公开(公告)号：CN101470361A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200910009744.9

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN100470723C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200480023855.0

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02

Abstract: 曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN1839463A

公开(公告)日：2006-09-27

申请号：CN200480023855.0

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02

Abstract: 曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN102854755A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210274494.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B7/021 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置（EX），是经由投影光学系统（PL）和液体（LQ）将图形像投影在衬底（W）上的装置，投影光学系统（PL），具有与液体（LQ）接触的光学部件（G12）以及配置在光学部件（G12和中间掩模（R）之间的光学组（MPL）。保持光学部件（G12）和光学组（MPL）的保持机构（HG），以相对于光学组（MPL）可动的方式保持光学部件（G12）。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN101470362B

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN200910009745.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN101470362A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200910009745.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。