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公开(公告)号：CN101799636A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010129961.4
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101002299B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580023601.3
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN100530540C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200680001602.2
申请日：2006-03-30
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 长坂博之
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具备：第一陆面(75)，其与衬底的表面相对置，且围绕曝光用光的光路空间(K1)；第二陆面(76)，其与衬底的表面相对置，且在规定方向上被设于第一陆面(75)的外侧；回收口(22)，其回收用于充填光路空间(K1)的液体。第一陆面(75)与衬底的表面大致平行地设置。第二陆面(76)被设于相对衬底的表面比第一陆面(75)还远的位置，回收口(22)被设于第一陆面(75)和第二陆面(76)的外侧。在一边衬底移动衬底一边进行曝光时，也可以利用液体将曝光用光的光路空间充填为所希望的状态。
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公开(公告)号：CN101477312A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910005724.4
申请日：2004-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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公开(公告)号：CN100472713C
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200480025055.2
申请日：2004-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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公开(公告)号：CN100470722C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200480023577.9
申请日：2004-08-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。
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公开(公告)号：CN101354540A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810160954.3
申请日：2004-02-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 长坂博之
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
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公开(公告)号：CN100433253C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200480005148.9
申请日：2004-02-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 长坂博之
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
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