单相堇青石透明耐磨釉及其制备方法

    公开(公告)号:CN107082566B

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201710209281.5

    申请日:2017-03-31

    Abstract: 本发明公开了单相堇青石透明耐磨釉,其组分按以下重量百分比含有:Al2O3:17~33;MgO:11~28;碱金属氧化物:0.5~3;CaO:0~5;B2O3:1~3;TiO2:0~7;SiO2:余量。本发明还公开了上述单相堇青石透明耐磨釉的制备方法,包括:(1)称取原料,经球磨混合制浆,得到浆料;(2)将浆料施釉于素烧过的坯体上;(3)施釉后的坯体于1300~1400℃保温30~40min,获得单相堇青石透明耐磨釉。本发明提高了传统陶瓷釉面砖的耐磨性,同时提高了原料的利用率。

    一种低温烧成高强超薄陶瓷砖的制备方法

    公开(公告)号:CN103496951A

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:CN201310415793.9

    申请日:2013-09-12

    Abstract: 本发明公开了一种低温烧成高强超薄陶瓷砖的制备方法,属于材料科学领域。本发明的制备方法为将铝土尾矿经600℃煅烧2小时,获得煅烧铝土尾矿石,取煅烧铝土尾矿石50~71重量份,长石9~19重量份,石英砂15~25重量份,滑石1.5~4.5重量份和球土1.5~3重量份;球磨至粒度250目,喷雾造粒,干压成型,厚度3mm,1100~1170℃烧成,获得高强超薄陶瓷砖。本发明所获得的高强超薄陶瓷砖在建筑陶瓷中广泛应用。

    一种高强度抗震隔热多孔陶瓷的制备方法

    公开(公告)号:CN100586902C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200710031107.2

    申请日:2007-10-26

    Abstract: 本发明公开了一种高强度抗震隔热多孔陶瓷的制备方法,该方法把纯度大于98.4%的莫来石球磨得粒度小于1μm的莫来石粉;将采用共沉淀法制备的氢氧化锆和氢氧化钇混合溶胶加入莫来石粉中,加入三乙醇胺为分散剂,混和均匀后干燥、在500~900℃温度范围煅烧,制备出氧化锆分散均匀的氧化锆/莫来石粉体;然后在无水乙醇中加入淀粉,然后用超声波对其进行分散,将其加入到氧化锆/莫来石粉中。造粒后,采用先干压成型再静压成型;从室温升温到700℃,去除淀粉,再快速升温至1500℃~1600℃烧成高强度抗震隔热多孔陶瓷。本发明制备的多孔陶瓷强度高,气孔的孔径小、分布比较集中,具有良好的抗热震性和隔热性能。

    玻璃材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116675429A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310559822.2

    申请日:2023-05-17

    Abstract: 本发明公开了玻璃材料及其制备方法和应用。本发明的玻璃材料包括以下摩尔百分比的组分:氧化镧:5%~25%;氧化铋:40%~70%;氧化硼:15%~40%;二氧化锆:0~10%;二氧化锡:0~10%;三氧化二钕:0~10%。本发明的玻璃材料的制备方法包括以下步骤:1)将所有原料混合进行研磨制成混合料;2)将混合料熔融,再冷却形成玻璃块体,再进行球磨,得到粉末状的玻璃材料,或者,将混合料熔融,再注入模具成型,再进行退火、切割和抛光,得到成型的玻璃材料。本发明的玻璃材料的相对介电常数较大、介电损耗低,且不含有毒元素、熔融温度较低、生产成本较低、便于制备薄膜,适合用于电子封装和玻璃薄膜芯片电容器。

    一种测试透明釉透光性的方法
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115629052A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211206734.6

    申请日:2022-09-30

    Abstract: 本发明公开了一种测试透明釉透光性的方法,其包括以下步骤:1)将色料涂覆在陶瓷坯体表面形成色料层,得到上色的陶瓷坯体;2)选取上色的陶瓷坯体施透明釉后进行干燥和烧成制成施釉样,并选取上色的陶瓷坯体直接进行干燥和烧成制成参比样;3)用色度计测量施釉样的Lab值和参比样的Lab值,再计算施釉样和参比样的色差ΔE用以确定釉层的透光性。本发明的方法是利用施釉样与参比样的色差来评价釉层的透光性,具有操作简单、适用范围广、结果可靠、可重复性好等优点,适合进行大规模推广应用。

    晶界层晶粒晶界性能的微米级电极制备方法及测试方法

    公开(公告)号:CN113834859A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202111113271.4

    申请日:2021-09-23

    Abstract: 本发明涉及一种晶界层晶粒晶界性能的微米级电极制备方法及测试方法。其中,制备方法包括:在晶界层上表面均匀涂覆一层光刻胶并进行固化;使用图形化掩膜版对表面涂覆固化有光刻胶的微米级金电极进行曝光,显影后使用溶液在曝光后的微米级金电极上形成光刻胶保护图层;使用蚀刻液蚀刻无光刻胶保护图层的微米级金电极后,进行清洗得到微米级电极。本发明在制备的晶界层基片晶粒上直接镀上微米级金电极材料,在金相显微镜下即可获取适用于测试晶界层基片的电性能的微米级电极块,通过定位,可具体到某一微观晶粒晶界性能的测试,并且实现该晶粒晶界性能的重复测试,从而在晶界层性能上实现机理上的研究。

    一种无锆假蓝宝石微晶乳浊釉及其制造方法

    公开(公告)号:CN108409146B

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN201810544981.4

    申请日:2018-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种无锆假蓝宝石微晶乳浊釉及其制造方法。该无锆假蓝宝石微晶乳浊釉的组分及各组分的质量百分比为:Na2O:1~3%;K2O:2~3%;Al2O3:25~28%;MgO:8~10%;B2O3:5~7%;Li2O:0~1%;CaO:0~1%;P2O5:0~1%;余量为SiO2。本发明用假蓝宝石代替ZrSiO4作为乳浊剂制备乳浊釉。本发明所得的无锆假蓝宝石微晶乳浊釉,其釉面光泽度高、硬度高、耐磨性好、耐酸碱性好和抗划痕。另外,相较于ZrSiO4乳浊釉,本发明不含锆英砂,不含任何放射性元素,成本低廉、环保且乳白效果好,生产工艺与锆系乳浊熔块釉完全一样,降低了生产成本。

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