吸附平台
    51.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103567914B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201310342008.1

    申请日:2013-08-07

    Inventor: 田边雅明

    Abstract: 本发明的吸附平台,其目的在于不使极薄的板片状工件的表面产生凹凸的情况下,整面齐平地加以抽吸。吸附平台(1),以设定于保持面(1A)的吸附部抽吸并吸附极薄的板片状工件。本发明的吸附平台具有吸附沟(10)、多个下孔(20)以及多个连通沟(30)。吸附沟(10)形成于保持面(1A)的吸附部,以多个纵向沟(11)及多个横向沟(12)而形成为格子状。多个下孔(20)形成于与保持面(1A)相反侧的面(1B)中对应于吸附部的区域的适当处,且形成在吸附沟(10)的正下方。多个连通沟(30)以与吸附沟(10)大致相同的沟宽,沿着吸附沟(10)形成,连接于多个下孔(20)的各自的上端,使下孔与吸附沟连通。

    吸附平台
    52.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103567914A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310342008.1

    申请日:2013-08-07

    Inventor: 田边雅明

    CPC classification number: B25B11/005

    Abstract: 本发明的吸附平台,其目的在于不使极薄的板片状工件的表面产生凹凸的情况下,整面齐平地加以抽吸。吸附平台(1),以设定于保持面(1A)的吸附部抽吸并吸附极薄的板片状工件。本发明的吸附平台具有吸附沟(10)、多个下孔(20)以及多个连通沟(30)。吸附沟(10)形成于保持面(1A)的吸附部,以多个纵向沟(11)及多个横向沟(12)而形成为格子状。多个下孔(20)形成于与保持面(1A)相反侧的面(1B)中对应于吸附部的区域的适当处,且形成在吸附沟(10)的正下方。多个连通沟(30)以与吸附沟(10)大致相同的沟宽,沿着吸附沟(10)形成,连接于多个下孔(20)的各自的上端,使下孔与吸附沟连通。

    位置探测装置
    53.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101275859B

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN200810086186.1

    申请日:2008-03-18

    CPC classification number: G01D5/34746 G01D5/36

    Abstract: 一种位置探测装置,其包含刻度尺,传感器和控制部分。刻度尺具有沿着活动部分移动方向的在间隔处设置的多个光发射元件。传感器,其安装在部件上,探测来自事先指定范围内的至少一个元件的光,其中该范围比最大的一个间隔长,并以在探测范围内接收到光的位置为依据,输出光接收信号。控制部分单独地驱动元件,接收来自传感器的信号,并具有存储部分,用于存储刻度尺内元件位置的信息。在接收信号后,控制部分从存储部分中得到关于正在被驱动着的一个光发射元件所处位置的信息,并基于得到的信息和接收到的信号,计算部件的位置。

    涂敷装置
    54.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100537050C

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200510003475.7

    申请日:2005-11-29

    Abstract: 本发明提供一种在空间上是有利的,可连续地将涂敷液涂敷在玻璃基板上的涂敷装置。在基台(1)上设置有一对平行导轨(2、2),在该一对平行导轨(2、2)之间的中央配置有基板载置工作台(3),第1及第2门型移动机构(4、5)以平面上观察与上所述导轨正交的基板载置工作台的宽度方向中心线为基准、左右对称地架设在上述导轨之间并可独立行走,在该第1及第2门型移动机构(4、5)上可升降地保持有狭缝喷嘴(6、7)。

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