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公开(公告)号：CN101937172A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010214856.0
申请日：2010-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/00 , G02F1/1333 , H01L21/768 , H01L23/532 , C08G77/04
CPC classification number: G03F7/0233 , C08G77/12 , C08G77/18 , C08G77/20 , G02F1/136286 , G03F7/0757 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、固化膜、层间绝缘膜及其形成方法、显示元件以及硅氧烷聚合物。本发明提供一种与醌二叠氮基化合物的相容性高，在ITO膜蚀刻步骤中能形成耐抗蚀剂剥离液性优良的层间绝缘膜的聚硅氧烷类正型放射线敏感性组合物。该组合物含有[A]硅氧烷聚合物和[B]醌二叠氮基化合物，上述[A]硅氧烷聚合物中的芳基相对于Si原子的含量为超过60摩尔％并在95摩尔％以下。[A]硅氧烷聚合物是至少含有下述式(1)所示的化合物的水解性硅烷化合物的水解缩合物。
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公开(公告)号：CN100576075C
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200510008541.X
申请日：2005-02-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有：[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]以由下列式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂；(见右式)式中，R1表示烷基；R2和R3表示氢原子、烷基或苄基；R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。
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公开(公告)号：CN101546119A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910127064.7
申请日：2009-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明涉及一种感射线性树脂组合物、分隔物及其制备方法以及液晶显示元件。提供在分隔物形成时产生的挥发性成分的量非常少、并且对于基于缝模涂敷法的高速涂敷也能够应付的感射线性树脂组合物。上述感射线性树脂组合物包括：[A]具有由羧基和羧酸酐基构成的群组中选出的至少一种基团以及来源于以季戊四醇四(3－巯基丙酸酯)为代表的特定多元硫醇化合物的基团，并且由凝胶渗透色谱测得的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)与聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)为1.0～2.8的聚合物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]感射线性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101131511A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200610064736.0
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/028 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、分子内含一个羟基的含羟基不饱和化合物(a2)、以及除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物(a3)的共聚物与异氰酸酯化合物反应得到的聚合物。本发明还提供高感度、即使在1,200J/m2或以下的曝光量也得到完善的间隔物形状，可形成柔软性与高回复率、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能均优异的液晶显示元件用间隔物的放射线敏感性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN101130577A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200610121651.1
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F8/30 , G02F1/1339 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，在曝光量之下也得到充分的间隔体形状，并且可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等优良，并且在取向膜剥离时充分地显示剥离液耐受性的液晶显示元件用间隔体。该放射线敏感性树脂组合物包含以下成分；(A)使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)1分子中包含1个以上羟基的不饱和化合物和(a3)其他不饱和化合物的共聚物与特定的异氰酸酯化合物反应而得到的聚合物；(B)聚合性不饱和化合物；和(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1940724A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610152318.7
申请日：2006-09-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/20 , G03F7/26 , G02F1/1333
Abstract: 一种光敏性树脂组合物，其具有足够的工艺自由度，能够抑制光聚合引发剂成分升华引起的烘焙炉和光掩模等的污染，充分兼备保护膜材料所必需的密合性、透明性、耐热性和分隔物材料所必需的分辨性、压缩特性。其含有[A](a1)乙烯性不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其它乙烯性不饱和化合物的共聚物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，和[C]由上述式(1)表示的化合物组成的光聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1916762A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610141923.4
申请日：2006-08-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明为一种感光性树脂组合物，其含有烯键式不饱和羧酸或其酸酐、(甲基)丙烯酰基氧杂环丁烷和与其不同的烯键式不饱和化合物的共聚物、烯键式不饱和化合物以及4－吗啉代苯基丁烷－1－酮类。该组合物用于形成显示面板用间隔物。
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公开(公告)号：CN1834744A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610058552.3
申请日：2006-03-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a3)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物，(式中，R表示氢或甲基，n是2～1 0的整数)(a3)是上述(a1)～(a2)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1765948A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510091479.5
申请日：2005-08-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08G18/04 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 含有使下述式(1)所示的异氰酸酯化合物与不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、含有环氧基的不饱和化合物(a2)、含有羟基的不饱和化合物(a3)和其它不饱和化合物(a4)的共聚物发生反应而获得的聚合物，聚合性不饱和化合物以及辐射敏感性聚合引发剂的辐射敏感性树脂组合物。式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示亚烷基。本发明还提供高感度、高分辨率，并且即使采用1,200J/m2或其以下的曝光量，也能够得到完整的隔板形状，可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明衬底的附着性、耐热性等均优异的液晶显示元件用隔板的辐射敏感性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN106094437B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610239515.6
申请日：2016-04-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、红外线遮蔽膜及其形成方法、固体摄像元件以及照度传感器。利用本发明所涉及的感放射线性树脂组合物，可形成具有高的红外线遮蔽性的膜。该红外线遮蔽膜可用于固体摄像元件、照度传感器中。该感放射线性树脂组合物含有[A]碱溶性树脂、[B]醌二叠氮化合物、以及[C]红外线遮蔽材。
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