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公开(公告)号：CN119505708A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411675702.X
申请日：2024-11-22
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种稳定悬浮的水性钻石研磨液及其制备方法，研磨液包括如下组分：金刚石微粉0.4‑0.8%，Gemini型聚醚季铵盐表面活性剂1‑5%，pH调节剂0.1‑2%，悬浮剂1‑6%，防腐剂0.01‑0.2%，溶剂20‑60%和去离子水10‑40%，按质量百分数之和共计100%。该水性钻石研磨液的研磨速率高、TTV小，磨料分散稳定性高，相比传统的水性钻石研磨液，还具有不易沉降的优点，相比油性研磨液，更加安全环保，易于清洗，可以避免因长时间作业升温引发的质量和安全隐患。
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公开(公告)号：CN116083173B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202310050491.X
申请日：2023-02-01
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于蓝宝石衬底片抛光后的清洗组合物，按质量百分数之和为100%计，所述清洗组合物由以下质量百分数的原料制成：无机碱3‑15%、Gemini型聚醚磷酸盐表面活性剂1‑10%、渗透剂1‑5%、分散剂1‑8%，余量为水。本发明使用特定Gemini型聚醚磷酸盐表面活性剂的清洗组合物具有良好的除蜡、螯合、净洗、润湿、分散等作用，可以一次性对蓝宝石衬底片研磨抛光后残留的表面颗粒、蜡垢、灰尘等有机污染物进行有效去除，并且能解决业界存在的因“水合层”残留导致的难清洗问题，具有产品浓缩度高、清洗效果好、清洗良率高、使用寿命长、对环境友好等优点。
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公开(公告)号：CN116891784B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202310874697.4
申请日：2023-07-17
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C11D1/34 , C11D3/43 , C11D3/20 , C11D3/34 , C11D3/60 , C11D3/37 , C07F9/09 , B08B3/08 , B08B3/10 , H01L33/00 , H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种LED固体蜡清洗剂及其清洗工艺，该清洗剂是由有机溶剂、乳化剂、增溶剂、渗透剂及高纯水组成。本发明的清洗剂应用于LED衬底基材，具有去蜡效果好，解决了市面上水基型产品清洗不良、胶气污染及金属电极的腐蚀问题，对环境无污染。
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公开(公告)号：CN115926894B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202310000955.6
申请日：2023-01-03
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C11D1/66 , C11D1/825 , C11D3/18 , C11D3/32 , C11D3/28 , C11D3/43 , C11D11/00 , B08B3/08 , B08B3/12 , C11D1/72 , C11D1/74
Abstract: 本发明公开了一种有机发光材料清洗剂及清洗方法。该清洗剂由A液与B液组成，其中A液按质量百分数计包括1‑5%的渗透剂，1‑10%的乳化剂，其余为矿物油；其中B液为极性非质子溶剂。本发明提供的有机发光材料清洗剂可在较低的成本下，高效的溶解Mask、坩埚、蒸镀腔挡板等蒸镀工艺器件上残留的有机发光材料，减少各种蒸镀器件的损伤，提高蒸镀器件的清洗良率。
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公开(公告)号：CN113862088B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202111255871.4
申请日：2021-10-27
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明提供了一种OLED用掩膜版清洗剂，由含氟有机酸、有机膦系螯合剂和阴‑非离子表面活性剂复配组成，能有效解决现有技术中Mask在Ag/Mg蒸镀后的难以对表面、边缘及开孔清洗干净，从而导致的产品良率及性能不佳，Mask材料被腐蚀，降低使用寿命等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115161124B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202210865028.6
申请日：2022-07-21
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C11D1/78 , C11D3/04 , C11D3/10 , C11D3/08 , C11D3/33 , C11D3/20 , C11D3/60 , C11D11/00 , C07F9/572 , C08G65/335
Abstract: 本发明公开了一种无腐蚀性的LiF清洗剂，该清洗剂是由无机碱、螯合剂、有机助剂、表面活性剂及高纯水组成。本发明通过特定的乙二醇基曼尼希碱表面活性剂与无机强碱混配，能提高对锂盐的溶解度，有效解决现有OLED掩膜版及坩埚清洗效率低、对锂盐溶解性差及易造成腐蚀等问题，且其易清洗无残留，具有良好应用前景。
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公开(公告)号：CN115678658A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211369189.2
申请日：2022-11-03
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C10M173/02 , C10N30/06
Abstract: 本发明公开了一种高沉降性能的玻璃切削液，属于玻璃加工技术领域。所述玻璃切削液组分及其重量百分比为：极压添加剂5‑20%、润滑剂10‑20%、防锈剂5‑10%、改性阳离子沉降剂5‑15%、多元醇5‑20%、杀菌剂1‑5%、去离子水40‑70%。本发明高沉降性能的玻璃切削液通过合成制备的改性阳离子沉降剂，快速沉降玻璃粉末、固体微粒、金属离子，絮状沉降物，不悬浮，不结块，减少对光学玻璃表面的划伤，润滑性优良，无毒且不伤皮肤，绿色环保。
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公开(公告)号：CN115074743A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210759071.4
申请日：2022-06-30
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
Abstract: 本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于OLED领域的化学品制剂，用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF的清洗。包括0.5‑5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂，0.5‑2%的高效渗透剂，5‑20%无机强碱性物质，0.5‑20%有机助剂，0.1‑5%螯合剂，余量为高纯水。本发明通过乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂与无机强碱混配，可以快速去除蒸镀工艺中掩膜版表面附着的阴极材料LiF，提高锂盐的溶解度，解决市面上产品存在的对掩膜版腐蚀的问题，易清洗无残留。
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公开(公告)号：CN114806726A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210603446.8
申请日：2022-05-31
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: C11D1/14 , C11D3/04 , C11D3/20 , C11D3/28 , C11D3/34 , C11D3/43 , C11D3/60 , C11D11/00 , H01L21/02 , H01L33/00
Abstract: 本发明公开了一种用于LED制程的去蜡液，属于湿电子化学品领域，主要应用于半导体晶圆制造中。该去蜡液通过特定的阴离子表面活性剂、有机溶剂、助溶剂、潜溶剂的优化组合，极大的降低体系表面张力，具有突出的渗透与分散性能，同时具有较强的耐温能力，成本低、去蜡效率高，在较低工作温度下也可以去满足工艺要求，对键合蜡的溶解性高，使用寿命长，材料组成对环境友好，能够满足LED制程的工艺要求。
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公开(公告)号：CN109634071B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201910061476.9
申请日：2019-01-23
Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于显示面板和半导体领域的水基型光刻胶剥离液，包括25%‑40%的高沸点醇醚类水溶性有机溶剂，15%‑35%的酰胺类有机溶剂，5%‑15%的醇胺类化合物，2%‑8%的gemini型烷基糖苷类表面活性剂，0.1%‑5%缓蚀剂，10%‑40%的水。该水基型光刻胶剥离液组合物能有效提高剥离液的剥离速度和持久性，操作窗口大，同时能大大降低对基底和Cu金属的腐蚀作用；同时该表面活性剂具有很强的润湿、渗透性能，能有效提高剥离液的剥离性能，同时该表面活性剂存在一定的抗腐蚀性，与缓蚀剂形成能较好的协同作用，防止基底和Cu金属布线腐蚀的产生。
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