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公开(公告)号：CN102234247B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110101273.1
申请日：2011-04-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D209/86 , C08F2/48 , G03F7/027 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及一种新化合物、放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的在于提供：一种化合物，其在作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线敏感度，且在放射线敏感性组合物中的溶解性和所得固化膜的透明性优异；以及一种放射线敏感性化合物，其能获得具有高透明性和表面硬度的固化膜。本发明为下式(1)表示的化合物。在下式(1)中，R4为脂环式烃基，其氢原子的一部分或全部被碳原子数为1～12的烷基取代。此外，本发明为含有作为[A]光聚合引发剂的上述化合物和[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物的放射线敏感性组合物。上述放射线敏感性组合物优选还含有[C]碱可溶性树脂。
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公开(公告)号：CN101266407B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN200810083587.1
申请日：2008-03-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/028 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供用于形成滤色器着色层的放射线敏感性组合物，所述放射线敏感性组合物可以抑制因放射线敏感性聚合引发剂的升华导致的烧成炉、光掩膜等的污染，且不产生液体中杂质，而且显影性、图案形状等也优异。用于形成着色层的放射线敏感性组合物，其特征在于，含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体以及(D)以下述通式(1)表示的化合物作为必须成分的放射线敏感性聚合引发剂。[化学式1]
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公开(公告)号：CN102482240B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201080038065.5
申请日：2010-07-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D295/10 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC classification number: C07D295/10 , G03F7/031
Abstract: 一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团。(式(1’)中，R1和R2各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数)。
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公开(公告)号：CN103571499A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310252869.0
申请日：2013-06-24
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供了一种液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示元件，所述液晶配向剂可形成具有优异的耐光性的液晶显示元件、且涂布性及重新加T性高。所述液晶配向剂包括[A]由下述式(1)所表示的化合物、及[B]聚合物。式(1)中，R1为氢原子、碳数6～20的一价的芳香族烃基、碳数4～20的一价的杂环基、或这些芳香族烃基及杂环基所具有的氢原子的一部分或全部由取代基取代而成的基。R2为碳数1～12的烷基或碳数1～12的烷氧基。R3及R4为氢原子、卤素原子或碳数1～20的烷基。[B]聚合物优选选自由聚酰胺酸、聚酰亚胺及聚硅氧烷所组成的群组中的至少1种，更优选选自由聚酰胺酸及聚酰亚胺所组成的群组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN103116232A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201210396772.2
申请日：2012-10-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1343 , G02F1/1337 , G02F1/1333 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种阵列基板和该阵列基板的制造方法，所述阵列基板包含可有效地实现像素的高数值孔径化且难以产生剥离的绝缘膜。而且，提供一种亮度高、且具有高的可靠性的液晶显示元件。使用感放射线性树脂组成物在形成有开关有源元件8的基板4上形成绝缘膜12而制造阵列基板1，所述感放射线性树脂组成物含有：包含具有羧基的结构单元与具有聚合性基的结构单元的聚合物、二叠氮醌化合物或聚合性化合物及聚合引发剂，热产酸剂，以及作为硬化促进剂的式(1)或式(2)的化合物。使用阵列基板1而构成液晶显示元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101546119B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200910127064.7
申请日：2009-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明涉及一种感射线性树脂组合物、分隔物及其制备方法以及液晶显示元件。提供在分隔物形成时产生的挥发性成分的量非常少、并且对于基于缝模涂敷法的高速涂敷也能够应付的感射线性树脂组合物。上述感射线性树脂组合物包括：[A]具有由羧基和羧酸酐基构成的群组中选出的至少一种基团以及来源于以季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)为代表的特定多元硫醇化合物的基团，并且由凝胶渗透色谱测得的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)与聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)为1.0～2.8的聚合物；[B]聚合性不饱和化合物；以及[C]感射线性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN102870045A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201180021053.6
申请日：2011-03-22
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 一户大吾
IPC: G03F7/004 , C08F220/28 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/40
Abstract: 本发明为喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物，其含有：[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元的聚合物，[B]由肟磺酸酯化合物及鎓盐化合物所组成的群中选出的至少一种化合物，及[C]有机溶剂，其中，固体成分浓度为10质量%以上30质量%以下，在25℃的粘度为2.0MPa·s以上12MPa·s以下，而且作为[C]有机溶剂，至少含有(C1)在20℃的蒸气压为0.1mmHg以上且低于1mmHg的有机溶剂。
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公开(公告)号：CN102482240A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038065.5
申请日：2010-07-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D295/10 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC classification number: C07D295/10 , G03F7/031
Abstract: 一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团。，式(1’)中，R1和R2各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数。
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公开(公告)号：CN102221782A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110094234.3
申请日：2011-04-12
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 一户大吾
Abstract: 本发明提供一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法，该正型放射线敏感性组合物在高水平的保持放射线敏感性组合物的放射线敏感度的同时，抑制自由基或过氧化物的发生，由此可形成下述层间绝缘膜等，该层间绝缘膜具有优异的耐光性以及耐热性，而且抑制透光率、耐热透明性以及电压保持率的降低。本发明的正型放射线敏感性组合物包括：[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；[B]光酸产生剂；以及[C]从含受阻酚结构的化合物、含受阻胺结构的化合物、含亚磷酸烷基酯结构的化合物以及含硫醚结构的化合物构成的群组中选出的一种或两种以上化合物。
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公开(公告)号：CN102156387A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010610519.3
申请日：2010-12-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。
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