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公开(公告)号：CN102221781A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110093674.7
申请日：2011-04-11
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 一户大吾
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明的目的在于提供一种正型放射线敏感性组合物、由该组合物形成的层间绝缘膜以及该层间绝缘膜的形成方法，该正型放射线敏感性组合物具有优异的放射线灵敏度，得到的层间绝缘膜具备高透光率和电压保持率的同时，具备可以应对固化膜的形成条件改变的优异的显影性和图案形成性。本发明涉及含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有含下式(1)表示的基团的结构单元和含环氧基结构单元的聚合物、[B]光酸产生剂和[C]含长链烷基化合物的正型放射线敏感性组合物。
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公开(公告)号：CN101017323B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200610086733.7
申请日：2006-06-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a2)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是(a1)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]以乙酮，1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基)-，1-(O-乙酰基肟)所代表的特定结构的放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN102043339A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010522556.9
申请日：2010-10-20
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。目的在于提供一种正型放射线敏感性树脂组合物，其即使用狭缝涂布法作为涂布方法时，也能显示优良的涂布性乃至膜厚均匀性，且能缩短涂布膜的干燥时间，放射线敏感度等也优良。本发明的正型放射线敏感性树脂组合物含有[A]硅氧烷聚合物、[B]醌二叠氮基化合物和[C]式(1)表示的溶剂，式(1)中，R1和R2分别独立地表示碳原子数为1～6的直链状或支链状的烷基，R1和R2的任何之一为碳原子数为1～4时，另一个碳原子数为5或6。R1-O-R2 (1)。
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公开(公告)号：CN101130577B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200610121651.1
申请日：2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F8/30 , G02F1/1339 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，在曝光量之下也得到充分的间隔体形状，并且可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等优良，并且在取向膜剥离时充分地显示剥离液耐受性的液晶显示元件用间隔体.该放射线敏感性树脂组合物包含以下成分；使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)1分子中包含1个以上羟基的不饱和化合物和(a3)其他不饱和化合物的共聚物与特定的异氰酸酯化合物反应而得到的聚合物；(B)聚合性不饱和化合物；和(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN100428027C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200510000493.X
申请日：2005-01-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/133 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物，其特征是含有以下成份：[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂，以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
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公开(公告)号：CN101266407A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200810083587.1
申请日：2008-03-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/028 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供用于形成滤色器着色层的放射线敏感性组合物，所述放射线敏感性组合物可以抑制因放射线敏感性聚合引发剂的升华导致的烧成炉、光掩膜等的污染，且不产生液体中杂质，而且显影性、图案形状等也优异。用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其特征在于，含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体以及(D)以通式(1)表示的化合物作为必须成分的放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101266405A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200710088634.7
申请日：2007-03-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种拥有足够的流程余裕(Process Margin)，可以在1,500J/m2以下的曝光量之下得到形状完美以及足够厚度的间隔体，并持有根据压缩载荷的高度柔软性，以及优越的附着性，耐磨擦性，耐热性等，并可以形成剥离液耐受性优越的显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物。作为适用于液晶显示面板用间隔体的放射线敏感性树脂组合物，含有(A)(a1)含乙烯性不饱和羧酸以及/或者含乙烯性不饱和羧酸酐与(a2)其他含乙烯性不饱和之化合物的共聚物，(B)(b1)3官能以上的(甲基)丙烯酸酯类以及(b2)该(b1)以外的以其他含乙烯性不饱和之化合物为主要成分的聚合性化合物，以及(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101030036A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200610059403.9
申请日：2006-03-02
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，该组合物含有使共聚物(α)和含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)反应而得到的[A]聚合物，所述共聚物(α)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含羟基不饱和化合物、及其他的不饱和化合物的共聚物，所述的含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)是通过二异氰酸酯化合物和含羟基聚合性不饱和化合物的反应而得到的化合物。该组合物高灵敏度且高分辨率，采用1,200J/m2左右或以下的曝光量也得到充分的间隔体形状，能够形成弹性回复性、耐摩擦性、与基板的附着性、耐热性等优异的液晶显示元件用间隔体。
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公开(公告)号：CN1916761A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610141922.X
申请日：2006-08-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G02F1/1339 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 提供一种感光性树脂组合物，其含有具有羧基或羧酸酐和氧杂环丁烷基的共聚物、烯键式不饱和化合物和作为光聚合引发剂的O－酰肟型咔唑化合物。由该组合物可以获得具有充分的操作裕度，在1,500J/m2以下的曝光量下可以得到充分的隔垫形状和膜厚，可以形成密合性、耐摩擦性、耐热性等优异，且隔垫形状、经时稳定性优异的显示面板用隔垫。
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公开(公告)号：CN1854896A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610072566.0
申请日：2006-04-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：该树脂组合物是包括，[A](a1)乙烯基不饱和羧酸和/或乙烯基不饱和羧酸酐和(a2)(a1)以外的乙烯基不饱和化合物形成的共聚物；[B]具有乙烯基不饱和键的聚合性化合物；和[C]光聚合引发剂的感光性组合物；且相对于100重量份[B]，[C]光聚合引发剂的含量为0.1～5重量份。
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