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公开(公告)号：CN108790150A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN105511074B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610004778.9
申请日：2016-01-06
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
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公开(公告)号：CN105619819B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/268 , B29C64/245 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN107436494A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710851837.0
申请日：2017-09-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 一种3D显示装置，包括背光结构、二维图像显示器二维图像显示器和光场调制器，二维图像显示器设置于背光结构与光场调制器之间,光场调制器设置于二维图像显示器的显示面前方。本发明的3D显示装置能解决由于匹配间隙，导致光场调制器中的纳米像素与二维图像显示器上的像素对准误差问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104185410B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN106842606A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN106526730A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611040561.X
申请日：2016-11-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种宽视角波导镜片及制作方法和头戴式三维显示装置，利用具有能实现会聚光场视角放大功能即光栅透镜功能的纳米光栅结构，实现三维虚拟信息的视角放大，并在人眼前投射，通过宽视角波导镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合，由于视角得以放大，使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象，使得体验更加真实，同时基于全息原理，可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合，从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。
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公开(公告)号：CN105538726A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610090877.3
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于薄膜基底的三维成型装置及方法，该装置包括送料机构、曝光机构、支撑机构及分离机构，通过送料机构将感光材料层送入相应的曝光区域中，由曝光机构对感光材料层进行曝光，实现对每层指定图形的固化生成，每层图形叠加在一起，在支撑机构上形成所需零件，而分离过程与曝光过程同步进行，随着分离机构向右移动，在张力的作用下，薄膜基底材料层逐渐与支撑机构上已成型零件的顶面分离，而未被曝光的感光材料层也同时被剥离于支撑机构外，曝光和分离动作同时进行，可以提升工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN105487239A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510778086.5
申请日：2015-11-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供了一种指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置，包括彩色滤光片和指向性功能结构层；彩色滤光片包括多个滤光单元，每一滤光单元包括至少三个不同颜色的滤光子单元；指向性功能结构层包括多个结构单元，每一结构单元与一滤光单元对应设置；每一结构单元包括至少三个结构子单元；每一结构子单元与一滤光子单元对应设置；每一结构子单元包括多个纳米衍射光栅；同一结构子单元内的纳米衍射光栅的周期和取向角不同，从而不会出现同一纳米衍射光栅出射两种颜色的光，导致光线串扰的问题，且该指向性彩色滤光片在技术上较容易实现，使得本发明提供的基于指向性背光技术的无视觉疲劳的多视角的裸眼3D显示装置较易得到实际应用。
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