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公开(公告)号：CN113528253A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110771869.6
申请日：2021-07-08
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，按质量百分数之和为100%计，包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂，5‑20%无机强碱性物质，0.5‑20%有机助剂，0.1‑5%螯合剂，余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配，可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料，大大提高了锂盐的溶解度，解决了市面上产品存在的沉淀问题，且易清洗无残留。
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公开(公告)号：CN111704963B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202010611326.3
申请日：2020-06-30
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于液晶清洗的水基清洗剂，属于微电子材料技术领域。按质量百分数之和为100%计，所述水基清洗剂的成分组成为：1‑15%的Gemini型有机硅嵌段聚醚表面活性剂，1‑30%的C4‑C10醇醚，1‑20%的环状醇类化合物，余量为水。该Gemini型有机硅嵌段聚醚表面活性剂具有超润湿性、乳化性、分散性、增溶性、渗透性、消泡和稳泡性，可降解，绿色环保，清洗液晶效果十分优异，可用于有效清洗在真空条件下罐装完液晶后在液晶盒表面、PIN脚及狭缝中残留的液晶。
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公开(公告)号：CN111562728A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN202010490266.4
申请日：2020-06-02
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: G03F7/32
Abstract: 本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于平板显示和半导体领域的化学品制剂，用于平板显示和半导体领域显影工光刻胶的显影。包括10-30%不同EO值的特定Gemini型聚醚非离子表面活性剂，5-20%碱性物质，50-80%高纯水。本发明通过特定Gemini型非离子表面活性剂两种不同EO值的混配，可以显著降低显影液中表面活性剂的用量，显著提高了显影液原液的浓度，有效提高了显影性能，显影液的显影速度适中、图形清晰、边缘完整、无光刻胶残留、对显影残渣分散稳定，泡沫小，成本低，同时高浓度显影液大大降低了运输压力和成本。
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公开(公告)号：CN111172550A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN202010093828.1
申请日：2020-02-14
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明属于精细金属掩膜版清洗剂制备技术领域，尤其涉及一种OLED掩膜版用的清洗剂及其清洗工艺。以质量百分含量计，其组成如下：醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水10%~30%；所述含氟的非离子表面活性剂，其结构式为；，n为8~14之间的自然数；本发明该清洗液能快速并有效清洗除去蒸镀工艺中FMM上附着的RGB光色染料，而且易清洗不残留，有效提高FMM清洗效率。
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公开(公告)号：CN108034527B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201711395636.0
申请日：2017-12-21
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种玻璃基板环保水基清洗液及玻璃基板清洗方法。以质量百分含量计，该清洗液的组成如下：无机碱性物质1％～5％；醇醚10％～25％；阴离子表面活性剂5％～15％；双子表面活性剂1％～3％；消泡剂0.1％～1％；余量的水。本发明提供的玻璃基板环保水基清洗液均由对环境无污染的材料配制而成，不仅可以有效去除玻璃基板表面的指纹、灰尘、玻璃粉、油脂及其他有机或无机固体粒子，而且不含NP和OP类表面活性剂，有效保护环境。同时采用本发明清洗液清洗玻璃基板的方法简单，清洗液用量少，清洗效果好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115161756B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202210996878.X
申请日：2022-08-19
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C25F1/00
Abstract: 本发明公开了一种用于OLED OPEN‑MASK清洗的电解液组合物，用于清洗OLED OPEN‑MASK表面及蒸镀孔内的灰尘、Partical和油污等污染物。按质量百分比计，所述组合物包含以下组分：5‑10%的无机强碱性物质，1‑5%的无机盐，0.5‑5%的螯合剂，1‑5%的有机溶剂，0.1‑5%的Gemini型两性离子表面活性剂A，余量为水。本发明通过Gemini型两性离子表面活性剂A与无机强碱、无机盐等的混配，显著提高溶液的电导率，增强电解能力，可以有效去除OPEN‑MASK表面及蒸镀空内的污染物，同时对掩膜版具有优异的缓蚀效果，在碱溶液中能保证掩膜版不被腐蚀，易于漂洗，无残留。
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公开(公告)号：CN119875748A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510050242.X
申请日：2025-01-13
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于DBC基板助焊剂残留的清洗组合物，按质量百分数之和为100%计，所述清洗组合物由以下质量百分数的原料制成：有机碱3‑15%、有机酸1‑10%、松香基季铵盐表面活性剂（S）0.1‑1%、缓蚀剂0.1%‑1%、余量为醚类有机溶剂。本发明使用含松香基季铵盐表面活性剂的清洗组合物具有良好的清洗、缓蚀、耐高温等作用，可以一次性对DBC基板表面残留的助焊剂清洗净。
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公开(公告)号：CN119639530A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202411878853.5
申请日：2024-12-19
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于集成的水基型助焊剂清洗剂，属于半导体清洗剂领域。该水基型助焊剂清洗剂所用原料及其所占重量百分比为：30‑50%的醇醚溶剂、1‑5%的有机胺、3‑5%的双子咪唑啉缓蚀剂、40‑70%的去离子水，其重量百分比之和为100%。本发明水基型助焊剂清洗剂通过采用咪唑啉缓蚀剂，在对半导体电子器件上的助焊剂残留物、焊锡膏、细小颗粒起到显著清洗效果的同时，可维持焊点的光亮，表面绝缘性能好，还可以有效防止IPM模组金属表面发生氧化，使该清洗剂尤其适用于半导体芯片、芯片型电容器及电路基板在焊接过程的污染物清洗。
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公开(公告)号：CN116083177B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202310047219.6
申请日：2023-01-31
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C11D1/83 , C11D3/20 , C11D3/43 , C11D3/30 , C11D3/28 , C11D3/60 , G03F7/42 , C11D1/66 , C11D1/14
Abstract: 本发明公开了一种用于半导体制程的水基去胶液，用于半导体晶圆制造中。该水基去胶液通过添加特定复配的阴‑非离子表面活性剂，产生协同效应和增效作用，配合水溶性有机助剂优化组合，极大的提高体系表面性能，强化了溶胀效果的同时对光阻小分子的溶解能力强，具有较高的清除效率，同时该水基去胶液水溶性好，使用温度低，使用寿命长，泡沫低，对产品良率波动影响小，材料组成对环境友好，对人体健康影响小能够满足半导体制程的工艺要求。
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公开(公告)号：CN115233282B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202210893888.0
申请日：2022-07-27
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于OLED掩膜版清洗的电解液组合物，属于湿电子化学品领域。按质量百分数之和为100%计，该电解液组合物中包含1‑15%的强电解质、1‑10%的螯合剂、1‑5%的有机溶剂、0.1‑2%的双咪唑啉季铵盐缓蚀剂，余量为水。本发明所用缓蚀剂具有优异的缓蚀性能，在碱溶液中能保证阳极电极不被腐蚀，同时能提高溶液的电导率，增强电解能力，且其具有易于漂洗、对环境友好、强润湿性、缓蚀效果优秀等优势，使所得电解液组合物能够用于清洗OLED掩膜版表面及蒸镀孔内的灰尘、粒子和油污。
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