化工艺在各种聚合物树脂产品或树脂层上形成精细导电图案，并且更有效地满足艺术要求例如实现各种颜色等。用于形成导电图案的组合物包含：聚合物树脂；以及非导电金属化合物，该非导电金属化合物包含第一金属和第二金属，并且是具有预定化学结构的三维NASICON结构。所述用于形成导电图案的组合物可以是通过电磁波照射形成导电图案的组合物，其中通过电磁波照射由所述非导电金属化合物形成包含所述第一金属或其离子的金属核。
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公开(公告)号：CN104812571A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201480003201.5
申请日：2014-08-01
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H05K3/10 , B32B15/04 , B32B2457/12 , H01L51/0021 , H01L51/003 , H01L51/441 , H01L51/5203 , H05K1/028 , H05K1/0283 , H05K3/20 , H05K2201/0382 , H05K2203/107 , H05K2203/1105
Abstract: 本申请涉及一种具有3D结构的金属图形的制造方法，一种金属图形层压板以及该金属图形层压板的用途。根据所述金属图形的制造方法，所述具有3D结构的金属图形可以有效地形成在接受器上。尤其，具有3D结构的金属图形也可以有效且快速地转移到接受器的表面，例如，金属图形无法轻易转移的柔性基板。例如，使用该方法制造的金属图形层压板可以有效地用于柔性电子器件的电极层或者金属互连线。
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公开(公告)号：CN104583822A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380045158.4
申请日：2013-08-29
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B5/3058 , B05D5/06 , G02B5/20 , G02B5/30 , G02B5/3025 , G02F1/133788
Abstract: 本申请涉及一种偏振光分离元件的制造方法以及偏振光分离元件。本申请能够提供：通过简单而有效的过程来制造具有优异的偏振光分离能力和光透射能力的偏振光分离元件的方法；以及所述具有优异的偏振光分离能力和光透射能力的偏振光分离元件。
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公开(公告)号：CN102947742B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201180031272.2
申请日：2011-04-22
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02F1/1323 , G02F1/1533 , G02F2001/1536 , G02F2201/44
Abstract: 本发明涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法，更具体而言，涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法，其中，所述隐私保护滤光片包括：第一透明基板；第二透明基板，其以与第一透明基板间隔预定的距离且相对地设置；电解质，其填充在第一透明基板和第二透明基板之间；和第二透明导电层，其设置在电解质与第二透明基板之间，其中第一透明基板包括：具有线栅和沟槽的凸凹图形，其形成于第一透明基板上；第一透明导电层，其形成于凸凹图形的线栅和沟槽上；和电致变色层，其沿着线栅的侧壁在第一透明导电层上形成，并且包含电致变色材料以根据是否施加电信号来透射或吸收可见光。本发明的隐私保护滤光片在隐私模式下有效地阻挡了光的侧向透射而没有损失前侧透射，实现宽视野模式和窄视野模式之间的快速转换，并确保优异的滤光性能和驱动稳定性。
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公开(公告)号：CN101828140B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200880112270.4
申请日：2008-10-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B27/42
CPC classification number: G03F7/70408 , G02B5/1809 , G02B5/1814
Abstract: 本发明提供了一种使用衍射光栅的激光干涉光刻方法，该方法包括以下步骤：(a)在将要形成重复精细图形的工作基板上形成光刻胶层；(b)在光刻胶层上形成折射率匹配材料层；(c)在折射率匹配材料层上形成衍射光栅的周期为λ/ng～λ/n0的衍射光栅层，其中λ为激光束的波长，ng为衍射光栅的折射率，且n0为空气或真空中的折射率；以及(d)通过向衍射光栅层上垂直输入激光束并利用具有相同绝对值的正负级衍射光的相互干涉使光刻胶层曝光。该方法可以实现具有更高分辨率的干涉图形，且可使用较低相干性的激光源。
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