公开(公告)号：CN101681118A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880016220.6

申请日：2008-05-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  白石直正 ,  井上英也

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L23/00

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种通过投影光学系统(PL)将明暗图案曝光到基片(W)的每一个曝光区域中的曝光方法，包括位置检测步骤(S13)、变形计算步骤(S14)以及形状更改步骤(S15)：所述位置检测步骤检测在基片(W)的单元曝光域(10F)中的多个显微区域的位置；所述变形计算步骤基于在所述位置检测步骤(S13)中获得的所述多个显微区域位置的相关信息来计算所述单元曝光域(10F)中的变形状态；所述形状更改步骤基于在所述变形计算步骤(S14)中获得的变形状态来更改将曝光到所述基片(W)上的明暗图案的形状。在所述位置检测步骤中检测的所述显微区域包括在所述单元曝光域(10F)中形成的电路图案(S13)。

公开(公告)号：CN101470361A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200910009744.9

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN100470723C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200480023855.0

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02

Abstract: 曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN1839463A

公开(公告)日：2006-09-27

申请号：CN200480023855.0

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02

Abstract: 曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。