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公开(公告)号：CN103380082B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201280008559.8
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: B65D85/671 , C01B32/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C08G73/10 , Y10T428/24744
Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外，作为间隙的形成方法，在将高分子膜卷成辊状时，将衬纸同时卷取，然后抽出所述衬纸，通过使用上述方法，对抑制碳质膜的熔合具有效果。
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公开(公告)号：CN103998231A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201380004346.2
申请日：2013-01-11
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: F28F21/02 , B23B35/00 , B23K26/384 , C01B32/20 , C23C28/00 , F28F21/089 , Y10T428/12361 , Y10T428/24273 , Y10T428/24339 , Y10T428/30
Abstract: 本发明提供一种石墨复合膜，其是包含在表面上形成有金属层的石墨膜的石墨复合膜，可抑制金属层从石墨膜上的剥离。本发明的石墨复合膜的特征在于，其是在石墨膜的至少单面上形成有金属层的石墨复合膜，在所述石墨膜中形成有多个贯穿孔，按照与形成于所述石墨膜的表面上的所述金属层连接的方式在所述贯穿孔内形成金属层，且所述贯穿孔内的所述金属层从所述石墨膜的单面至相反侧的面为止连续地形成，贯穿孔外径间距离为0.6mm以下，且所述贯穿孔内的金属的面积相对于所述石墨复合膜的面积的比例为1.4％以上。
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公开(公告)号：CN103547530A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201280011528.8
申请日：2012-03-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明通过设置2个级别以上的加热空间连续地进行煅烧，可以获得褶皱或波纹得到抑制的石墨片材。特别是如果在各加热空间之间存在冷却空间，那么可以获得平坦性优异、热扩散率较高的石墨膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103193222A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310088168.8
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的特征在于，在MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次／分钟、载荷为0.98N的条件下测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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公开(公告)号：CN103144387A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310087420.3
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62，进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。
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公开(公告)号：CN103080005A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040757.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/63444 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08L77/06
Abstract: 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。
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公开(公告)号：CN101687647B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN200880022608.7
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的解决方法是采用下述石墨膜，在该石墨膜的MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次/分钟、载荷为0.98N的条件下，测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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