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公开(公告)号：CN114089531A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111355125.2
申请日：2021-11-16
Applicant: 浙江大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本发明公开了一种基于反射式偏振复用液晶透镜的双目波导显示方法，所述方法基于波导显示器件，包括光波导板，在光波导板同侧上设有入耦合液晶透镜、右旋出耦合光栅和左旋出耦合光栅，入耦合液晶透镜位于右旋出耦合光栅和左旋出耦合光栅之间；所述方法包括：图像源放在入耦合液晶透镜的焦平面上，入耦合液晶透镜将来自图像源的两种圆偏光准直且耦合进入光波导板中；左旋圆偏光和右旋圆偏光在波导板中朝着相反的方向依靠全反射传播；分别在碰到左旋出耦合光栅和右旋出耦合光栅后被衍射耦出波导。该方法解决了传统近眼波导显示系统中需要使用准直透镜且准直透镜和波导板间存在间隙的问题。
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公开(公告)号：CN112711130B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202011198799.1
申请日：2020-10-31
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种基于电光调制技术的相位调制荧光差分显微成像装置，包括产生激发光束的照明系统，收集样品发出荧光信号的探测系统，以及用于控制和信号处理的计算机，所述的照明系统包括依次布置的：激光器，发出激光光束；电光调制模块，用于控制激光光束在右旋圆偏振光和左旋圆偏振光之间的快速转换；相位调制器件，对圆偏振光进行相位调制，形成照明样品并激发荧光的实心光斑和空心光斑。本发明还公开了一种基于电光调制技术的相位调制荧光差分显微成像方法，实现了实心和空心光斑的快速转换，在很大程度上提升了荧光差分显微成像系统的成像速度。
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公开(公告)号：CN113985706A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111241111.8
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种多通道并行超分辨激光直写系统，包括：用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写‑抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块，所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写‑抑制光束组合单元后形成一对直写‑抑制光束组合，之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块，形成直写‑抑制光斑组合。本发明将传统单路激光直写打印系统的速度成倍提升。
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公开(公告)号：CN113917761A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111114356.4
申请日：2021-09-23
Abstract: 本发明公开了一种基于角度无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括反射镜、中空回射器、纳米位移台、三角棱镜、声光偏转器、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明利用了基于声光偏转器的非机械式的控制方法替代以往系统中机械控制方式，避免惯性误差的影响，减小环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率(可以达到1MHz以上)的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN111504970B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202010372470.6
申请日：2020-05-06
Applicant: 浙江大学 , 南京科泰光学科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种镜面辅助三维超分辨显微成像系统及方法。该系统包括两组激光器、二分之一波片、偏振分光棱镜、三个光学反射镜、两个空间光调制器、二向色镜、四分之一波片、显微物镜和介质膜反射镜。该方法包括：仅对一路损耗光进行相位调制，同时对激发光进行相位调制，经四分之一波片转换为圆偏振光，再经显微物镜投射到介质膜反射镜上并被反射，对应的反射光和投射光发生干涉分别形成三维空心光斑和实心焦斑，三维空心光斑覆盖到实心焦斑上，有效地压缩了实心光斑的轴向和横向尺寸，提高了显微系统的空间分辨率，从而实现三维超分辨显微成像；通过改变调制相位的模式，可以调整光束所成光斑的位置，实现生物样品的全细胞成像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113568279A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110802368.X
申请日：2021-07-15
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统，采用两个空间光调制器分别对两束不同波长的入射光进行预调制，使两束光通过同一根多模光纤出射后，在距离光纤出射端面一定远处的平面上聚焦。从多模光纤出射的圆形激发光斑和环形抑制光斑同心且环形光斑覆盖住圆形光斑的大部分外围区域。本发明配合特制的负性光刻胶使用，通过激发光和抑制光同时作用于光刻胶，即可使实际被固化的光刻胶体素尺寸小于衍射极限的限制。通过改变空间光调制器所加载的相位图，无需机械位移装置即实现在某一平面小区域内的逐点扫描式光刻。通过多路复用上述结构，实现平面大区域的逐点扫描；再结合z方向位移台，实现三维立体结构的光刻。
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公开(公告)号：CN113359221A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110649138.4
申请日：2021-06-10
Applicant: 浙江大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明公开了一种基于介质偶极子的入射角度不敏感的光谱滤光片及应用，该光谱滤光片在可见光波段工作，采用双抛的硫化锌做衬底；衬底上设有基于偶极子原理设计的纳米结构，纳米结构由若干阵列式排布的纳米结构单元构成，纳米结构单元为正多边形棱柱体或圆柱体，相邻纳米结构单元的距离相同，在20至80纳米之间，所有纳米结构单元的厚度相同，在200至600纳米之间，纳米结构的材料为任何在可见光范围内具有高折射率和高透射率的介质；光谱滤光片的最大透射率可达100％，且对半角15度以内的入射光不敏感，光谱透射曲线在多个线偏振角度的入射光下保持不变。
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公开(公告)号：CN113349708A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110639676.5
申请日：2021-06-08
Abstract: 本发明公开了一种基于大色散镜头的双模态高分辨大深度显微内窥成像系统，包括光纤束共聚焦模块，OCT成像模块和内窥探头模块；所述光纤束共聚焦模块包括：激光器模块、共聚焦扫描模块和共聚焦成像模块；所述OCT成像模块包括扫频激光模块、样品臂模块、参考臂模块和干涉探测模块。本发明一次下镜就可实现多种功能，既能对病变部位进行高分辨高精度二维成像，又能对病变组织进行大深度三维成像，从而使医师能够对病变的显微结构做出更加精确的判断，并且不会对组织部位造成伤害，提高癌症的检出率和诊断水平。
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公开(公告)号：CN113189847A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110428488.8
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。所述的激发光束和其对应的环形抑制光束均由同一光纤选模耦合器产生，两光束从选模耦合器出射时具有天然的同轴传输特性。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
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公开(公告)号：CN113093480A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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